使用范围介绍: 化学发光成像系统适用于化学发光、多色荧光检测与普通凝胶检测，选用了高分辨率低照度进口制冷CCD，并完美结合大光圈电动镜头，可捕获到极微弱的荧光和化学发光信号。化学发光成像系统JP-K600深度制冷的CCD，较大程度的消除了背景噪声，超大光圈镜头，收集微弱信号。化学发光成像系统JP-600可选的多种荧光光源以及多位电动滤光片轮，满足核酸成像、ECL成像等多种实验需求。 主要应用范围： 核酸检测：各种荧光染料，如Ethidium bromide,SYBRTMGold, SYBRTMGreen, SYBRTMSafe, GelStarTM, Fluorescein, Texas Red标记的DNA/RNA检测。 蛋白检测：考马斯亮蓝胶，银染胶，以及荧光染料如SyproTMRed, SyproTMOrange,Pro-Q Diamond, Deep Purple 标记胶/膜/芯片等。 印迹膜：Western Lightning、ECL、ECLplus、CDP Star、SuperSignal、CSPD、LumiGlo、Cy2、Cy3、Cy5、FITC、AlexaDyes、DyLight dyes、ProQDiamond、ProQ Emerald 300、ProQEmerald 488、IR Dye 680 等。 JP-K600化学发光成像系统产品介绍: 集凝胶成像、化学发光和生物发光成像一体的全自动多功能成像系统； 用于凝胶和膜中蛋白质与DNA样品的数字图像的检测和分析；； JP-K600化学发光成像系统产品特色： 采用最新一代冷却CCD相机，605万像素（可选配890万像素）； 配备F/0.95大光圈定焦镜头，（可选配F/0.8镜头）具有超高的检测灵敏度。 超光密闭的暗箱设计为化学发光和生物发光成像提供了最适和的环境   防散射样品台使光散射产生的影响降低到最小  暗箱配有顶置白光光源，具有顶部白光灯 标配抽屉式双位载物对焦平台，可兼容拍摄各种厚度的样品，自动对焦升降平台 可选配电脑控制自动定位样品载物升降平台，并可通过电脑进行无级定位控制 用户可自行设定定时自动关闭光源时间（0-60分钟）   JP-K600化学发光成像系统技术参数： CCD芯片 Sony ICX695，4/3英寸，2750×2200  (605万像素)    动态范围 4.8OD.16bit灰阶（0-65535） 像数尺寸 5.4um×5.4um 像素合并 1×1，2×2，3×3,4×4 ,6×6,8×8 CCD温度 -45℃"绝对温度，相对于温室-65℃ 感光效率 High QE: >75% 镜头 F/0.95定焦镜头 顶置白光光源 极高的均匀性对低亮度的图像进行增强 灵敏度 最低可检测0.01ngEB染色体DNA 暗电流 ＜0.0005e-/pixelc. 激发光源 300nm透射UV  254、365nm反射UV 透射台 超亮紫外透射台，面积200×250mm 滤光片轮 5位滤光片轮.自动控制.标配F590干涉滤色镜

性能极佳T系列工程投影机，30000流明体积最小，专业级激光高亮工程投影机。

（专利号：ZL 201310397776.7） 简介：本发明公开了一种制备MoO3@mSiO2微球的方法，属于纳米材料制备技术领域。该制备方法利用十六烷基三甲基磷钼酸铵为核，采用溶胶凝胶法包覆一层SiO2，然后煅烧得到核壳中空结构的MoO3@mSiO2微球。该MoO3@mSiO2微球分散性好，粒径200～900nm，具有核壳中空结构，核是MoO3，壳是多孔SiO2。该微球对催化乙酸和丁醇合成乙酸丁酯的酯化反应具有很好的催化效果，其在反应温

（专利号：ZL 201310428729.4） 简介：本发明公开了一种制备WO3@mSiO2微球及其制备方法和应用，属于纳米材料制备技术领域。该制备方法利用十六烷基三甲基磷钨酸铵为核，采用溶胶凝胶法包覆一层SiO2，然后煅烧得到核壳中空结构的WO3@mSiO2微球。该WO3@mSiO2微球分散性好，粒径500～600nm，具有核壳中空结构，核是WO3，壳是多孔SiO2。该微球对以油酸和甲醇为原料合成油酸甲酯（生物柴油）的酯化反应具有很好的

所属领域：新能源与节能环保成果介绍：这是一种钠离子导体的固体电解质，是一种导电陶瓷材料，可应用于钠硫电池、Zebra电池等领域。创新要点：该技术提供一种在于添加过渡金属原子

公开了一种化合物2‑羟基‑3‑氟‑5‑硝基‑1‑苯基丁酮及其制备方法和农用生物活性。在反应器内加入硝酸、乙酐及甲醇，搅拌一段时间后将反应液降温至0到20℃，加入2‑羟基‑3‑氟‑1‑苯基丁酮，反应一段时间向反应混合物加入水，再加入乙酸乙酯萃取多次，从有机相获得目标化合物。该化合物对苹果腐烂、白菜灰霉、柑橘炭疽、棉花枯萎、小麦全蚀等植物病原菌具有较高的抑制作用。

研发阶段/n本发明提供了一种铝合金表面反应喷涂Ａｌ2Ｏ3／Ａｌ－Ｓｉ复合涂层及其制法，采用热喷涂方法，在铝合金表面反应合成Ａｌ2Ｏ3／Ａｌ－Ｓｉ复合涂层，热喷涂粉末组成的质量百分比为：６０％～９５％共晶成分的Ａｌ－Ｓｉ合金粉末、５％～４０％ＳｉＯ2粉末，各组分之和为１００％；粉末粒度５～２０μｍ。涂层经过激光或等离子重熔后，使涂层中熔化的金属原子和基体表面的金属原子具有足够的能量冲破界面上的Ａｌ2Ｏ3薄膜层，原子之间发生剧烈的混合作用，生成一个冶金结合区，形成冶金结合界面。获得的Ａｌ2Ｏ3／Ａｌ－Ｓ

课题组依据共价键、静电吸引力、范德华力三种不同作用力类型，构筑了三类TiO 2

该技术提供一种在于添加过渡金属原子的制备工艺，由于过渡金属原子的原料丰富，且比目前众多研究者所添加的金属离子（如Ti4+、Zr4+等）价格更加低廉，有利于降低制备成本。此外，本技术的制备步骤简单，采用固相法制备，适用于大批量生产。同时，在保证beta-Al2O3电解质的电导率的时候又提高它的致密度和机械强度。 技术指标：抗弯强度超高250MPa,电导率超高0.1S/cm

适用范围：     可用于农业、林业、环保、地质、化工、食品等部门以及高等院校、科研部门对植株、种子、饲料、食品、土壤、矿石等消化     仪器特点：*温度可控，样品还原性好。*加热体（模块）采用红外加热，石英管辐射，耐强酸强碱、防爆裂，寿命长，符合CE标准*炉孔温度和升温速率连可调，升温速度快且杜绝挂壁 *消化管受热面积大、温差小，样品消化一致性好，热效率高 *仪器具有过压、过流、过热等多重保护，实验操作安全可靠*采用双开关，电源和加热单独控制，便于安全参数设置，节约能源。*采用新一代数显控温仪，PID智能控制技术，控温精度高。 *仪器有不锈钢排污系统，使消化管内逸出的SO2等有害气体，通过排污管经抽吸泵从水中排入下水道，有效地抑制有害气体的外逸，消化管，消化架，冷却架。 *整机采用放腐蚀处理，避免实验过程中酸性液体对机器的腐蚀； *可选配：样品防爆器          液晶触摸屏（可存储实验方案5000组）          SF-100废气中和系统   技术参数：   型号 SKD-08S2 SKD-20S2 SKD-18S2 SKD-48S2 不锈钢排废系统 有 有 排废小漏斗 排废小漏斗 控制方式 数控（定时+64阶程序升温） 加热方式 红外加热，石英辐射 炉孔数量 8孔 20孔 18孔 48孔 控温范围 室温-680℃ 室温-680℃ 室温-680℃ 室温-680℃ 升温速度 10分钟（400℃） 20分钟（400℃） 15分钟（400℃） 25分钟（400℃） 双保温层 硅酸铝和空气双层保温 温度波动 ±1℃ 电压 AC220V 功率 1600W 1950W 1600W 1950W 消化管尺寸 42mm*300mm 42mm*300mm 25mm*300mm 25mm*300mm 选配   液晶触摸屏（可存储实验方案5000组）     液晶触摸屏（可存储实验方案5000组）