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连铸坯
热
送
热
装热过程数学及其控制技术
连铸坯热送热装工艺是近十几年来迅速发展并日臻成熟的实用技术,它是连铸生产工艺中的一项重要革新,是钢铁联合企业节能降耗、提高产量和质量的重大措施。连铸和热轧间的联结工艺可分为连铸坯热装工艺(HCR)、连铸坯直接热装工艺(DHCR)、 连铸坯直接轧制工艺(DR)和传统的冷装工艺(CR)。一般所说的热装工艺包括HCR和DHCR,两者的区别在于HCR工艺,板坯的连铸序号与装炉序号不一定相同,连铸和热轧可以各自相对独立地编制生产计划,为此,在连铸机和加热炉之间常设置保温坑,以缓冲相互的影响;DHCR工艺则要求连铸序号和装炉序号是相同的。所以,DHCR与DR一样,连铸和热轧必须一体化生产。DHCR和DR工艺的区别在于采用DHCR工艺时板坯需经过加热炉加热后轧制,而采用DR工艺时则不经加热炉加热就直接轧制。 实施连铸坯热送热装的关键技术环节是了解和掌握连铸坯的热状态参数,只有掌握了连铸坯的热状态参数才能实现加热炉的优化控制,从而实现节能、降耗、提高产量和改善加热质量的预期目标。 掌握连铸坯热状态参数的方法有两种,即现场实测和理论计算。一般而言,一个物理过程的技术资料可以通过实测获得,但是,在许多情况下实测相当困难,甚至是不可能的。因此,仅仅依靠实测很难获得完整的技术数据。本项研究在详细分析了连铸坯热送热装热过程工艺特点的基础上,建立全部过程数学模型,在验证模型正确可信的基础上,可以获得全部热过程所需要的热状态参数,从而为加热炉的优化加热提供坚实的理论基础。 该项目可以应用于钢铁联合企业,特别适合连铸板坯和方坯系统的热送热装工艺系统。
北京科技大学
2021-04-13
微波等离子体化学气相
沉积
金刚石装备及产品
微波等离子体化学气相沉积法合成金刚石技术是代表化学气相沉积(CVD)合成金刚石技术国际先进水平和发展方向的高新技术,本技术的主要成果包括以下几方面内容: 高效能微波等离子体化学气相沉积金刚石装备的设计与制造; 钯管提纯氢气装置设计与制造; 微波等离子化学气相沉积(CVD)合成金刚石技术及产品; 金刚石后续加工技术及应用。
太原理工大学
2021-05-05
电化学
沉积
制备单原子催化剂的普适性方法
近日,中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家研究中心和化学物理系曾杰教授、周仕明副教授研究团队发展出了一套利用电化学沉积制备单原子催化剂的普适性方法,利用该方法研究人员成功制备出了34种单原子催化剂,覆盖了多种过渡金属和多种衬底。相关成果发表在《自然·通讯》上。发展对衬底和金属无选择性的普适性单原子合成方法具有重要意义。研究人员在电化学三电极体系下进行电化学沉积,并通过阴极沉积和阳极沉积获得了两种Ir1/Co(OH)2单原子催化剂。此外,研究人员又探究了沉积条件(前驱体浓度、沉积圈数和沉积速率)对单原子形成的影响,发现当金属的负载量低于某一限度时,可以获得单原子;高于这一限度时则有金属团簇或颗粒形成,这一变化类似于液相中晶体生长中的成核过程(图1)。电化学沉积制备单原子的机理研究。(a)阴极沉积示意图;(b)阳极沉积示意图;(c)在阴极沉积中,前驱体浓度、沉积量和单原子形成的关系;(d)在阳极沉积中,前驱体浓度、沉积量和单原子形成的关系。为了证明该方法的普适性,研究人员又在氢氧化钴、硫化钼、氧化锰、氮掺杂的碳等衬底上成功获得覆盖3d、4d、5d金属的单原子催化剂,并且对所制备的单原子催化剂的结构表征后发现,阴极和阳极沉积获得的同一单原子催化剂具有不同的电子结构,这为其在不同催化反应中的应用提供了可能。研究人员还对所得单原子催化剂在电催化水分解反应中的性能进行了探究。实验结果表明,阴极沉积所得的一些催化剂在电催化析氢反应中表现出了优异的性能,同时,阳极沉积所得的一些催化剂在电催化析氧反应中也表现出了良好的性能。该制备单原子催化剂的普适性方法不仅为单原子催化领域注入了新的活力,而且为今后系统性研究催化剂结构和性能之间的关系提供了新的思路。论文链接:https://www.nature.com/articles/s41467-020-14917-6.pdf详细阅读:http://news.ustc.edu.cn/2020/0313/c15884a414545/page.htm
中国科学技术大学
2021-04-10
一种用于制作原子层
沉积
膜的可拆卸喷头及装置
本发明公开了一种用于制作原子层沉积膜的可拆卸喷头及装置。用于制作原子层沉积膜的喷头,包括进气管路、进气口和出气口;所述进气口内部为空腔;所述出气口内部形成空腔,分为上半部分和下半部分,其上半部分与下半部分之间设有漏斗形结构;进气管路与进气口固定连接,进气口与出气口可拆卸密闭连接。用于制作原子层沉积膜的装置,包括所述喷头、腔体支撑架、基片承载台和运动平台,腔体支撑架中间形成长条状镂空,可顺序设置多个可拆卸喷头,基片承载台设置在墙体支撑架下方,运动平台带动基片承载台。本发明能适应不同的原子层沉积反应,通
华中科技大学
2021-04-14
混合自组装分子层修饰的基底表面
沉积
纳米金颗粒的方法
本发明公开了一种混合自组装分子层修饰的基底表面沉积纳米 金颗粒的方法,该方法包括:将将氧化物或无机基底的表面进行洁净 处理,去除硅表面的油脂、油污等有机物、无机物和氧化层,使基底 表面羟基化;随后采用分步法,在预处理过的硅基底浸入含有有机硅 烷自组装分子的溶液中,进行硅表面分子自组装修饰,得到不同的有 机链混合生长的自组装单分子层;最后在已生长有混合自组装单分子 层的基底表面采用柠檬酸盐法沉积金纳米颗粒。按照本发明使用的基 底清洗方法和改性方法可通过自组装分子的生长时间来实现对金纳米 颗粒均匀分布的
华中科技大学
2021-04-14
一种基于熔融
沉积
成型技术的3D打印机
本实用新型公开了一种基于熔融沉积成型技术的3D打印机,属于3D打印技术领域,可简化打印机喷嘴结构、提高打印效率以及打印稳定性。所述的基于熔融沉积成型技术的3D打印机,包括打印机喷嘴和设置于打印机喷嘴下方的打印平台,还包括平台移动机构,所述打印机喷嘴固定设置,所述打印平台安装在所述平台移动机构上,所述平台移动机构可使所述打印平台分别沿X方向、Y方向和Z方向往复移动,其中X方向、Y方向和Z方向分别为三维笛卡尔坐标系中三个坐标轴所对应方向。本实用新型实现了仅由打印平台的三维复合移动即可实现3D打印过程所需的相对移动,可有效解决在打印时挤出物料不稳定的问题,进而提高打印质量和打印速率。
四川大学
2017-12-28
太阳能
薄膜
电池一种关键技术:磁控溅射制备微晶硅
薄膜
目前在工业上广泛采用的CVD技术制备硅膜,工艺和设备复杂,成本高,且在安全和环保环节上投入巨大。我们在国内首创出了微晶硅薄膜的PVD法沉积工艺,在温度低于300度的条件下,在单晶硅片和普通玻璃片上制备出不同结晶度的微晶硅薄膜和纳米结构硅薄膜,可以得到具有高度<111>方向取向生长的微晶硅薄膜,并实现了控制工艺的稳定性和可重复性。利用磁控溅射技术成功实现微晶硅薄膜的制备是一项重大突破,从根本上克服了现有技术的缺点,具有绿色、高效、简单等优点。目前需要合作伙伴,把该实验室技术放大到工业规模。
大连理工大学
2021-04-14
钨酸锆
薄膜
的制备方法
钨酸锆薄膜的制备方法,它属于薄膜制备领域.本发明解决了现有钨酸锆薄膜制备方法存在的操作复杂,成本高的问题.本发明的方法如下:一,硝酸氧锆和溶剂混合得到A溶液;二,络合剂,溶剂和偏钨酸铵混合得到B溶液;三,将A和B混合,配制溶胶;四,通过旋涂制备湿膜,再将湿膜预烧;五,制备钨酸锆非晶薄膜;六,钨酸锆非晶薄膜晶化后即得钨酸锆薄膜.本发明的制备工艺简单,成本低,制备得到的薄膜表面平整致密,厚度均匀,晶粒大小均匀.
哈尔滨师范大学
2021-05-04
制备结晶氮化碳
薄膜
的装置
1.项目简介:本设计了一种制备结晶氮化碳薄膜的装置,设有脉冲电弧放电的机构及电路,该电路由高压和电弧产生电路组成;该机构包括基板和与之相连的电加热器,设有半密封箱体,基板、电加热器和电极位于半密封箱体腔内,基板位于电极的下方或四周,设有2条带有控制阀的管道,分别通氮气和溶液,其下端深入半密封箱体腔内,通溶液的管道下端出口处于电极的上方。该装置能高效率、高质量地制备出结晶氮化碳薄膜,能方便地将结晶氮化碳薄膜涂层制备到管径较小的管道内壁,从而有利于结晶氮化碳薄膜的推广应用。项目已获实用国家新型专利权。2.技术特点:该发明解决了氮化碳薄膜低温常压沉积的困难,而且提供了能高效率、高质量地制备结晶氮化碳薄膜的方法及装置。与其它方法相比,该发明的显著特点是:在常压下合成的产品主要为结晶氮化碳薄膜;沉积速率快,在大气环境下产生稠密的含碳、氮等离子体,从而提高了生产效率,利于推广结晶氮化碳薄膜的应用。
武汉工程大学
2021-04-11
钼酸盐功能
薄膜
及其制备方法
一种钼酸盐功能薄膜,以导电或不导电的、晶态或非晶态的材料为衬底,晶粒度范围10~500NM,厚度100~3000NM。制备钼酸盐功能薄膜的工艺步骤为:(1)配制含MO离子络合物的溶液,以钼酸铵或/和钼酸为溶质,以丙二醇或丙三醇或丙二醇、丙三醇与丙二醇甲醚、冰乙酸的混合液为溶剂;(2)配制含金属离子络合物的溶液,以碱金属及碱土金属的碳酸盐或/和过渡金属及稀有金属的硝酸盐为溶质,以丙二醇或丙三醇或丙二醇、丙三醇与丙二醇甲醚、冰乙酸的混合液为溶剂;(3)制备钼酸盐前驱物溶液,将上述含MO离子络合物溶液和含金属离子络合物溶液充分搅拌混合,然后至少静置40分钟;(4)采用旋涂技术成膜和干燥。
四川大学
2021-04-11
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