MS-246小型多靶磁控溅射镀膜机
真空腔室：1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，上开盖和前开门结构；
真空系统：机械泵+分子泵（进口和国产可选）；
极限真空：优于8✕10-5Pa（设备空载抽真空24h）；
真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min；
升降基片台：尺寸直径100mm，高度60～120mm可调，旋转0～20r/min可调，可加热至300℃（可选水冷功能），可选配偏压清洗功能；
磁控靶：直径2英寸2只（可升级成3只），兼容直流和射频，可以溅射磁性材料的靶材；
溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选；
质量流量计：10sccm、50sccm质量流量控制器各1套；
膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪；
控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空；
整机尺寸：L60cm✕W60cm✕H96cm机电一体化机架，预留1个CF35法兰接口。
