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【政府采购意向】真空蒸镀/溅射薄膜沉积系统

2022-12-06 16:55:06
云上高博会 https://heec.cahe.edu.cn
招标单位:
浙江大学
招标年份:
2022 年
所属地区:
浙江省杭州市
招标类型:
产品招标
采购方式:
公开招标
项目概况:

采购品目:A02100499 其他分析仪器

预计采购时间:2022-11

项目基本情况:
项目名称:【政府采购意向】真空蒸镀/溅射薄膜沉积系统
预算金额:180 万元
采购需求:

蒸镀系统 *样品架夹具可以容纳1个120 mm x 120 mm的基片。可兼容32片以上15 mm x 15 mm的基片。*基片托下方有固定的掩膜板(根据客户要求制作),尺寸公差±0.05mm。*共有8个有机蒸发源,8个蒸发源的位置按照R-D-matin-ME系列舟蒸发源设计。 *靠近基片盘附件有温度检测,实时检测蒸镀过程中基片附件的温度。*采用InficonSQC-310C膜厚仪,膜厚精度误差在正负0.1A/S,可显示2个膜厚探头的读数。 @可蒸金属:以Ag为标准,有机物:以NPB或Alq3为标准: 蒸镀速率0.1-10A/s稳定可控,蒸镀速率波动≤±0.1A/S。 @基片厚度均匀性:±5%,测试方法:多点测量:(最大值-最小值)/(最大值+最小值),单片尺寸:不大于120 mm x 120 mm。*极限真空度:系统洁净、空置时低于2.5×10-5 Pa;从常压到5×10-4pa不超过15min(充氮 气保护,从手套箱内操作)。*带有旁抽系统,可以在不关闭分子泵的条件下,进行样品及材料的更换。 溅射系统:腔体极限真空小于等于4*10-5pa,从常压到5.0*10-4pa小于15min(手套箱氮气环境),*溅射靶采用水冷,以防止溅射过程中温度过高导致磁铁消磁,*溅射靶可安装靶材大小: 2.5英寸,厚度2-5mm;*溅射靶安装在真空腔体底部,共焦于基片盘,对基片盘共焦溅射;*溅射靶的溅射角度可调,10-30度。*溅射均匀性:优于±5%,*真空系统采用超高真空插板阀+蝶阀+分子泵+机械泵+旁抽系统组成;*分子泵电源含有过流,过压,过热等报警保护; *600W射频电源1套,13.56MHZ,自动匹配。500W直流电源1套,可实现2只靶同时共溅射功能。提供安装、培训、调试、验收、质保期保障等全套服务

提交投标文件截止时间、开标时间和地点:
截止时间:2022-11-30 00:00
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