反应离子刻蚀机 招标项目的潜在投标人应在无接触报名 获取招标文件,并于2022年08月09日 10点30分(北京时间)前递交投标文件。
序号/ No. |
货物名称 |
Name of the goods |
数量/Quantity |
简要技术规格 /Main Technical Data |
1 |
反应离子刻蚀机 |
Reactive ion etching machine |
1 |
★1极限真空度:£3×10-4 Pa(12小时内)。2、 对于SiO2的刻蚀速率:≥30 nm/min。★3、RIE模式刻蚀的片内均匀性:8英寸范围≤±5%(去边7mm)。★4、 RIE模式片间均匀性:≤±3%。★5、 RIE模式刻蚀选择比:光刻胶>3:1,硅>8:1。6、 RIE模式刻蚀侧壁倾角:>85o。 |
1.满足《中华人民共和国政府采购法》第二十二条规定;
2.落实政府采购政策需满足的资格要求:
/
3.本项目的特定资格要求:(1)投标人应为符合《中华人民共和国招标投标法》规定的独立法人或其他组织;(2)投标人是专业生产本次所需设备的制造商,或由制造商指定一个代理商作为本次投标的唯一授权代理;(3)投标人提供的投标机型应是原产地的全新产品。(4)投标人须在投标截止期之前在国家商务部指定的为机电产品国际招标投标活动提供公共服务和行政监督的网上平台(以下简称招标网,网址为:http://www.chinabidding.com)上完成有效注册; (5)本项目不接受任何形式的分包和转包。
1、报名如有疑问可发送邮件至261910191@qq.com;
2、投标人在投标前应在必联网(https://www.ebnew.com)或机电产品招标投标电子交易平台(https://www.chinabidding.com)完成注册及信息核验。评标结果将在必联网和中国国际招标网公示。本公告在中国政府采购网(http://www.ccgp.gov.cn/)上同步发布。
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