14 纳米CMOS 量产工艺中光源掩模协同优化技术

2021-01-12 00:00:00

云上高博会 https://heec.cahe.edu.cn

关键词： CMOS

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所属领域:

新一代信息技术

项目成果/简介:

已有样品/n微电子所先导中心韦亚一研究员团队与中芯国际研究团队围绕14 纳米CMOS 量

产工艺中光源掩模协同优化技术开展联合攻关并取得显著进展，完成了后段制程中

多层关键层的光源优化工作，包括Metal 1X、Metal 1.25X、Via 1X 等。优化后光

源通过晶圆数据验证评估，较原有光源在各项关键指标上有显著提升，保证了先进

节点中光刻工艺的稳定性。

项目阶段:

产业化应用

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