已有样品/n3D NAND 是革新性的半导体存储技术,通过增加存储叠层而非缩小器件二维尺寸实现存储密度增长,从而拓宽了存储技术的发展空间,但其结构的高度复杂性给工艺制造带来全新的挑战。经过不懈努力,工艺团队攻克了高深宽比刻蚀、高选择比刻蚀、叠层薄膜沉积、存储层形成、金属栅形成以及双曝光金属线等关键技术难点,为实现多层堆叠结构的3D NAND 阵列打下坚实基础。