半导体集成电路生产工艺监测设备

CSM4A系列多功能C-V测试系统，经国家“七五”、“八五”两届重点科技攻关，已在我校研制成功，并被多个半导体集成电路生产厂家和研究所使用。该项目由陈光遂教授主持完成。原电子工业部鉴定认为：该C-V测试系统具备八项测试功能，数据可靠，实用性强，人机界面良好。总体水平已达到九十年代国际先进水平，并有独创性，可以替代进口设备。

主要测试功能有：MOS高频CV，MOS衬底掺杂浓度分布，pn结低掺杂边掺杂浓度分布，少数载流子寿命，界面陷阱密度分布，SiO2层中可动Na+离子密度等测量。该测试系统主要用于，集成电路和半导体器件生产中的外延、氧化、扩散、离子注入、电子束蒸铝及表面钝化等工序的质量检测，为稳定和优化生产工艺、提高成品率提供了有力保证。亦可在科研单位和高等院校中，作为半导体表面和界面的研究工具。本系统不仅适用于硅材料和SiO2介质膜，也适用于非硅材料（如GaAs）及Si3N4介质膜的测试。