【成果简介】针对我国高端装备制造提出的超精密测量重大需求,突破甚多轴高速超精密激光干涉测量技术。其重大价值表现在两方面:一是作为光刻机等高端装备中不可替代的核心单元,直接决定装备极限精度与性能;二是作为国家溯源精度最高的长度计量测试仪器,准确统一全国相关量值,并支撑国际单位制量子化变革等前沿研究。该技术主要用于先进光刻机,其内部通常需嵌入包含20个以上测量轴的高速超精密激光干涉测量仪器,以实时测量米/秒级高速运动的掩模/硅片的相对位置,其测量精度要求已达数纳米,并将进一步突破至亚纳米量级,技术处于国际领先。
【技术指标】较传统激光干涉测量技术,本技术的仪器稳定性、测量分辨力、测量速度等核心指标均提高一个数量级以上,可在m/s级高速测量下,实现0.1nm级测量精度。
【应用前景】成功应用于光刻机领域,有力地推动了我国高端装备研发进程;应用到德国联邦物理技术研究院高精度计量装备中,促进了超精密测量领域的国际合作。
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