“一种化学浴沉积择优取向生长的纳米晶Cu2O薄膜的制备方法”属于半导体领域。现有方法一般对设备要求较高,需要比较复杂的程序,而最终难以控制成本,这会严重影响Cu2O薄膜的应用范围。本发明提供的纳米晶Cu2O薄膜的制备方法,其特征在于包括以下步骤:分别按照硫酸铜与柠檬酸三钠的摩尔浓度比范围为12∶8~12∶36,硫酸铜与抗坏血酸钠的摩尔范围为1∶3~5∶6,将抗坏血酸钠、柠檬酸三钠溶液依次加入硫酸铜溶液中,使充分络合;调节溶液pH值至7.0~10.0;置于50°C~95°C水浴温度中反应1.0h~3.
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