超高分辨率光矢量分析设备采用“微波光子学方法”,首创具有国际领先水平的“超高分辨率光矢量分析技术”,集成了电-光、光-电和光-光3类元器件频谱响应的测量功能,可应用于光纤通信、光纤传感、光信号处理和集成光子学等领域。
技术特征
关键技术与创新点一:基于120度电桥的高抑制比光单边带调制技术和基于光载波抑制与平衡光电探测的非线性误差对消技术。
关键技术与创新点二:光频梳通道化测量技术和基于光希尔伯特变换的镜像边带抑制技术。
关键技术与创新点三:多种测量模式融合与系统软硬件集成技术。
工作波长:1528-1565 nm
最高波长分辨率:50 kHz(即0.4 fm)
幅度分辨率:0.01 dB
幅度精确度:±0.11 dB
相位分辨率:0.01°
相位精确度:±1.2°
对比国际上最高水平商用光矢量分析仪表LUNA OVA5000,设备的分辨率提升了4000倍,动态范围提升了31倍(15dB),相位精确度提升了2.5倍(单通道40GHz范围内),幅度分辨率也提升5倍以上,打破国外技术壁垒,实现进口替代。
设备已应用于包含海思光电子以及4家上市公司在内的数十家单位47种高端光器件的研发和生产(用户包括:华为、长飞光纤601869.SH、中航光电002179.SZ、航天电器002025.SZ、光迅科技002281.SZ等),其中31种高端光器件在本项目设备的支撑下实现了量产;在我国高速光电芯片、新一代光通信系统、工业互联网、智能感知等领域发挥着稳定的作用,有力支撑了我国核心光器件的自主可控和原始创新。
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