高效率制备高品质氮化铝薄膜,并研究应用于 4G、5G 通信(智能手机和基站)的高频滤波器。制备薄膜质量高于现有工艺,制备效率提高十倍以上。作为制备滤波器的关键薄膜性能指标,薄膜的取向性良好(XRD摇摆曲线半高宽2度左右), 薄膜表面起伏小于 1 纳米;薄膜制备效率比传统工艺提高 10 倍以上
目前处于研发向应用转移阶段,已经完成薄膜新工艺的验证,在 8 寸园晶上制备出可用于高频滤波器生产的质量优异的薄膜材料,并证明了器件制备的可行性。
应用于智能手机和基站的高频滤波器,替代进口,希望打入百亿美元的滤波器市场。
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