半导体设备超洁净流控系统及其受制约流控零部件

浙江大学聚焦超洁净流控系统基础研究、技术攻关和产品研发，攻克了影响光刻分辨率、良品率与产率的1mk级温度测控、5ppt级金属离子测控、20μm级气泡测控、50nm级残留液膜测控等关键核心技术

一、项目分类

关键核心技术突破

二、技术分析

如何通过超洁净流控技术降低流控污染，减少曝光缺陷，提升曝光良率，是国产高端半导体制造装备研制面临的重大挑战，直接关乎整机产品的产线应用性能与市场竞争力。此外，作为各类半导体制造装备的共性核心零部件，超洁净流控部件市场被美国、日本等国垄断，使我国半导体制造装备产业面临核心零部件“卡脖子”风险。浙江大学流体动力与机电系统国家重点实验室启尔团队所承担的高端半导体制造装备核心分系统之一的超洁净流控系统，自2004年以来在国家863计划和国家02专项支持，聚焦超洁净流控系统基础研究、技术攻关和产品研发，攻克了影响光刻分辨率、良品率与产率的1mk级温度测控、5ppt级金属离子测控、20μm级气泡测控、50nm级残留液膜测控等关键核心技术，完成了超洁净流控系统九大组件的研制和集成测试，为半导体制造设备扫描速度与产能的提高提供基础理论与方法依据，同时自主研发的半导体机台核心超洁净流控零部件实现了产品化，突破了国外技术的封锁，为我国半导体制造的发展与自主创新提供了基础支撑。

团队已向高端半导体制造整机单位和合作单位提供了多台套超精密超洁净流控系统，满足了用户的各项指标要求。此外，实现了超洁净磁悬浮泵、超洁净波纹管泵、超洁净流量传感器与控制器等流控部件的国产化开发，并成功应用于光刻机、清洗机、刻蚀机等半导体设备。

经过十八年坚持不懈的基础研究、技术攻关和产品研制，付新教授率领的启尔团队已成为国产高端半导体制造装备超洁净流控系统唯一定点的研发团队，同时也是超大规模集成电路制造国产化生态链中不可替代的一环，持续在光刻机高精密超洁净流控系统的流场控制、气泡消融、液渍污染、纳米液膜、力/热控制等方面达到国际先进水平。所研制的流控部件产品为湿法清洗、湿法刻蚀、涂胶显影、化学机械抛光、电镀等半导体装备提供核心零部件支撑，解决上述机台的共性“卡脖子”零部件问题，为半导体装备的国产化研制与产业发展提供重要支撑。