大口径光学元件微纳缺陷检测技术及产业化应用

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该成果建立了基于有限时域差分的环形均匀照明暗场散射微纳尺度缺陷显微成像模型，提出了融合宽场散射成像、荧光显微成像及激光扫描共聚焦成像的多模态成像方法，实现了光学元件微纳表面及亚表面缺陷的高精度成像检测。提出了一种重叠区缺陷信息量的区域生长拼接方法，建立了基于化归思想的自适应“子区域子孔径”扫描模型，攻克了超大口径光学元件微纳缺陷高精度检测中米级超大行程与亚微米级超高精度难以兼顾的技术难题，建立了储存-检测-重构微纳缺陷信息处理范式，实现了海量数据压缩、高准确率高效率缺陷识别处理。

成果授权发明专利46项，美国发明专利2项，实用新型专利36项，发表国内外高水平学术论文55篇。已在浙江大华技术股份有限公司等单位应用。

发明专利 、 软件著作权

可以量产