拟针对复杂光滑表面加工原位测量、半导体材料生长监控、MEMS膜层材料特性等研究领域应用中,动态检测所带来的基准面形变化大、形变动态范围大、检测速度要求高等难题,提供一种光滑表面形变高精度瞬态测量技术。最大可测形变量可达150微米,精度优于1微米,测量速度优于10帧每秒。 本项目研究团队长期从事精密光电测试及成像理论和技术科研工作。在国家自然科学基金等支持下,深入研究了基于部分补偿法和数字莫尔移相干涉的光学面形测试理论和方法,形成了光学面形高精度测量的系统理论,并研发了光学面形高精度测量原理样机,在中国空间技术研究院、中国计量研究院、清华大学深圳研究生院等重要科研单位得到应用,解决相关的技术难题。先后申请国家发明专利18项,已获授权13项,发表学术论文30余篇。
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