具有6.3T矫顽力的钴‑萘环氮氧自由基分子磁体材料及其制备方法,所述分子磁体化学式为[Co(hfac)2(EtONapNIT)]n,式中n为1到正无穷的自然数。其制备方法是将六氟乙酰丙酮钴的正己烷悬浮液回流超过两小时,降温并加入EtONapNIT的二氯甲烷溶液反应,室温挥发几天后得到目标产物。所述分子磁体材料的制备方法简单,反应条件温和,产率高,具有很好的空气稳定性。配合物在零场下展现出慢磁驰豫行为,2K时具有非常大的磁滞回环,矫顽场接近6.3T。这种具有大的矫顽场的分子磁体材料,可有效减少信息存储器件在环境微扰下产生的信息丢失情况,因此在高密度信息存储领域具有非常高的潜在应用价值。