VSM（也叫做M-H磁滞曲线测量系统）测量磁性材料的基本磁性能(如磁化曲线，磁滞回线，退磁曲线，升温曲线、升/降温曲线、降温曲线、温度随时间的变化等)，得到相应的各种磁学参数(如饱和磁化强度，剩余磁化强度，矫顽力，最大磁能积，居里温度，磁导率(包括初始磁导率)等)，可测量粉末、颗粒、片状、块状等磁性材料，VSM可以测量从-196℃到900℃的温度变化的磁性变化。   主要参数： 测量磁矩范围：10-3emu-300emu（灵敏度：5*10-5emu） 相对精度（30emu）：优于±1% 重复性（30emu）：优于±1% 稳定性（30emu）：预热24小时，24小时连续工作优于±1% 温度范围：从-196℃到900℃ 固定磁极间距35mm，极面直径60mm 磁场：由电磁铁提供，从0-3.5T   主要参数： 抗磁，顺磁，铁磁，亚铁磁，反铁磁材料和各向异性材料 颗粒状和连续磁记录材料以及GMR，CMR，交换偏置和旋转阀材料 磁光材料 容易容纳散装材料，粉末，薄膜，单晶和液体     VSM的组成：   型号 DXV-550 电磁铁 √ 稳流电源 √ 振动头，振动架 √ 振动杆，样品室 √ 振动源 √ 锁定放大器 √ 高斯计 √ 探测线圈 √ 电脑 √ 打印机 √ VSM可以单独准备高温和低温设备。     主要设备：   电磁铁 电磁铁应为可调式双共轭或固定间隙的。 45°放置 型号 高低温磁场，磁极间距：35mm（T） 冷水方式 DXV-550 3.4 水冷 DXV-400 3.0 水冷 DXV-380 2.7 水冷 DXV-300 2.4 水冷 DXV-250 2.2 水冷 DXV-220 2.0 水冷 DXV-175 1.6 水冷 DXV-130 1.2 自然冷却 DXV-100 0.8 自然冷却 DXV-60 0.5 自然冷却   稳流源 电源为可调式高稳定度稳压稳流自动转换直流电源，功率为2～30KW 。在稳流状态时，稳流输出电流能在额定范围内连续可调 (一)主要功能 　　(1)输出功率：额定功率从1-12kw。 　　(2)保护：缺相保护、过流保护、短路自动保护。 　　(二)技术指标 　　(1)电源为稳流输出：电流值可从0-额定值连续可调。 　　(2)显示方式： 电流表4位半LCD数字显示。 　　(3)显示精度：±(1%+2个字) 　　(4)当负载为电磁铁，且输出电流大于最大电流一半时，电源输出的电流稳定度优于5*10-4 　　(5)工作时间：连续8小时工作(环境温度20±5℃) 　　(6)输入电压：单相220V/三相380V±10%        (7)输入频率：50Hz   振动系统 包括振动杆、机械振动头支架、样品室及探测线圈   磁测单元 (1)量程分300emu、150emu、80emu、40emu、30emu、15emu、8emu、4emu、3emu、1.5emu、800memu、400memu、300memu、150memu、80memu、40memu、30memu和15memu (2)磁场量程：0.5kOe”、“1kOe”、“2kOe”、“4kOe”、“8kOe”、“16kOe” 和 “32 kOe” 显示在4位半LCD数字表头。.分辩率0.1mT，相对精度优于±1%。 (3)振动源输出频率180Hz,频率稳定度优于10-5，输出功率大于50W。   联想电脑 打印机：hp-1018 高温炉和温度控制设备: 加热功率是100W. 炉子的温度范围是室温到900℃ 通过4位半LED数字控制。分辨率：0.1℃ 低温杜瓦和温度控制装置 样品室的温度与控制范围是 77K-273K 通过4位半LED数字控制，分辨率：0.1K  

本发明公开了一种面扫描三维测量系统精度的实时调整方法。 首先通过判断相机内外部参数是否符合当前工作状态要求来确定面扫 描三维测量系统的精度是否符合要求，如果相机内外部参数符合当前 工作状态要求则继续测量，否则利用 Levenberg-Marquardt 算法对相机 内外部参数进行优化，使目标函数的平均值最小，此时认为相机内外 部参数是最优的；接着判断目标函数的平均值是否小于误差阈值，是 则用优化后的相机内外部参数继续测量，否则提示用户重新进行标定。 本方法能实时、在线地进行精度自检测和相机参数自动优化，在不重 复标定的情况下，能够使得相机的重投影误差平均值保持在 0.0028 像 素左右达 20 天以上。

本发明公开了一种基于 GPU 的物体三维面形测量方法，属于物 体三维测量技术领域。该方法具体为：投影仪投射结构光栅到被测物 体表面，同时使用两个相机连续拍摄被测物体表面得到两组图像序列， 将两组图像序列保存到计算机内存中；GPU 并行地完成图像的畸变校 正、解相、对应点匹配和三维重构；GPU 将三维重构得到的物体三维 坐标点传送给计算机内存；重复执行上述步骤，直到测量结束，释放 GPU 的存储空间。本发明利用 GPU

本项目的3-PRS+UPS并联结构同时解决了摆角范围小，精度、刚性低等并联机构常见的缺点，为研制出大摆角、高精度、高刚性的并联双摆头提供了可能。 五坐标数控机床在航空航天、汽车、发电设备、模具等制制造业中应用广泛。样机已经研制成功，其中整机结构和球铰分别获得发明专利和实用新型专利。

本软件为系列化叶轮专用CAM软件，可完成整体离心叶轮和轴流叶轮的四坐标以及五坐标数控加工编程工作，叶轮几何形状可以是直纹面叶轮或自由曲面叶轮；也可以完成叶片的三坐标数控加工编程。用户只需输入叶轮数据和加工工艺参数，软件即可自动生成特定机床的数控加工代码。    主要功能： 1）曲面造型功能：根据叶轮设计数据，计算机自动生成叶片以及叶轮的几何形状，并显示在计算机屏幕上，可通过鼠标进行平移、旋转和缩放操作。 2）刀具轨迹的生成：在叶轮粗加工中，主要针对立铣刀，采用高效的刀位轨迹排布算法，缩短刀具走刀长度，提高加工效率；精加工阶段，针对常用的球头刀或者切削刃为二次回转曲面的非标准刀具，规划出刀具加工轨迹，非标准刀具尺寸可根据叶轮数据由软件给出。粗加工和精加工的刀具轨迹以图形方式输出。 3）刀具干涉检查与修正：对生成的每一个加工刀位，自动进行干涉检查，并自动修正干涉刀位。对于最终无法修正的刀位，给出刀具与叶片的干涉量，并通过计算机屏幕显示干涉刀位位置，供设计人员重新选择合适的刀具。 4）后置处理：可根据用户不同的数控机床结构，调用相应的后置处理程序，生成符合用户机床要求的数控加工代码。    技术特点： 1）本系列软件既能完成离心叶轮的整体加工编程，又能完成轴流叶轮的加工编程；两种叶轮的叶片可为直纹面也可为自由曲面。 2）粗加工采用高效的刀具轨迹，无走刀浪费。 3）对于自由曲面叶轮，精加工可采用二次回转面刀具，加工效率可大幅度提高； 4）对于直纹面叶轮，采用侧铣法加工，对每一步刀位都采用独特的算法进行了优化，使得加工过切量为最小，提高了加工精度。 5）对于干涉到位，给出了干涉量和干涉位置，便于设计人员选择刀具或修改叶轮的设计数据。 6）对叶片前缘和尾缘进行了修圆，提高了加工质量。    应用范围： 1）鼓风机、压缩机内的离心叶轮； 2）飞机发动机叶轮、军事装备推进器中使用的叶轮； 3）微型叶轮式人工心脏中的叶轮。

本发明公开了一种基于世界坐标实现屏幕窗口自动对齐的方法，所述方法包括：在控制拼接屏的拼接屏控制终端的终端屏幕窗口发生触摸操作时，判断所述触摸操作的操作类型；根据操作类型获取窗口移动操作完毕时终端屏幕窗口在拼接屏上对应的拼接屏窗口在世界坐标中的坐标等参数；获取终端屏幕当前设置网格的水平宽度和竖直高度参数，根据拼接屏窗口的参数和网格参数确定拼接屏窗口的对齐基准参数；根据拼接屏窗口的对齐基准参数确定终端屏幕窗口的对齐基准参数；根据对齐基准参数显示拼接屏窗口和终端屏幕窗口。采用本发明的方法，可以解决现有技术手动对齐窗口存在的操作复杂、容易产生误差而影响显示效果的问题。市场前景广阔。

面结构光三维测量技术是近几年飞速发展的光学三维测量技术，是基于条纹投影的物体三维面形重建技术。它利用物体面形对标准正弦条纹图的相位调制并对图像进行相位解调实现物体三维检测。该系统包括高质量面结构光投影模块、低失真图像采集模块及快速的数据处理算法。该测量系统中，标定准确的相位与空间三维坐标的关系是该三维测量技术至关重要的步骤。由于面结构光三维测量技术具有速度快、非接触、精度高等优点逐步受到人们的重视，它被认为是目前最有前途、最有发展潜力的三维测量技术。 一、主要功能和应用领域 该面结构光三维测量系统结合特定的标定技术，确定各个系统参数，建立相位与空间三维坐标的数学关系，改善系统的精确度及灵和性。该测量系统适用于工业制造、产品检测、模具设计、逆向工程、生物医学、文物保护、机器视觉等领域，具有广阔的应用前景。 二、特色及先进性 1、系统结构任意摆放 该任意摆放面结构光三维测量系统的组成部件在空间位置相对任意，易于在实地测量中使用。它在几何结构、光路等方面没有严格的平行性、垂直性要求，仅需要图像采集系统的视场被投影系统的视场所覆盖。 2、标定技术经济实惠且使用灵活 系统标定的过程中，仅需一种打印的棋盘格作为标定板，相比于制作困难且成本高昂3D标准件，该技术成本低，具有极高的实用性。同时，标定板的位置可以随机、任意放于测量视场中的任何一个空间位置，相比于现行的标定技术，具有极大的灵活性。 3、高分辨率 基于任意摆放面结构光三维测量系统，避免现行测量方法中因系统设置不准而造成的测量误差；考虑镜头引起的畸变现象，对每个像素点标定，降低畸变对测量结果的不良影响；采用最小二乘拟合算法，对多组数据拟合，保证相位与空间三维坐标关系的准确性。 4、测量系统技术指标 物体面形三维测量对测量仪器的分辨率、稳定性有较高要求，且部分算法复杂，所设计的系统采用联机方式。系统主要技术指标：测量范围：200mm×300mm×200mm，且连续可调；横向分辨率：可达0.06mm(主要受相机分辨率的限制，本系统采用AVT-GT1660C相机)；纵向分辨率：可达0.02mm 四、能为产业解决的关键问题和实施后可取得的效果 1、基于任意摆放面结构光三维测量系统，解决传统系统设置难度大、对测量环境稳定要求高的困难。 2、标定技术可适用于任何面结构光三维测量系统，解决了现行标定技术使用范围较窄的问题。 3、该测量系统和标定技术具有高分辨率且经济实用，极大提高面结构光三维测量技术测量精度，拓展了面结构光三维测量技术的应用领域。

该面结构光三维测量系统结合特定的标定技术，确定各个系统参数，建立相位与空间三维坐标的数学关系，改善系统的精确度及灵和性。该测量系统适用于工业制造、产品检测、模具设计、逆向工程、生物医学、文物保护、机器视觉等领域，具有广阔的应用前景。

本发明公开了一种纳米结构三维形貌测量方法及其装置，可以同时测量纳米结构线宽、深度、侧墙角、线缘粗糙度、线宽粗糙度等三维形貌参数的方法及装置。本发明方法步骤如下：将波长为紫外到近红外波段的光束经分光、起偏、前后相位补偿得到的椭圆偏振光投射到待测；采集待测结构表面反射零级衍射信号，计算得到纳米结构测量穆勒矩阵；将测量穆勒矩阵与理论穆勒矩阵进行匹配，提取得到待测纳米尺寸结构的三维形貌参数值。本发明所提供的纳米结构三维形貌参数测量装置，能为基于图形转移的批量制造方法如光刻和纳米压印等工艺中所涉及的一维和二维

产品详细介绍轻便小巧，便于携带，使用方便，操作简单 全中文界面标准软件，使用简单操作方便（可按客户需求定制） 2*2in Nai探测器（可按需求配置不同尺寸的各种探测器） 高性能精确度高，有1024道，2048道，4096道（可定制） 可自行设定报警阀值 准确的核素识别功能 标准核素库，用户可自由添加，删改，选用核素 大容量锂离子电池，充满电可以连续工作20小时 PDA掌上电脑，蓝牙数据通讯。PDA数据可传至电脑进一步分析处理。 手持式便携数字化能谱仪的主要特征： l      外接智能NaI(TI)探测器，内置GM管 l        NaI(TI) 探测器与主机用螺旋电缆连接，探测器伸到测量部位，可就近方便观察测量结果 l        三种工作方式：     a.剂量率测量 一 任何工作方式都兼顾剂量率测量 b.寻找放射源 c.实时核素识别 一 可存无数个核素库文件 l        可指示不同核素的剂量率贡献，可分别设置不同核素的报警阀值 l        核素识别采用了Genie2000软件完备成熟的分析处理核素识别技术。即便存在多种核素（4种以上），或者源放置在存储蓄（屏蔽影响）中，也能正确识别各种核素。同时指示是否存在核素库内没有编辑的未识别核素。 l        可识别核素种类（128种！），可同时识别核素多（同时识别数十种核素！） 高品质、可触摸操作彩色显示屏 一 国内市场独此一款！ l        可选规格NaI(TI) 探测器规格：1.5″×1.5″，2″×2″，3″×3″ l        可配置中子探测器（慢化3H管） l        与计算机采用USB通讯，谱数据、核素库、刻度参数和分析步骤下载和上传 l        大容量：可存储512个1024道的谱 l        更多道数：4096道MCA l        独特的专利稳谱技术一 内置高稳定发光LED，随时实现稳谱。＜±2％＠–20℃～＋50℃ l        可通过USB实现固件升级 l        时间预置：1～106S，（实时间／活时间） l        自动谱采集分析处理   2主要技术指标： l        计量（率）范围：10nSv∕h～100mSv∕h，10nSv-10Sv l        能量范围：50KeV～3MeV-NaI(TI)，30KeV～1.4MeV-GM l        计数通过率：＞50KCPS l        输入计数率：＞500KCPS 售后服务 硬件免费保修三年； 软件终身免费升级 可根据用户需求定制软件、硬件功能