办学性质与环境 湖北经济学院法商学院是经国家教育部批准设立的一所全日制普通本科高等学校。学校成立于2003年3月，座落在风景秀丽的武汉汤逊湖畔，占地面积500余亩，校园环境优美，交通便利，拥有良好的办学条件，教学和生活设施配套齐全，是读书治学的理想场所。 学科专业 学校依托与湖北经济学院毗邻的区位优势，根据社会经济发展需求和湖北经济学院优势资源设置专业，逐步形成了以经济学、管理学为主，法学、文学、艺术学、工学等多学科协调发展的格局。开办本科专业29个、专科专业19个，在校普通本(专)科学生10200余人。开办的会计学(注册会计师)、金融学、市场营销等特色专业受到社会欢迎;《国际金融》《市场营销》《经济法概论》3门课程被评为省级精品课程，《中级财务会计》获批为省级精品资源共享课;市场营销专业入选为湖北省重点培育本科专业首批立项建设项目;会计学、金融学、英语三个专业获批为湖北省本科高校“专业综合改革”试点项目;电子商务专业获批为湖北省普通高等学校战略性新兴(支柱)产业人才培养计划项目;与企业、行业合作举办金融学专业(AFP资格创新班)、市场营销专业(注册市场经理SCMP)以及各类定制班。 师资队伍 学院现有教师531人，其中专任教师484人。专任教师中，副高以上职称教师260人，占比53.7%;具有博士学位教师131人，占比27.1%，具有硕士学位教师261人，占比53.9%;“双师型”教师62人，占比12.8%。 办学特色 社会声誉优良，知名度高：我校在艾瑞深中国校友会网发布的2018年全国独立学院排名中位列第66位，在中国财经类独立学院中位列第7。 专业建设强化，集中度高：学校根据“内涵发展、突出优势、统筹兼顾、寻求突破”的专业建设原则，在重点建设好金融学、会计学、市场营销学、电子商务等优势特色专业的基础上，兼顾其他专业的平衡发展，形成了特色较为鲜明的专业体系。 招生就业稳定，满意度高：近3年，我校新生整体报到率稳居全省32所民办本科院校前两名。毕业生就业率连续五年超过全省同类院校平均水平，其中在金融机构就业率超过30%。我校毕业生对母校满意度和对母校推荐度均在全省32所民办本科院校中排名第一。 校企合作深入，契合度高：学校按照“厚基础、重应用、强能力”的要求培养人才，全面深化产教融合、校企合作、协同育人工作，与招商银行、中信银行、光大银行等合作开办了定制班;与中百仓储合作开办了“中百精英班”;与宜昌人福医药合作开设了“营销精英班”并获该公司捐赠50万元设立“人福奖学金”;以金融学专业(AFP资格创新班)、市场营销专业(SCMP)为试点，推进实施学历教育+职业教育人才培养模式，实行专职教师与行业专家共同授课;与黄冈市政府等开展校政合作，服务地方经济发展。 学生管理细实，精准度高：以学生为中心，着力提升育人质量，聚焦重点、瞄准难点，加强思想引领，采取多种形式和措施，引导学生爱国爱校、积极学习、快乐生活，树立正确的世界观、人生观和价值观。 教学资源完善，共享度高：学校实行与举办高校“资源共享、优势互补、长期依存、共同发展”的发展模式，共享举办高校师资、学科、科研、教学、信息技术、国际教育等教研资源，教室、实验室、运动场馆、图书馆、校园活动场所等教学场馆与设施，医院、食堂、安全保卫等后勤保障设施，共享校园文化资源。 对外合作 学校先后与美国蒙哥马利奥本大学、加拿大百年理工学院、俄克拉荷马基督大学、俄亥俄大学、丹麦科林学院北欧多媒体学院、法国克莱蒙费朗第一大学、澳门科技大学、中国科技大学(台湾)、澳大利亚斯威本科技大学等签署合作协议，为学生出国(出境)深造提供良好机会。其中，与澳大利亚斯威本科技大学合作举办的会计专业和金融管理专业高等专科教育项目纳入国家统一招生计划。学校常年聘请来自美国、英国、澳大利亚等国的外籍教师任教，引进国外优质教学资源，为培养具有国际视野的高素质人才提供良好平台。

湖南工程学院应用技术学院是2002年经教育部批准设立，由湖南工程学院举办的全日制普通本科独立学院，学院座落在一代伟人毛泽东的故乡---湖南省湘潭市，目前在校学生4300多人。 学院校址设湖南工程学院南校区，校园绿树成荫、典雅秀丽、文化深厚。学院办学充分利用湖南工程学院现代化的教育教学、科学研究、文化生活等方面的设施和场地，全面享用湖南工程学院的图书资料、实习基地、国际合作教育、硕士研究生教育等优质的教学资源。湖南工程学院选拔了732名优秀的教师组成了应用技术学院教学、科研、管理团队，其中有高级职称教师328人，省级学科带头人9人 ，省级教学名师3人，省级青年骨干教师、学术骨干62人，省优秀教师9人，博士、硕士生导师40多人，为莘莘学子求学提供了优越的学习环境和条件。 学院秉承“锲而不舍，敢为人先” 的校训，湖南工程学院实施教育部首批“卓越工程师教育培养计划”的成果，坚持实践育人理念, 突出学生的实践能力和创新精神的培养。建院十年为社会培养了8000多名基础扎实、综合素质高、适应性强的高级应用型人才，毕业生受到用人单位的欢迎和社会好评。 学院开办的专业均为湖南工程学院的品牌专业和特色专业。根据我国社会经济发展的需要，学院有电气工程及其自动化、机械设计制造及其自动化、工商管理等18个专业面向全国招生，招生计划纳入全国普通高校招生计划，属国家计划招生。学生修完教学计划所规定的全部课程且成绩合格者，颁发湖南工程学院应用技术学院普通本科毕业证书，符合学士学位授予条件者按照湖南省教育厅湘教通[2008]2号文件的有关规定，颁发湖南工程学应用技术学院学士学位证书。 地址：湖南省湘潭市书院路17号 邮编：411101

本项目属于电子信息中计算机及外部设备领域和微电子集成电路领域的交叉融合。信息系统中，CPU、操作系统、存储是三大核心，其中存储的安全性是信息安全的基础保障。安全可靠、自主可控的存储部件更是我国健康发展飞机、导弹、航天器等战略设施的核心。过去，存储设备一直被国外少数公司垄断，我国的信息安全战略发展受到严重限制。项目组通过校企产学研合作，成功研制出国内首创、国际先进的计算机固态硬盘（SSD）控制器芯片，研制出国内首创、国际先进的嵌入式固态微硬盘（eMMC）控制器芯片，研制出国内首创、国际先进的加密U 盘控制器芯片，设计和生产出全球业界密度最高的固态硬盘，实现了产业化应用，这是我国少有的核心技术进入国际竞争的项目。

研究方向：具有生物活性含磷化合物合成方法研究、糖手性诱导不对 称合成、有机小分子催化剂催化不对称合成、金属-配体络合物催化不对称合成。 项目简介： 烯烃的氢甲酰化反应可以将廉价易得的基本化工原料如烯烃类 物质方便有效地转化为醇等多种重要的化学化工产品，是到目前为止 生产规模最大的均相催化过程。在过去几十年的发展过程中，所用催 化剂的发展经历了几个更新换代的过程，到目前为止，一共开发出了 四类工业催化剂，即羰基钴催化剂、叔膦修饰的羰基钴催化剂、羰基 铑膦催化剂以及目前正在开发的双亚磷酸酯/铑催化剂体系。 

项目1：基于超分子化工和纳米技术，将具有特定光学特性分子引入膨润土层状主体结构中，实现分子尺度的均一复合，得到具有发光效率高、亮度强、寿命长、稳定性好、色度纯正的光学功能纳米材料，并将其添加到高分子树脂中获得新型复合荧光油墨。该系列高性能材料的产业化在光致/电致发光。荧光传感器等领域有重要的应用前景。特别是可以作为新一代稀土替代型荧光防伪材料。防伪商标，防伪标签的使用者，从事各类产品包装及证件的公司和相关政府企业均可作为本项目产品的主要用户。预计 2015年，本产品国内年需求量将达1万吨，国内年消费额达6.5亿元，投资回收期约4.2年。 项目2：基于插层组装原理，将功能性聚合物在膨润土表面及层间进行插层改性，以实现膨润土相关物理化学特性（如亲水亲油性。热稳定性、力学强度等）的精细调控。将该类无机有机复合材料应用于高附加值化工助剂领域，如高分子聚合物（如橡胶、塑料。涤纶等）的增韧材料、阻燃材料、热稳定材料、抗冲击材料等，实现复合材料功能的一体化。

项目在前期取得的各类重点项目研究成果以及光离子催化专利技术的基础上，开发功能强大的净化新 技术和产品，实现PM2.5、有毒致癌类气态污染物、新型臭氧（O3危害不亚于PM2.5）、细菌病毒等复合空气污染物高效去除和深度净化，以改善空气质量和人体健康。与企业联合进行技术、产品推广和应用，服务社会并创造经济价值。

目前半导体光刻加工用的深紫外光刻胶都采用化学增幅体系，这种体系主要由含酸敏基团的成膜材料和光产酸剂组成，这种体系最大的问题是光产酸在后烘阶段会发生酸迁移，导致光刻分辨率难以提高。能够有效改善酸迁移问题的一种方法是采用高分子光产酸剂，且其光产酸是高分子强酸。 课题组研制了一系列新颖的含多种鎓盐光产酸基团的苯乙烯衍生物及其与甲基丙烯酸酯的共聚物。它们在曝光过程中产生大分子的磺酸，因此可作为大分子光产酸剂与其它成膜材料一起组成化学增幅型光致抗蚀剂。 以之为产酸剂与其它部分保护的对羟基苯乙烯聚合物一起组成二组分的化学增幅型248-nm光刻胶， 制备了苯乙烯磺酸鎓盐和甲基丙烯酸酯、对羟基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保护部分酚羟基，由其组成了单组分的化学增幅型248-nm光刻胶，这些正型248-nm光刻胶获得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及图形线条平滑陡直等的出色表现。  利用高分子产酸剂透明性好的特点，还制备了厚膜248-nm光刻胶，可获得线宽0.34微米、高-宽比可达5：1的光刻图形：  在此基础上，还制备了负型248-nm光刻胶，这些光刻胶也都获得了很好的光刻成像性能表现。这些高分子光产酸剂也可用于制备新型的高性能193-nm光刻胶。 这些248-nm光刻胶的主要组分除了溶剂外都是自行制备，原料易得，反应条件温和可控，去金属杂质的方法也是简便易行，成本相对低廉，在经过多年的深入研究之后，完全具备了产业化的条件。 半导体加工的关键设备、材料主要掌握在美、日手中，对我国电子工业的平稳发展带来困难和潜在的巨大威胁。其中光刻胶作为芯片光刻加工的关键材料，日本公司的产品占据全球市场的70%以上，而我国在中高端产品上（248-nm光刻胶、193-nm光刻胶）完全依赖进口，即便是低端的i-线光刻胶国产化率也只有20%左右。因此，我们必须尽快扭转这种不利的局面，这需要科研工作者和产业界共同努力以及政府的大力支持。     近年来光刻胶引起了社会的广泛关注，已有多家企业开始投身于248-nm光刻胶与193-nm光刻胶的研发与产业化，但绝大部分仍处于研发阶段。我们研制的光刻胶具备了产业化的技术条件并具有与国外先进光刻胶产品竞争的产品性能。    半导体加工用光刻胶种类较多，本课题组从2002年参与国家十五“863”光刻胶重大专项开始，至今近二十年来聚焦于光刻胶研究，在i-线胶、248-nm光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、厚膜光刻胶及抗反射涂层材料等方面都取得了很好的结果，也在致力于这些光刻胶产品的产业化。 相关项目、专利及文章： 1.国家重大科技专项（02专项）子课题,课题编号:2010ZX02303（深紫外光刻胶专用光致产酸剂及新型成膜树脂的扩试技术研究） 2.国家自然科学基金应急管理项目，51641301, 含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其组成的化学增幅光致抗蚀剂研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用，中国发明专利，专利号：9。

本项目采用FPGA加ARM的硬件处理平台，实现电网一次侧电压电流数据采集和多通道接收处理，并依据IEC618509-1/2标准实现将采样值通过光纤传输系统发送，通过上位机接收，可用解析软件对报文进行解析，对一次波形进行还原。

"本项目研发的新型量子吸蓝光材料，用于防蓝光眼镜，防蓝光护眼贴膜等产品。可用于防护液晶（LCD）和有机电致发光（OLED）手机，电脑显示器等电子产品显示器屏幕发出的高能蓝光，实现健康护眼的目的。 该种新型量子吸蓝光材料具有超强的光波过滤功能，比市面现有主流吸蓝光材料效果高10－100倍，处于世界领先水平。在技术层面优于市场上现有产品。依托于先进的新型量子技术制备防蓝光护眼镜片和护眼贴膜，可高效吸收蓝光，从根本上解决电子产品蓝光伤害这一社会痛点问题。 本项目量子防蓝光眼镜和贴膜产品的生产有两条技术路线，主要步骤如下： 1、无机吸蓝光材料分散在聚合物基材（如聚碳酸酯,聚丙烯酸酯）中直接成型； 2、无机吸蓝光材料分散在紫外光固化胶水中，采用涂布技术制作镜片或者可贴合膜片。"

目前半导体光刻加工用的深紫外光刻胶都采用化学增幅体系，这种体系主要由含酸敏基团的成膜材料和光产酸剂组成，这种体系最大的问题是光产酸在后烘阶段会发生酸迁移，导致光刻分辨率难以提高。能够有效改善酸迁移问题的一种方法是采用高分子光产酸剂，且其光产酸是高分子强酸。 课题组研制了一系列新颖的含多种鎓盐光产酸基团的苯乙烯衍生物及其与甲基丙烯酸酯的共聚物。它们在曝光过程中产生大分子的磺酸，因此可作为大分子光产酸剂与其它成膜材料一起组成化学增幅型光致抗蚀剂。 以之为产酸剂与其它部分保护的对羟基苯乙烯聚合物一起组成二组分的化学增幅型248-nm光刻胶， 制备了苯乙烯磺酸鎓盐和甲基丙烯酸酯、对羟基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保护部分酚羟基，由其组成了单组分的化学增幅型248-nm光刻胶，这些正型248-nm光刻胶获得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及图形线条平滑陡直等的出色表现。   利用高分子产酸剂透明性好的特点，还制备了厚膜248-nm光刻胶，可获得线宽0.34微米、高-宽比可达5：1的光刻图形：   在此基础上，还制备了负型248-nm光刻胶，这些光刻胶也都获得了很好的光刻成像性能表现。这些高分子光产酸剂也可用于制备新型的高性能193-nm光刻胶。 这些248-nm光刻胶的主要组分除了溶剂外都是自行制备，原料易得，反应条件温和可控，去金属杂质的方法也是简便易行，成本相对低廉，在经过多年的深入研究之后，完全具备了产业化的条件。 半导体加工的关键设备、材料主要掌握在美、日手中，对我国电子工业的平稳发展带来困难和潜在的巨大威胁。其中光刻胶作为芯片光刻加工的关键材料，日本公司的产品占据全球市场的70%以上，而我国在中高端产品上（248-nm光刻胶、193-nm光刻胶）完全依赖进口，即便是低端的i-线光刻胶国产化率也只有20%左右。因此，我们必须尽快扭转这种不利的局面，这需要科研工作者和产业界共同努力以及政府的大力支持。     近年来光刻胶引起了社会的广泛关注，已有多家企业开始投身于248-nm光刻胶与193-nm光刻胶的研发与产业化，但绝大部分仍处于研发阶段。我们研制的光刻胶具备了产业化的技术条件并具有与国外先进光刻胶产品竞争的产品性能。    半导体加工用光刻胶种类较多，本课题组从2002年参与国家十五“863”光刻胶重大专项开始，至今近二十年来聚焦于光刻胶研究，在i-线胶、248-nm光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、厚膜光刻胶及抗反射涂层材料等方面都取得了很好的结果，也在致力于这些光刻胶产品的产业化。 相关项目、专利及文章： 1.国家重大科技专项（02专项）子课题,课题编号:2010ZX02303（深紫外光刻胶专用光致产酸剂及新型成膜树脂的扩试技术研究） 2.国家自然科学基金应急管理项目，51641301, 含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其组成的化学增幅光致抗蚀剂研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用，中国发明专利，专利号：9。