CS2350M双恒电位仪是基于常规单通道CS350M 型电化学工作站拓展的产品，可以实现2个通道同步测试，搭配旋转环盘电极（RRDE）使用，各通道独立，可以实现不同参数、不同电分析方法的独立使用，软件友好，可以实现组合编程功能。具体应用于： 1）电合成、电沉积（电镀）、阳极氧化等反应机理研究； 2）电分析化学研究、电化学传感器的性能研究； 3）新型能源材料、先进功能材料以及光电材料的性能研究； 4）金属材料在不同介质（水/混凝土/土壤等）中的腐蚀研究蚀性评价； 5）缓蚀剂、水质稳定剂、涂层以及阴极保护效率的快速评价。 1、硬件参数指标   2，3，4电极体系 双恒电位仪，双通道独立使用 电位仪电位控制范围：±10V 恒电流控制范围：±1.0A 电位控制精度：0.1%×满量程读数±1mV 电流控制精度：0.1%×满量程读数 电位分辨率：10mV(>100Hz), 3mV(<10Hz) 电流灵敏度：<1pA 电位上升时间：<1mS(<10mA),<10mS(<2A) 参比电极输入阻抗：1012W||20pF 电流量程：2A～2nA, 共10档 最大输出电流：1.5A 槽压：±21V   CV 和LSV扫描速度：0.001mV～10000V/s CA和CC脉冲宽度：0.0001～65000s 电流扫描增量：1mA @1A/mS 电位扫描时电位增量：0.076mV @1V/mS SWV频率：0.001～100KHz DPV和NPV脉冲宽度：0.0001～1000s AD数据采集：16bit@1MHz, 20bit @1KHz DA分辨率：16bit, 建立时间：1mS CV的最小电位增量：0.075mV 低通滤波器：8段可编程 电流与电位量程：自动设置 接口通讯模式：网口   2、电化学阻抗功能指标   信号发生器： 频率响应：10mHz~1MHz 频率精确度：0.005% 交流信号幅值：1mV~2500mV 信号分辨率：0.1mV RMS 直流偏压：-10~+10V DDS输出阻抗：50W 波形：正弦波，三角波，方波 正弦波失真：<1% 扫描方式：对数/线性，增加/下降   信号分析器： 最小积分时间：10mS 或循环的最长时间 最大积分时间：106个循环或者105S 测量时间延迟：0~105秒 直流偏置补偿： 电位自动补偿范围：-10V~+10V 电流补偿范围：-1A~+1A 带宽调整(Bandwidth) ： 自动或手动设置，共8级可调   3、CorrTest测量与控制软件主要功能 第一通道软件功能 稳态极化：开路电位测量（OCP）、恒电位极化（I-t曲线)、恒电流极化、动电位扫描（TAFEL曲线）、动电流扫描（DGP） 暂态极化：任意恒电位阶梯波、任意恒电流阶梯波、恒电位阶跃、恒电流阶跃 计时分析：计时电位法（CP）、计时电流法（CA）、计时电量法（CC） 伏安分析：线性扫描伏安法（LSV）#、线性循环伏安法（CV）、阶梯循环伏安法（SCV）#、方波伏安法（SWV）#、差分脉冲伏安法（DPV）#、常规脉冲伏安法（NPV）#、常规差分脉冲伏安法（DNPV）#、差分脉冲电流检测法（DPA）、双差分脉冲电流检测法（DDPA）、三脉冲电流检测法（TPA）、积分脉冲电流检测法（IPAD）、交流伏安法（ACV）#、二次谐波交流伏安（SHACV）、傅里叶变换交流伏安【标#号的方法包括相应的溶出伏安分析方法】 交流阻抗：电化学阻抗～电位控制模式、电化学阻抗（EIS）～时间扫描、电化学阻抗（EIS）～电位扫描（Mott-Schottky曲线）、电化学阻抗～电流控制模式 腐蚀测量：动电位再活化法（EPR）、电化学噪声（EN）、电偶腐蚀测量（ZRA）、氢扩散测试 电池测试：电池充放电测试、恒电流充放电、恒电位间歇滴定（PITT）、恒电流间歇滴定（GITT） 其他：圆盘电极测试以及转速控制、溶液电阻测量（IR降）、溶液电阻正反馈补偿（IR补偿） 第二通道软件功能 稳态极化：开路电位测量（OCP）、恒电位极化（i-t 曲线）、恒电流极化、动电位扫描（TAFEL 曲线）、动电流扫描（DGP） 暂态极化：任意恒电位阶梯波、任意恒电流阶梯波、恒电位阶跃（VSTEP）、恒电流阶跃 计时分析：计时电位法（CP）、计时电流法（CA）、计时电量法（CC） 伏安分析：线性扫描伏安法（LSV）、线性循环伏安法（CV） 电池测量：电池充放电测试、恒电流充放电、恒电位间歇滴定（PITT）、恒电流间歇滴定（GITT） 其他：圆盘电极测试以及转速控制、溶液电阻测量（IR降）、溶液电阻正反馈补偿（IR补偿） 通道二可选配功能：交流阻抗功能   交流阻抗：电化学阻抗～电位控制模式、电化学阻抗（EIS）～时间扫描、电化学阻抗（EIS）～电位扫描（Mott-Schottky曲线）、电化学阻抗～电流控制模式 4、仪器配置 1）仪器主机1台； 2）CorrTest测试与分析软件1套 3）电源线1条 4）网口通讯线1条 5）电极电缆线2条 6）模拟电解池2个（仪器自检器件）

产品详细介绍 U伴慧学教师端教学软件包含任务系统、备课系统、授课系统和及时反馈系统，可有效帮助教师轻松制定教学计划、组织教学实施，系统教学评价，优化教学流程，提高教学质量和效率。 课前： 1、 高度匹配自学资源，教师轻松自学任务； 2、 查看自学报告，了解学生自学情况 3、 调动多样化教学资源，一秒备课 课中： 1、 围绕点睛题组织高效课堂讨论 2、 随堂检测即测即评，精准教学 3、 系统互动工具辅助授课 课后： 1、 根据课中情况发布针对性固学任务； 2、 引导学生深入探究学习，激发学习良性循环

理想（中国）科学工业有限公司，于1999年8月6日成立在东望香港，南接澳门，粤港澳大湾区的重要门户枢纽——珠海，由理想科学工业株式会社（日本）投资的外商独资企业，总投资2900万美元，注册资本1600万美元，是日本理想科学众多的海外子公司之一。         自理想（中国）建立伊始，就秉承理想科学“开发与创造”的企业理念，坚持创新，致力于为用户提供快速、经济的文印解决方案，是整机和耗材生产一体化的快速办公文印设备供应商。         闪彩印王系列高速数码彩色打印系统，采用高速线性喷墨技术和精密的纸张传送控制系统，可实现最高每分钟160面（160ppm）高速彩色打印，而且成本远远低于其它产品。还可实现可变数据打印、信封和厚纸印刷，通过后端的整理器可实现自动装订和折页，特别适合制作小册子，轻松实现大批量文件的打印输出。         理想科学一直持续不断的研发出新的高科技产品，如可以同时进行双色印刷的双滚筒速印机V8000、印速可达190ppm的一体化速印机SF9390C、印刷幅面大至A2的一体化速印机等。理想产品正在为全球190多个国家的用户提供快速经济的理想文印服务，仅在中国大陆地区就已经累计销售了20余万台一体化速印机，用户涵盖了党政机关、军队、学校等各行各业，各个地区。 GOCCOPRO系列丝网制版机，使用了消耗功率少，无需加水的“RISO干热式丝网制版系统”，在制版时，无需传统的感光剂和菲林，也不需要干燥、曝光、显影、水洗等处理，是兼容了简单、环保、经济的丝网制版新技术。 理想（中国）设立了符合国际规范的快捷、良好和完善的服务网络。在全国有7个大区、11家事务所、21家营业部、15家乾程理想公司，以及400余家签约经销商，分布于全国各个城市，有效便捷地为客户提供满意的售前、售中、售后服务，为满足理想客户的需求提供全方位的支持。 社会的发展源于文化的传播和交流，面对21世纪激烈变化的时代，理想（中国）致力于创造丰富的社会（文化）交流，为中国社会的进步与发展服务，为您的工作和生活增添色彩!

了解光的反射原理。

产品详细介绍         产品图片                        产品特点        1.      使用方法：实验时，将朗威相对光照度分布传感器置于铁架台底部，打开激光光源盒，调整光缝儿的位置使激光光束正好透过光缝，观察激光光束透过光缝儿后形成的光斑，调整传感器的位置，使光斑能够对应分布在其感应窗口上。 2.      典型应用：光的衍射，光的干涉        产品范围        朗威®DISLab产品支持的学科以物理、环境科学和小学科学为主，兼顾化学、生物；并且涵盖基础教育的全学段，即从小学科学到初、高中理科实验教学。         产品用户          凭借强有力的教学科研支撑、稳定的产品质量和优良的售后服务，朗威®DISLab产品先后中标沪、京、浙、苏、皖、鲁、闽、粤、桂、陕等省大型政府项目，多年间装备了全国2000多所中学及200多所高等师范院校。           产品服务            朗威®DISLab产品每年在北京、上海、广州、新疆等全国30个省、市自治区开展数字化实验室教学培训，为各校提供了系统的产品应用培训、有力的促进了数字化实验在教学中的应用及推广。     山东远大深切了解一线用户的需求，本着强烈的社会责任和奉献精神，十年来的服务足迹遍及大江南北、天山脚下、白山黑水和西南边陲，从而获得了广大用户的好评。         产品意义         在中学物理教学领域的应用逐步从课件和虚拟走向了数据采集和实时实验，这是由物理教学的本质特征所决定的。具有代表性的首先是上海市编写的《上海市二期课改高中物理教材》，其次是人民教育出版社、上海科技教育出版社以及广东教育出版社新课程教材。在这些教材中，均明确提出了以朗威®DISLab传感器、数据采集器为基础的数字化物理实验的概念，并明确给出了教学实施方案。学校选用朗威®DISLab，既体现了信息技术与物理教学整合的课改理念，又能够使实验教学装备与新课标教材要求保持高度一致。         生产能力         山东远大总部及生产基地位于济南市，公司占地2000平方米，有员工近130人，其中专业技术人员30多人。公司拥有整套完善的生产管理、产品质量控制程序。公司在同行业中率先通过了ISO9001：2008质量管理体系认证和ISO14001：2004环境管理体系论证及GB/T28001-2001职业健康安全管理体系认证。         公司简介        山东省远大网络多媒体股份有限公司，成立于1997年，是依托山东大学组建的高新技术企业，产品注册商标为“朗威”牌llongwill®。 山东远大立足知名学府，身处高科技前沿。自1999年起,致力于数字化实验系统的研发,并于2000年推出第一代产品,在国内率先提出了实验教学采用“传感器+数据采集器+计算机”模式。2001年度，山东远大研发、生产的“微机辅助中学物理实验系统”产品顺利通过国家教育部部级新产品新技术鉴定,并荣获国家科技部科技型中小企业技术。山东远大在注重技术进步的同时，格外注重向整个教育领域传播全新的教学理念。以技术为依托、以产品为载体、以理念为先导，是山东远大一贯坚持的发展思路。作为中国数字化实验教学领域的开创者和领先者，山东远大的业绩在十年间有了长足进步公司影响力在同行业中名列前茅,朗威®系列产品已经初步具备了与国际一流品牌抗衡、冲击国际教育市场的实力，山东远大也正向教育行业的中型高科技企业稳步迈进。   山东远大，必将为中国教育做出更大贡献！

该产品基于自主研发的光学算法，展现光的几何、偏振、波动、量子等特性现象；应用3D仿真技术，模拟实验仪器操作过程，为普通物理、物理光学、光纤通信、激光原理与技术、信息光学等课程提供了有力的仿真教学平台！

产品详细介绍光学窗口我们可为您加工订做红外窗口，石英窗口，氟化钙(CaF2)窗口，硒化锌(ZnSe)窗口，硅片等各种光学窗口材料：光学玻璃、紫外熔石英(JGS1)、红外熔石英(JGS3)以及氟化钙(CaF2)、氟化镁(MgF2)、氟化钡(BaF2)、硒化锌(ZnSe)、锗(Ge)、硅(Si)等晶体材料外圆： 4mm — 200mm 平行度偏差： <30秒表面精度： >λ/10表面质量： 40/20 有效口径： 90% 镀 膜： 按客户需求可进行镀膜

产品详细介绍 台面：含磁不锈钢板，双层减震。M6孔，孔距：25㎜ 磁力表座、一维、二维、三维工作台16件; 一维、二维、三维调整架21套; 附件19套，元器件等20多种；配有精制工作台。26项光学实验.  1200×800×140㎜/   1500×1000×160㎜/    1800×1000×160㎜   另有轻便精密光学平台GPT-3  / 干板切割器 CG-2  / 20度定温洗相仪DX-3/ 移动暗室YD-2.

产品详细介绍 光学窗口材料：光学玻璃,紫外熔石英,氟化钙(CaF2),锗(Ge),硅(Si),硒化锌(ZnSe)外圆：1mm—200mm 平行度偏差：5秒—3分面型精度：λ/10—2λ光洁度：10/5—60/40 有效口径： 90% 镀膜：按客户需求可进行各种光学镀膜 K9光学窗口材料：优质K9玻璃外圆：1mm—200mm 平行度偏差：5秒—3分面型精度：λ/10—2λ光洁度：10/5—60/40 有效口径： 90% 镀膜：按客户需求可进行各种光学镀膜 石英（JGS1）光学窗口材料：JGS1(紫外熔石英)外圆：1mm—200mm 平行度偏差：5秒—3分面型精度：λ/10—2λ光洁度：10/5—60/40 有效口径： 90% 镀膜：按客户需求可进行各种光学镀膜 氟化钙（CaF2）光学窗口材料：氟化钙（CaF2）外圆：1mm—200mm 平行度偏差：5秒—3分面型精度：λ/10—2λ光洁度：10/5—60/40 有效口径： 90% 镀膜：按客户需求可进行各种光学镀膜

由于航空发动机和燃气轮机叶片型面是空间异型曲面，因而其设计、制造及维修都面临巨大挑战。为了在设计加工层面提高叶片加工质量，同时在修复层面提高叶片使用寿命，开展叶片高效高精测量研究至关重要。 本项目面向叶片制造研发了一套基于四轴运动平台与线激光扫描相结合的叶片型面检测装置，并开发了集运动控制、数据采集与处理、精度评估等多功能于一体的软件系统，可实现多类型叶片的二维截面高精度测量与三维型面自动化高效重构,有效克服因叶片复杂结构特征带来的扫描数据密度差异性大、重叠区不足等因素对重构精度的影响。本项目面向叶片3D打印修复，研发了一套高效高精度的叶片检测方法与集成系统，可实现批量化叶片截面轮廓位姿及其轮廓的自动化测量、数据重构和叶片配准，为叶片修复工艺流程中的3D打印和后续机加工等工艺环节提供关键的数字化测量、加工工艺数据，有效提升修复精度与效率，并降低成本。 本项目的开发成果可应用于航空发动机、燃气轮机等叶片制造、修复全生命周期的测评、重构、反求等场景，市场规模大。 图 面向叶片3D打印修复的检测方法与集成系统硬件平台