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牙体硬组织原位修复和递送活性物质用高分子材料
本项目从仿生模拟蛋白质促进牙本质及牙釉质再矿化的角度出发,合成表征一系列具有不同代数及改性基团的PAMAM型树枝状高分子,考察其对牙本质及牙釉质再矿化过程中晶核形成、矿物质沉降和富集的促进作用及其作用机理,包括相关的细胞、动物实验研究。主要研究成果如下: 1.成功合成了磷酸和羧酸改性的聚酰胺-胺树枝状高分子(PAMAM-PO3H2和PAMAM-COOH)。通过体外和体内实验研究发现,这两种改性的PAMAM都能诱导牙本质和牙釉质矿化,修复受损牙体硬组织。 2.成功合成了阿伦磷酸(ALN)改性的羧酸化聚酰胺-胺树枝状高分子ALN-PAMAM-COOH,并通过体外模拟实验及动物实验发现ALN-PAMAM-COOH具有原位诱导牙釉质再矿化的功能,并对HA有强特异吸附和诱导再矿化的功能,且诱导矿化四周后的牙釉质表面硬度可恢复至95.5%,涂层附着力强。 3.在进一步研究中发现,羧酸改性的四代聚酰胺-胺树枝状大分子能同时实现药物缓释和诱导受损牙本质矿化的功能,利用树枝状高分子本身可载药的特点将三氯生载入PAMAM-COOH,制备的复合体系可以吸附在牙本质表面。可实现三氯生的缓慢释放并能同时诱导牙本质矿化,因此该材料同时具有负载活性物质(如抗菌药物)和修复受损牙齿的功能。
四川大学 2016-04-20
肖伟烈团队在二萜类抗炎活性分子研究方面取得重要进展
项目成果/简介:云南大学教育部自然资源药物化学重点实验室肖伟烈团队在具有抗炎活性的天然小分子研究方面取得新进展,围绕巨噬细胞NLRP3炎症小体和NF-κB信号通路,从多种药用植物中发现了一系列结构新颖、活性显著的二萜类化合物。 该团队从大戟科大戟属植物泽漆(Euphorbia helioscopia)中发现三个具有重排Jatrophane-型骨架的新颖二萜衍生物, Euphopias A–C。其中Eup
云南大学 2021-01-12
一种受阻酚/受阻胺分子内复合型抗氧剂的合成方法
本发明提供了一种受阻酚/受阻胺分子内复合型抗氧剂的合成方法,包括以下步骤:将化合物I溶解在溶剂A中,加入二氯亚砜,进行取代反应,反应结束后,减压蒸馏除去溶剂A和未反应的二氯亚砜,得到化合物II;使用溶剂B分别溶解化合物II、化合物III,混合,进行酰胺化反应,然后加入缚酸剂,继续反应,待反应结束后过滤,洗涤,真空干燥,得到受阻酚/受阻胺分子内复合型抗氧剂。本发明反应原料易得,方法简便,收率高,产物分子内含有受阻酚抗氧化基团和受阻胺光稳定剂官能团,提高了聚合物的抗氧化性。
浙江大学 2021-04-13
一种以天然高分子为主要成分的环保絮凝剂
本发明涉及一种以天然高分子为主要成分的环保絮凝剂,属于水处理絮凝剂技术领域。絮凝剂组分及各组分的重量份数如下:壳聚糖-木质素或壳聚糖-黄腐酸接枝共聚物60~75份,羧甲基淀粉15~30份,蒙脱土5份,活性炭5份。该絮凝剂主要由天然高分子制得,具有环保不产生二次污染的特点,而且价格低廉,对重金属离子和有机污染物去除率高,絮凝沉降速度快。社会效益:环保,无污染经济效益:在高端水处理行业中成本更低
青岛大学 2021-04-13
人才需求:化学工艺、化学合成、高分子等相关专业、领域人才
化学工艺、化学合成、高分子等相关专业、领域人才
山东世纪阳光科技有限公司 2021-09-08
人才需求:高分子材料专业,本科及以上学历,5名
高分子材料专业,本科及以上学历,5名
山东如悦医疗科技有限公司 2021-08-30
一种单晶石榴石厚膜的间歇式液相外延生长方法
专利内容是本发明针对背景技术存在的缺陷,提出了一种单晶石榴石厚膜的间歇式液相外延生长方法,缓解了衬底与薄膜之间的应力产生,得到的单晶石榴石厚膜可作为磁光或微波厚膜应用,该方法制得的磁光厚膜的厚度可达100µm以上。
电子科技大学 2021-02-01
一种糖基/磺化改性亲和聚合物中空纤维分离膜、其制备方法及用途
本发明公开一种糖基/磺化改性亲和聚合物中空纤维分离膜及其制备方法。该膜由聚合物树脂、磺化聚合物树脂和糖类高分子组成,在优选的原料与比例下对LDL有良好的特异性吸附作用,且具有良好的稳定性和生物相容性,可重复使用,成本低廉,有望投入大规模临床应用。其制备方法包括以下过程:将膜用聚合物树脂、磺化聚合物树脂、糖类高分子、致孔剂按一定比例溶于溶剂,制成均一的纺丝制膜液,将纺丝制膜液过滤、真空脱泡后,通过浸没沉淀相转化法纺丝制备中空纤维成膜,然后将所制得的中空纤维膜依次在去离子水和超纯水充分漂洗。本发明采用的共混溶解制备法具有操作简便安全、原材料廉价易得等优点。
浙江大学 2021-04-11
高稳定金属膜电阻器用磁控溅射中高阻靶材及制备技术
成果与项目的背景及主要用途: Cr-Si 中高阻膜电阻器具有精度高、噪声低、温度系数小、耐热性和稳定性 好等优点,在精密电子设备和混合集成电路中大量采用。对于溅射制备电阻膜来 说,靶材是至关重要的,它制约着金属膜电阻器的电阻率、精度、可靠性、电阻 温度系数(Temperature Coefficient of Resistance, TCR)等性能。电阻温度系数 (TCR)是金属膜电阻器的一个重要性能技术指标之一,较大的 TCR 在温度变化时 会造成电阻值漂移,从而影响电阻器的精度和稳定性。目前国内外生产的金属膜 电阻器用高阻靶材,其性能不能满足低 TCR(≤25ppm/℃)要求。 技术原理与工艺流程简介: 靶材炼制工艺如下图所示所制备的靶材(382 mm ×128 mm ×14 mm)在溅射成电阻器薄膜后, 电阻温度 系数小(≤25 ×10-6 / ℃), 电阻值高(要求不刻槽数量级为千欧, 刻槽后数量级为 兆欧)且稳定(随时间变化小), 因此, 在本靶材研究中, 将选择 Cr 、Si 作为高阻 靶材的主体材料。由于 C r 、Si 熔点高, 原子移动性低, 因此由其所组成的薄膜 稳定性高。通过在金属 C r 中引入半导体材料 Si 来提高电阻器合金膜的阻值。 C r 是很好的吸收气体的金属元素, 在电阻器薄膜溅射过程中, 可通过通入微量 的氧来提高薄膜的电阻率, 同时调节电阻温度系数。 技术指标如下: 温度冲击实验后 ΔR/R ≤±0 .5 %, 过载实验后 ΔR/R ≤±0 .5 %, 寿命实验后 ΔR/R ≤±1 .0 %,电阻温度系数 TCR ≤±20 ×10-6 / ℃。 应用领域: 集成电路、电子元器件 合作方式及条件:具体面议 2 半导体微环激光器 3 基光电集成电路 4 无线网络与应用:协作无线网络 5 移动通信—LTE 技术
天津大学 2021-04-11
超晶格结构的纳米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制备方法
简介:本发明提供一种超晶格结构的纳米晶Cr2N/非晶WC超硬膜及其制备方法,属于材料表面技术领域。本发明该超硬膜是由电弧离子镀的纳米晶体相Cr2N和磁控溅射镀的非晶体相WC层交替沉积而成,并且,超晶格的调制周期为10~20nm,Cr2N单层和WC单层的厚度分别为8~14nm和2~6nm。本发明的优点在于:Cr2N层与WC层交替分布实现了Cr-N基膜成分多元化和结构多层化,解决了抗氧化性较强的Cr-N基膜获得超高硬度的难题,同时非晶WC层进一步提高了Cr-N基膜的抗氧化和耐腐蚀性能,满足不能热处理的
安徽工业大学 2021-04-14
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