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50G 波特率 DFB 半导体激光器
项目背景:DFB 半导体激光器是光通信领域中最为重要 的器件之一,目前已经有工业级温度(-40°C-85°C)25G 波特率 DFB 大规模量产。但是,从 2000 年至今,DFB 激光器 的 3dB 带宽在全世界范围内几乎没有明显提高,传统的基于 载流子和光子响应的 DFB 激光器在传统的制造工艺下已经趋 近其速率的物理极限,需要用新的物理本质来实现更高速率 的器件,从而进一步提升 DFB 芯片的调制速率和整个光通信 应用的传输速率。本项目研发的 50G 波特率 DFB 半导体激光 器将达到国际领先水平,填补国内空白,打破国外垄断本项 目的实施,应对美国对中国高端材料和芯片的禁售风险。该 产品可在光通信系统中应用广泛,可以承担接入网、数据中 心网络、无线网络、传输网络等多个方面的主力传输工作。 所需技术需求简要描述:本项目期望突破当前 DFB 调制 速率的瓶颈,在目前大规模量产的 25G 波特率 DFB 的基础上, 将速度翻一番,到达 50G 波特率。(1) 两个背靠背 DFB 激 光器产生的光子-光子谐振效应(PPR)研究。(2) 背靠背 DFB 激光器的高速陶瓷载体设计。(3) 50G 波特率 DFB 芯片 和高速陶瓷载体的测试  对技术提供方的要求:1.光电子器件设计领域国际知名 专家,熟悉 50G 波特率 DFB 激光器基本设计。2.完善的 DFB 器件基础知识和模拟能力。3.国内 985 高校教授,技术方案成熟可靠稳定有创新思维,不涉及知识产权侵犯。 
青岛海信宽带多媒体技术有限公司 2021-09-13
一种无空穴传输材料钙钛矿薄膜异质结电池的制备方法
本发明公开了一种无空穴传输材料钙钛矿薄膜异质结电池的制备方法。该方法在传统的 PbI2 前驱体 溶液中加入少量 PbCl2,以提高 PbI2 在溶剂中的溶解性,以免在旋涂时形成不均匀的晶核,影响钙钛矿 生长的均匀性。在空气中 100℃烧结 5 分钟后,往钙钛矿层上刮涂上一种含有 CH3NH3I 的碳浆,在空气 中 100℃烘干,再次刮涂上一层不含 CH3NH3I 的碳浆以降低器件电阻。最后 50mg/mL?PMMA 的甲苯溶 液均匀滴在碳电极上
武汉大学 2021-04-14
高效率、大面积碳纳米管 - 硅异质结太阳能电池
碳纳米管-硅太阳能电池将具有优异透明导电性能的碳纳米管和高吸光性能的单晶硅完美结合,工艺简单,备受学术界关注。和目前光伏领域所研究的钙钛矿、半导体薄膜、量子点等材料相比,碳纳米管-硅电池将传统硅材料和新型碳纳米材料两者优良的光电性能相结合,有望成为下一代光伏候选技术。和传统晶体硅电池相比, 该电池省略了制备p-n结的热扩散工艺,小面积时无需蒸镀金属栅格,单壁碳纳米管的导电性和载流子迁移率远远高于晶体硅,因此具有低成本、高效率的优点。目前, 该领域的典型结构,无论是碳纳米管-硅还是石墨烯-硅电池,都存在电池效率仍有待提高、电池面积偏小的问题,距离实际应用还比较遥远。
北京大学 2021-02-01
高效率、大面积碳纳米管 - 硅异质结太阳能电池
碳纳米管-硅太阳能电池将具有优异透明导电性能的碳纳米管和高吸光性能的单晶硅完美结合,工艺简单,备受学术界关注。和目前光伏领域所研究的钙钛矿、半导体薄膜、量子点等材料相比,碳纳米管-硅电池将传统硅材料和新型碳纳米材料两者优良的光电性能相结合,有望成为下一代光伏候选技术。和传统晶体硅电池相比, 该电池省略了制备p-n结的热扩散工艺,小面积时无需蒸镀金属栅格,单壁碳纳米管的导电性和载流子迁移率远远高于晶体硅,因此具有低成本、高效率的优点。目前, 该领域的典型结构,无论是碳纳米管-硅还是石墨烯-硅电池,都存在电池效率仍有待提高、电池面积偏小的问题,距离实际应用还比较遥远。
北京大学 2021-01-12
高效率、大面积碳纳米管 - 硅异质结太阳能电池
碳纳米管-硅太阳能电池将具有优异透明导电性能的碳纳米管和高吸光性能的单晶硅完美结合,工艺简单,备受学术界关注。和目前光伏领域所研究的钙钛矿、半导体薄膜、量子点等材料相比,碳纳米管 - 硅电池将传统硅材料和新型碳纳米材料两者优良的光电性能相结合,有望成为下一代光伏候选技术。和传统晶体硅电池相比, 该电池省略了制备 p-n结的热扩散工艺,小面积时无需蒸镀金属栅格,单壁碳纳米管的导电性和载流子迁移率远远高于晶体硅,因此具有低成本、高效率的优点。目前, 该领域的典型结构,无论是碳纳米管 - 硅还是石墨烯 - 硅电池,都存在电池效率仍有待提高、电池面积偏小的问题,距离实际应用还比较遥远。
北京大学 2021-04-13
一种宽光束、可调送粉角的高效半导体装置
本发明属于激光表面改性技术领域,公开了一种宽光束、可调送粉角的快速高效半导体激光熔覆装置,包括半导体激光器(1)、光束整形与菲涅尔聚焦系统(2)、可调宽光带送粉头(3)、送粉器(6)、高速机床(5)、六轴联动机器人(4)及中央控制系统(9),光束整形与菲涅尔聚焦系统(2)用于将激光整形并聚焦成宽光带激光;可调宽光带送粉头(3)用于向待处理的大型轴型工件表面输送粉末及宽光带激光;工件直径大于1000mm,长度不低于10m。
华中科技大学 2021-04-10
多元化合物半导体单晶的制备方法与生长装置
一种多元化合物半导体单晶的制备方法,工艺步骤为:①清洁坩埚,②装料并除气封结,③晶体生长,④退火与冷却。与该方法配套的单晶生长装置含有可移动下炉加热器及含有中部辅助加热器的单晶生长炉,它可以灵活根据多元化合物的结晶习性,实现对结晶温度梯度区的温场调节,获得化合物单晶生长所需的窄温区、大温梯的结晶温场分布,维持固-液界面的稳定,实现单晶体的平界面生长。使用该生长装置,采用坩埚下降法可成功生长出外观完整、结晶性能好的多种多元化合物半导体单晶体。
四川大学 2021-04-11
基于金属氧化物的复合半导体光催化剂
将纳米级尺寸石墨烯量子点修饰到超薄ZnO纳米片表面,同样可大提高ZnO纳米片的光催化性能。
上海理工大学 2021-04-10
晶圆级二维半导体单晶薄膜外延生长的研究
主流硅基芯片CMOS(互补金属氧化物半导体)技术正面临短沟道效应等物理规律和制造成本的限制,需要开发基于新材料和新原理的晶体管技术来延续摩尔定律。高迁移率二维半导体因其超薄的平面结构和独特的电子学性质,有望成为“后摩尔时代”高性能电子器件和数字集成电路的理想沟道材料,进一步缩小晶体管的尺寸和提高其性能。为满足集成电路加工工艺和器件成品率对沟道材料的苛刻要求,二维半导体单晶薄膜的大面积制备尤为关键与重要。然而,现有二维半导体材料体系(过渡金属硫族化合物、黑磷等)薄膜制备仍未满足现实要求,因此亟需实现晶圆级二维半导体单晶薄膜制备技术的突破。 该研究瞄准二维半导体材料的晶圆级单晶制备,率先实现了同时具有高电子迁移率、合适带隙、环境稳定的二维半导体(硒氧化铋,Bi2O2Se)单晶晶圆的外延生长。他们基于自主设计搭建的双温区化学气相沉积系统,在商用的钙钛矿单晶基底【SrTiO3,LaAlO3,或(La, Sr)(Al,Ta)O3】上,利用Bi2O2Se与钙钛矿完美的晶格匹配性及较强的界面相互作用,促使Bi2O2Se晶核同一取向外延并融合生成晶圆级单晶薄膜。Bi2O2Se单晶薄膜在晶圆尺寸上表现出优异的材料和电学均匀性,可被用于批量构筑高性能场效应晶体管。基于晶圆级二维Bi2O2Se单晶薄膜的标准顶栅型场效应晶体管展现了高的室温表观迁移率(>150 cm2/V s)、大的电流开关比(>105)和较高的开态电流(45μA/μm)。相关成果发表在Nano Letters (Wafer-Scale Growth of Single-Crystal 2D Semiconductor on Perovskite Oxides for High-Performance Transistors. Nano Lett. 2019, 19, 2148)。
北京大学 2021-04-11
一种半导体脉冲激光器热电阶梯冷却方法
本发明公开了一种半导体脉冲激光器热电阶梯冷却方法,包括以下步骤:1)根据半导体脉冲激光器的额定工作温度 Ts 选择热电模块,将热电模块安装在半导体脉冲激光器内并使用可编程直流电源控制其电压;2)半导体脉冲激光器在 jt0 时刻释放热量 Qc 使半导体脉冲激光器内的温度上升,可编程直流电源在 jt0 时刻相应地由恒定电压 Us 调整为阶梯电压并施加在热电模块上,以使半导体脉冲激光器的实际工作温度降低到 Ts±2℃;其中,j 为大于零的正整数。本发明通过给热电模块施以合适的阶梯电压,使热电模块冷端温度呈现出衰减振荡过程,能减小过冷温度和增益温度,保证半导体脉冲激光器的温度要求。
华中科技大学 2021-04-13
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