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HH-S6水浴锅
"恒温恒湿培养箱具有温度和湿度双重调节系统、可对培养箱内温度及湿度进行控制。是植物、生物、微生物、遗传、病毒、医学、环保等科研,教育部门不可缺少的实验室设备,广泛用于低温恒温试验、培养试验、环境试验等等。 主要特点有: 1.温度、湿度采用微电脑自动控制,精度高;触摸按键,操作简单;数据LED数字显示,直观、准确。 2.外壳采用优质碳素钢板制造并喷塑,内胆为不锈钢结构,洁净度高。 3.隔热材料采用聚胺脂发泡塑料。 4.工作室内具有照明装置,采用中空玻璃门,观察方便。 5.独创送风系统,使温度更均匀。 6.为保护保护制冷压缩机,控制线路设计有断电保护和延时功能。 技术参数: 1、规格型号:250HL 2、容 积:250L 3、电 源:交流220V±10% 50Hz±2% 4、工作时间:连续 5、温控范围:5~50℃(LED数显控温) 6、控温精度:±1℃ 7、湿度范围:45-90%RH 8、控湿精度:±5%RH 8、工作环境温度:0~40℃ 9、工作环境相对湿度:85%以下"
江苏金怡仪器科技有限公司 2021-02-01
HumanEar耳解剖放大模型(6倍)
青华科教仪器有限公司 2021-08-23
HumanEye眼解剖放大模型(6倍)
青华科教仪器有限公司 2021-08-23
HM6F10柱塞马达
产品应用 挖掘机用液压产品。 产品简介 1.SAE型式安装法兰、SAE或JIS型式轴伸; 2.输出扭矩取决于高压侧和低压侧之间的压差增加而增大; 3.较高的功率密度; 4.良好的启动特性; 5.较好的耐低温特性; 6.结构紧凑、噪音低; 7.容积效率高,可靠性好; 8.带叠层密封环的一体式柱塞结构
山东华伟重特机械有限公司 2021-08-26
TJ-6纳米分散研磨仪
产品详细介绍工作原理研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或冲击力(impactforce)将粉体由大颗粒粉碎成小颗粒。分散:纳米粉体被其所添加溶剂、助剂、分散剂、树脂等包覆住,以便达到颗粒完全被分离(separating)、润湿(wetting)、分布(distributing)均匀及稳定(stabilization)目的。在做纳米粉体分散或研磨时,因为粉体尺度由大变小的过程中,范德华力及布朗运动现象逐渐明显且重要。选择适当助剂以避免粉体再次凝聚及选择适当的研磨机来控制研磨浆料温度以降低或避免布朗运动影响,是湿法研磨分散方法能否成功地得到纳米级粉体研磨及分散关键技术。纳米级分散研磨机采用三维高频振动技术,产生每分钟上千次的冲击、剪切、研磨,效率比球磨机提高几十倍。通过冲击力和摩擦力结合的方法来减小颗粒尺寸。电磁动力马达产生振动,通过研磨球的冲击振动减小样品的尺寸,此外,由研磨球翻滚运动产生的摩擦也使样品的尺寸进一步减小。高频振动确保3分钟内可将物料混合均匀,效果、效率均优于进口设备“红魔鬼”“快手”。行业应用ü 适用于实验干样品或悬浮液中固体样品的精细研磨粉碎ü 适用于乳状液或糊状物的均匀化处理ü 适用于纳米材料分散,效果优于普通机械法和超声波法ü 适用于无机矿物材料的表面改性、光饰作用,金属材料的机械合金化优点ü 选择性研磨:研磨过程开始时,通过冲击力减小样品的尺寸,此外,由研磨球翻滚运动产生的摩擦也使样品的尺寸进一步减小ü 研磨后样品粒径的分布窄,均匀化程度好ü 可避免结块现象ü 处理样品量大,6个研磨罐,最大处理量达6Lü 研磨罐独立,避免交叉污染 ü 可进行无铁研磨  丰富的罐体和磨球材质,可进行防止掺入杂质的无铁研磨 主要技术参数如下:    工作电压:     单相220V/50HZ    研磨罐容量:   50—6000ml    定时器:       0—99小时    变频器:       0.75KW    电机功率:     0.75KW      振动频率:     1500rpm    主机尺寸:     Φ600 * 800    主机重量:     110kg    最大进样尺寸: < 10 mm    最终出样尺寸: 5– 10 μm
天津市东方天净科技发展有限公司 2021-08-23
智能桌椅DK-PJZ6-07
西安东康实业有限公司 2022-09-15
无需抗体的酶辅助化学标记N6-甲基腺嘌呤(m6A)测序技术
随着首个RNA修饰N6-甲基腺嘌呤(m6A)的去修饰酶FTO的发现,RNA表观遗传学/表观转录组学开始兴起并成为表观遗传学新的研究热点。m6A作为首个被发现的可逆RNA修饰,广泛存在于mRNA,依赖修饰酶、去修饰酶和结合蛋白发挥调控功能。已发现m6A具有调控mRNA剪接、出核、稳定性和蛋白翻译等功能,可以参与发育、配子发生、细胞重编程、生物节律、疾病等多种生理和病理过程的功能调控。为了更好地研究m6A生物功能和临床病理研究,开发m6A高通量测序技术一直是研究的热点。 现有m6A测序技术主要依赖于m6A抗体富集技术,包括低分辨率的m6A-seq/MeRIP-seq和联用iCLIP或PAR-CLIP技术的高分辨率m6A测序技术miCLIP 或PA-m6A-seq。抗体存在对特定RNA序列或结构的潜在非特异性结合,为了解决抗体方法的种种问题,研究者们做出了各种尝试,近期开发了两类无需抗体的m6A测序技术,一类为利用对特定甲基化序列(m6ACA)敏感的RNA核酸内切酶MazF辅助的测序方法(m6A-REF-seq or MAZTER-seq),此类方法只能检测16~25%的m6A位点;另一种是在细胞内表达融合m6A-binding domain(YTH)与胞嘧啶脱氨酶(APOBEC1)的融合蛋白实现的m6A测序(DART-seq),但该方法依赖于细胞转染效率且受限于体外样品的使用。 贾桂芳课题组一直致力于开发和利用核酸化学生物学技术研究RNA化学修饰在动植物中的生物功能研究。在本课题中,贾桂芳课题组巧妙地利用m6A的去甲基酶FTO蛋白作为催化剂,将mRNA上化学惰性的m6A转化为高反应活性的中间态产物N6-羟甲基腺嘌呤(hm6A),然后利用二硫苏糖醇(DTT)的巯基与hm6A发生亚胺1,2加成反应,将不稳定的hm6A转化为更稳定的巯基加成产物dm6A。dm6A上的自由巯基可以与甲烷硫代磺酸(methanethiosulfonate,MTSEA)快速反应,实现在mRNA上m6A的位置标记生物素Biotin,最终可被链霉亲和素珠捕获,从而富集含有m6A修饰的RNA片段供后续高通量测序使用。
北京大学 2021-04-11
大尺寸宽禁带半导体氮化镓单晶衬底产业化技术
在大尺寸宽禁带/半导体单晶衬底外延设备、材料生长等方面做出了突出的工作。2001年始,研制出国内第一台用于氮化镓(GaN)衬底的卤化物气相外延(HVPE)系统,研究发展了获得高质量GaN衬底所需的所有关键技术并拥有自主知识产权,在氮化镓单晶衬底设备和材料技术领域已获授权国家发明专利30余项、申请国家发明专利30余项。在国内最早研制出2英寸毫米级GaN单晶衬底,建成6英寸HVPE系统并实现7片2吋及4-6吋GaN均匀生长;研究出创新性的GaN衬底批量制备技术,即将进行高质量、低成本GaN衬底的产业化应用,为第三代半导体应用奠定了材料基础。
南京大学 2021-05-10
英寸级单晶金刚石衬底及其关键设备的产业化
金刚石半导体集热、电、声、机械等特性于一体,在禁带宽度、击穿场强、迁移率和热导率等方面远高于其他半导体,被称为“终极半导体”。英寸级单晶金刚石衬底及其关键设备的产业化,可以极大地推进我国半导体的革命性变革,实现我国微电子行业的跨越式发展,达到国际先进水平。本项目在国家“千人计划特聘专家”王宏兴的推动下,已经完成了两种微波等离子体CVD设备的设计和制造,利用这些设备已经完成了英寸级单晶金刚石衬底的工程样品,实现了克隆衬底工艺的全线贯通,具有小批量产业化能力。按照日本相关公司的预测,随着金刚石半导体的发展,在2030年,中国的市场规模达到100亿美元。由于金刚石生产中的主要成本是甲烷、氢气和消耗电力的费用,成本较低,经济效益显著。 金刚石半导体特性 关键设备-MPCVD 克隆技术 单晶金刚石衬底
西安交通大学 2021-04-11
分米量级尺寸的六方氮化硼二维单晶的制备
团队与合作者首次报道了米级单晶Cu(111)衬底的制备方法,并在此基础上实现了米级单晶石墨烯的外延生长(Science. Bulletin 2017, 62, 1074)。与石墨烯不同,六方氮化硼等其它绝大多数二维材料不具有中心反演对称性,其外延生长普遍存在孪晶晶界问题:旋转180°时晶格方向发生改变,外延生长时不可避免地出现反向晶畴,而在拼接时形成缺陷晶界。 开发合适对称性的外延单晶衬底是解决这一科学难题的关键。研究团队探索出利用对称性破缺的衬底外延非中心反演对称二维单晶薄膜的新方
南方科技大学 2021-04-14
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