1、三角光学导轨：铸铁，规格：1200㎜ ，仪器中心高：200㎜，采用精密加工工艺，平稳性好，稳定性强，长期使用不易扭曲变形，滑座采用碰珠式装置； 2、固定移动滑座2个，三维可调滑座5个； 3、40倍扩束镜； 4、氦氖激光器：腔长250mm，功率≥1.2mW 波长:632.8nm，调节加架； 5、测微目镜：量程0-8mm 分度值0.01mm； 6、聚光镜、比累对切透镜、白屏（带孔）； 7、半导体激光器：532nm，； 8、CCD观察测量系统。

可以量产/n波长范围905-1064nm、水平、垂直发散角<10度；直流输出功率>5W;窄脉冲输出功率>20W;光子晶体激光器模块窄脉冲输出功率>130W；并与传统半导体激光器工艺相兼容。此外还开展了808nm、980nm和1064nm等波段光子晶体激光器研究。“先进半导体光子晶体激光器技术研究”获得2013年度北京市科学技术奖二等奖，光子晶体高功率高亮度激光器被评为“2014中国光学重要成果”。市场预期：半导体激光器的应用范围覆盖了整个光电子学领域，已成为当今光电子科学的核

本实用新型提供了一种激光束现场标定装置，包括标定板、调平装置、CCD 相机和处理器；所述标定板设置于调平装置上，其具有三个通孔，其中第一通孔和第二通孔连线与第一通孔和第三通孔连线垂直；所述 CCD 相机用于对投射有光斑的标定板进行成像；所述处理器用于对成像进行数字图像分析得到激光束与机床主轴的偏角。本实用新型通过机床各轴的运动带动激光位移传感器，采用 CCD 相机拍摄激光束光斑在标定板上的图像，通过数字图像分析精确测定激光束的方位特性，以对后期的测量结果进行补偿。

产品特点 　　高纯气相法纳米氧化铝ZH-Alum通过等离子体气相燃烧法制备，反应迅速、产量大、纯度高、原晶粒径小、分布均匀，比表面积大、表面干净，无残余杂质，松装密度低，易于形成单分散，粉体表面带电荷，气相法制备可以替代进口产品。 　　产品参数 产品名称 型号 平均粒度（nm) 纯度(%) 比表面积(m2/g) 松装密度(g/cm3) 晶型 磁性异物 颜色 气相法氧化铝 ZH-Alum80 20 >99.9 80+-15 0.03 混合相 <200ppb 白色 气相法氧化铝 ZH-Alum100 15 >99.9 100+-15 0.04 混合相 <200ppb 白色 气相法氧化铝 ZH-Alum150 10 >99.9 150+-20 0.05 γ相 <200ppb 白色 气相法氧化铝 ZH-Alum220 5 >99.9 220+-20 0.05 γ相 <200ppb 白色 加工定制 为客户提供定制颗粒大小和表面改性处理 　　产品应用 　　1、高纯气相法纳米氧化铝应用于锂电池隔膜材料，提高耐高温性和安全性;也用于锂电池阳极，提高导电性和可逆放电电容;用于负极包覆，提高耐温和安全性;用作锂电池电极涂层，可以起到隔热，绝缘的作用，提高安全性能; 　　2、高纯气相法纳米氧化铝掺杂铝到钴酸锂中，可形成固溶体，稳定晶格，提高倍率性能和循环性能; 　　3、用高纯纳米氧化铝对钴酸锂进行包覆，可以提高热稳定性，提高循环性能和耐过充能力，氧的生成和LiPF6的分解，可避免LiCo02与电解液直接接触，减少电化学比容量损失，从而提高LiCoO2的电化学比容量; 　　4、纳米氧化铝中铝离子的掺杂，可以提高电池的电压，提高电池使用的安全性; 　　5、高纯气相法纳米氧化铝应用于改性进尖晶石锰酸锂材料，生产出的电池可逆容量大; 　　6、石油化工：催化剂、催化剂载体及汽车尾气净化材料; 　　7、抛光材料：亚微米/纳米级研磨材料、单晶硅片的研磨、精密抛光材料。 　　包装储存 　　本品为塑料袋内包装，外面为纸箱包装，密封保存于干燥、阴凉的环境中，不宜暴露空气中，防受潮发生团聚，影响分散性能和使用效果;包装数量可以根据客户要求提供，分装。 　　招商代理 　　气相法纳米氧化铝ZH-Alum100替代国外进口产品、面向全国各大代理商和经销商招商，欢迎大家来厂考察交流。 　　技术咨询与索样 　　联系人：王经理(Mr.Wang) 　　电 话：18133608898 微信：18133608898 QQ：3355407318 邮箱：sales@hfzhnano.com

一种干涉型梳状滤波器，属于光电子器件，适用于光纤通信和 光纤传感领域，用于解决现有梳状滤波器所存在的问题。本发明包括 第一耦合器、第一偏振控制器、第一高双折射光纤、第二耦合器、第 二偏振控制器、第二高双折射光纤，以及第一环形器或光隔离器；第 一耦合器、第一偏振控制器、第一高双折射光纤连接构成第一个 Saganc 干涉仪；第二耦合器、第二偏振控制器、第二高双折射光纤连接构成 第二个 Saganc 干涉仪，两个 Sagn

通过腐蚀扩芯光纤实现的干涉仪, 特别适用于光纤传感领域。解决了目前基于光纤结构的干涉仪所面临的尺寸大、敏感性差、制作成本高的问题。该干涉仪包括在光纤（1）上制作的扩芯区（2）和腐蚀区（3）。制作方法：将光纤（1）去除涂覆，在对光纤（1）加热的同时将光纤（1）两端向中间推，制作扩芯区（2），然后以HF溶液沿径向腐蚀扩芯区（2）中部，形成腐蚀区（3）。加热的方法包括：电火花放电、CO2激光器聚焦或火焰加热。光纤（1）直径为D1，扩芯区（2）的最大直径为D2，长度为2L1+L2，腐蚀区（3）的长度为L2，深度为H。激光信号在传播的过程中被分成两路或多路，在干涉仪输出端干涉出干涉条纹。

本发明涉及一种高斯光束整形系统，将具有高斯状分布的圆光 斑整形成均匀分布的线条形光斑，用于激光扫描加工，提高加工效率 和提高表面温度均匀性。本系统由扩束系统、空间切割重排系统和聚 焦系统组成。扩束采用具有一定焦距比的负柱面镜和正柱面镜，实现 在其中一个方向的扩束。光束空间切割采用一组具有一定旋转角度的 平行平板玻璃，切割产生多分子光束并产生一定的偏移。经另外一组 具有一定旋转角度的平行平板玻璃重排，将重排后的光斑经柱

本发明提供了一种激光束现场标定方法，具体为:调平标定板， 所述标定板具有三个通孔，两两通孔之间连线垂直;使用激光位移传感器发射激光束至标定板并成像;在机床 Y 轴方向驱使激光位移传感 器移动一段距离，再发射激光束至标定板并成像;在机床 Z 轴方向驱 使激光位移传感器移动一段距离，再发射激光束至标定板并成像;依 据三张成像上三通孔位置关系计算激光束与机床主轴的偏角。本发明 还提供实现上述方法的装置，包括标定板、调平装置、CCD 相机和处 理器。本发明通

本实用新型公开了一种自适应光学聚焦干涉补偿系统。光束准直扩束模块布置在激光器后，激光器发射出光束平行扩束并空间滤波后入射到数字微镜器件，旁侧出射端前方置有相位补偿模块，正侧出射端置有分束器和缩束模块，相位补偿模块位于分束器旁侧，旁侧反射光束经相位补偿模块后再反射到分束器中，正侧反射光束直接反射到分束器中；光束经二向色镜反射后经扫描模块进入显微物镜聚焦，实验样品位于显微物镜焦平面；实验样品内激发出的荧光经过显微物镜与扫描模块后透过二向色镜被光强探测模块接收。本实用新型从光学干涉原理出发，能够快速改善散射介质内部聚焦光斑的质量，为光遗传学与活体深层高分辨率光学显微成像技术提供了新思路。

      WMG-3型压电陶瓷干涉测量实验仪通过系统软件控制，测量压电陶瓷的压电常数及其振动的频率响应特性。 主要技术特点： 光源：氦氖激光器，波长632.8nm，功率≥1.5mW，单模TEM00，全保护安全高压插头，腔长250mm。 压电陶瓷：管状，在内外壁上分别镀有电极，以施加电压。 结构：采用全新的平台式迈克尔干涉仪设计，便于在光路中加入被测物质；开放式的空间，使等厚干涉、等倾干涉及各种条纹的变动易于调整，方便精密测量。 基座：采用铸铁基座作为实验平台，保证了实验过程的稳定性。 软件：具有数据采集、数据处理、数据保存等功能。