超导高场核磁共振成像系统是利用超高场超导磁体（7.0T，9.4T，11.7T）和核磁共振成像技术对小动物、生物样品、有机材料、石油岩心等样品实现高分辨率的成像，它采用零液氦消耗、超高场磁体、软件无线电控制、高灵敏射频接收等技术大幅度提高核磁共振成像效果，项目将打破国外公司垄断，具有广阔的市场前景。

全空间光散射场测量仪包括小型激光器、转盘、半抛物面反射镜、分 束棱镜、可调光阑、透镜和CCD相机等，可对金属、建材和纸张等物体表 面的反射和散射光场分布进行全场实时测量。整个装置集电源、光源、 测试光路、调节、存储和控制单元于一体，方便实时在线测量及野外操 作，在需要对物体表面的光反射和散射特性进行工业化检测等领域有广 阔的应用前景。 该项技术成熟，达到国际领先水平，获发明专利和实用新

全空间光辐射场测量仪包括小型激光器、带阵列小孔半球壳、带准直 透镜端的光纤束、带阵列小孔圆盘、可调光阑、成像透镜和CCD相机等， 可对LED光源、节能灯以及电脑电视显示屏的辐射场分布进行全场实时测 量，整个装置集电源、光源、测试光路、调节、存储和控制单元于一体， 方便实时在线测量及野外测量。 该项技术成熟，达到国际先进水平，获发明专利1项、实用新型专利2 项。

项目 参数 灯具系列 星奥TL30系列 星奥TL80系列 星奥TL128系列 对应体育场馆 足球场 篮球馆排球馆手球馆冰球馆羽毛球馆游泳馆跳水馆   单个模组灯珠数 28pcs 76pcs 128pcs 输入电压 AC90～245V 频率范围 50/60Hz 功率因数 ≥0.95 认证符合 CCC 电路保护 短路保护，过流保护，过电压保护，抗浪涌，防雷及过温保护 光源 Osram/cree/philips等 功率 80-800W 240-1000W 300-1500W 配光曲线 Refer to "light distribution curve" 光斑 对称、非对称配光 相关色温 3000-6500K 灯具光效（lm/W） ≥100lm/W 显色指数 ≥70 外形尺寸 详见尺寸图 净重 祥见重量图 防护等级 IP 65 工作湿度 10%～95%R.H. 工作温度 -30℃～+50℃ 储存温度 -40℃～50℃ 外壳温 ＜60°(Ta=25℃) 寿命Ta=25℃ 50000H

产品概述： 超高性价比的工业光场相机，可同时捕捉目标场景的二维图像和三维深度信息。 具备三维重建/先拍照后聚焦/视角变换等功能，适合用于大学生“计算成像”专题演示实验中。 附带C#、C++、Java、Python等编程工具包，便于进行二次开发。 可适配多种接口的常规工业镜头，支持用户自行安装和更换镜头。 支持用户深度定制光场相机的核心参数。

高校科技成果尽在科转云

中国科学技术大学李晓光团队联合清华大学沈洋教授课题组在高储能密度柔性电容器领域取得重要进展。研究者成功找到了一种可以大幅度提高聚合物基复合材料击穿电场强度和介电储能密度的方法，该方法可推广至不同的柔性聚合物电介质材料，为今后高储能电容器的设计提供了一种可行的方案。该成果在线发表在《先进材料》杂志上。

本项目从材料科学的角度出发，在国内外率先对Bi2O3-ZnO-Nb2O5(BZN)体系陶瓷的相结构、相关系与介电性能进行了系统研究。首次深入系统地研究了三元系统中焦绿石相区的相关系，以结构―性能关系为出发点对BZN基介电陶瓷材料进行了系统的离子取代改性研究，在此基础上获得了低烧结温度、达到CG指标的温度稳定型BZN基和MLCC瓷料,可以作为高频多层陶瓷电容

1、 能源介质系统的集中监测及运行状态分析完善轧制生产线能源介质系统的仪表配置和数据收集，对各类能源介质进行集中监控和在线计量，根据热平衡、水平衡等动态分析方法，对能源介质系统运行状态进行异常识别、诊断和预警，并自动生成管理报表等。2、 轧件工序能耗成本的在线核算和挖掘分析利用能耗分析模型，根据轧件跟踪时序，在线统计分析每一轧件在各工序中的能源介质消耗及成本，并与生产过程数据关联分析，为生产工艺的节能优化提供依据。3、 轧件工序能耗的预测仿真及生产优化利用能耗预测模型实现生产工艺节能的仿真优化，并根据生产节奏，通过峰谷电量排产和燃气、冷却水供应优化，以减少能源介质的耗散，同时避免能源介质波动对产品质量稳定性造成不良影响。

由溶液生产晶体产品技术装备（中国专利号Chinese Patent     ZL No 03235520.3）。流动结构与立式循环撞击流反应器有某些相似。利用撞击流促进微观混合的优越性质，可控制适当且均匀的的过饱和度，从而可制得粗大均匀的结晶体；实验结果还证明撞击流可以提高结晶成长速度。该结晶器适用于冷却结晶、蒸发结晶和反应结晶。可以间歇、也可以连续操作。本室可承担结晶器系统设计，提供不同规格发结晶器，或转让技术。 本实用新型的目的，是克服上述现有技术的不足，利用撞击流新技术，提供一种微观混合性质良好，同时适用于冷却和反应结晶，易于控制过饱和度及其均匀性，从而能够制得良好结晶产品的装置。 该结晶器可以连续操作；对于结晶生长缓慢的物质如某些有机物，也可以间歇操作。 连续操作时，原料液体通过进料管连续加入结晶器。结晶一定时间后，较稠厚的晶浆下流至结晶器底部的分级腿；适当形式的输液泵经清液管从结晶器上部的溢流堰中抽取上层清液通过管道送入该分级腿进行水力分级；粗大结晶和部分母液通过出料管卸出，送至液固分离设备；细小结晶被分级液送回结晶器。间歇操作则是将原料液一次加入结晶器，在控制适当的条件下经过一定时间完成结晶后卸出，送去进行液固分离。间歇操作不需要使用分级腿、溢流堰、输液泵和管道。 与现有的结晶装置相比，本实用新型撞击流结晶器具有下述显著的优点： (1)利用了撞击流强化微观混合的特点，更容易为结晶过程提供均匀的过饱和度环境； (2)结晶器中具有理想混合－无混合串联循环的特殊流动结构，更适合结晶过程的特点； (3)可用于反应结晶操作； (4)由于良好的微观混合条件保证了均匀的过饱和度，料浆循环量小，只要保证晶体能够悬浮即可，因此动力消耗较省。