光电轮廓仪
                                        
                                            	纳米科技是21世纪材料技术革命的核心,而纳米测量是纳米技术中重要环节,我校研制的光电轮廓仪是纳米测量的重要仪器之一。该仪器除在计量系统作为传递基准仪外,也可广泛用于材料科学、生物学、化学、微机械学以及半导体工业等领域中的纳米分析测量。   仪器主要技术指标为:   测量方法:非接触式、三维、光学相移干涉法   物镜倍率:40X   测量范围:0.1×0.1mm   测量列阵:510×510象素   最小显示值:0.1nm   测量表面粗糙度范围:Ra~0.1nm-120nm   最大可测量台阶和孔深:1100nm	  仪器Ra测量重复性:Ra≤1nm
                                        
                                        
                                            上海理工大学
                                            2021-04-11