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青海省建成国内首条太阳能晶硅光伏组件回收中试线
7月5日，青海省重点研发计划项目“晶硅光伏组件回收利用技术研究”通过专家验收。项目通过对晶硅太阳能电池组件材料的回收循环再利用研究，探索清洁能源固废规范回收以及可循环、高值化再生利用的新兴产业途径，建成我国首条具有自主知识产权的高回收率太阳能晶硅光伏组件回收中试线，为晶硅电池综合回收利用提供了科技示范样板。
青海省科学技术厅
2023-07-07
一种定位三氟甲基取代的高效有机太阳能电池受体材料
南方科技大学化学系副教授何凤课题组在能源领域顶级期刊Joule发表最新研究成果，介绍了团队合成的一种定位三氟甲基取代的高效有机太阳能电池受体材料，该材料可通过H/J聚集的协同作用形成具有更多电子跳跃传输结点的三维网络结构，可极大改善电荷在分子间的传输，大幅提高器件性能。在该研究中，团队成功地将三氟甲基引入到稠环电子受体中，得到了超窄带隙受体BTIC-CF3–γ，并将其应用于太阳能电子器件中，极大地提高了器件的能量转换效率，充分体现出光谱红移和超窄带隙的优势，在多元体系、半透明器件和叠层器件应用方面展示出非常有潜力的前景。更重要的是，BTIC-CF3–γ的单晶结构有助于研究人员从分子层面理解这类分子的堆积形式以及分子间相互作用，也为进一步设计新的高性能材料提供了有利的依据和指导。
南方科技大学
2021-04-11
关于钙钛矿太阳能电池中光增强的离子迁移现象的研究
利用实验室自行搭建的温度，光强，电场三场共同调制的集成测试系统，对CH3NH3PbI3薄膜进行了变温(17-295K)和不同光强(0-20mW/cm2)下的恒电流测试，发展了一整套将钙钛矿材料中的电子电导与离子电导分离开来的方法。通过系统和定量分析，得到了CH3NH3PbI3在不同光强下离子迁移的活化能数据。发现随着光强的增强(从0增大到20mW/cm2)，活化能降低了五倍左右(0.82 to 0.15eV)。这强有力的证明了离子迁移在光照下得到了显著增强，而离子迁移的增强会导致更多的缺陷态产生，从而导致电池效率的下降。
北京大学
2021-04-11
一种染料敏化太阳能电池光阴极及其制备方法和应用
本发明公开了一种染料敏化太阳能电池光阴极及其制备方法和 应用。该方法包括如下步骤：(1)在具有热收缩特性的聚合物基底上沉 积一层透明导电薄膜；(2)在透明导电薄膜表面沉积一层金属薄膜；(3) 对步骤(2)得到的结构进行退火处理，使基底受热收缩，在透明导电薄 膜和金属薄膜上形成褶皱和间隙，完成光阴极的制备。本发明能显著 提高光阴极的催化面积，提高光阴极对透过光的反射率和散射率，进 而提高光阴极的还原效率及光阳极对入射光的利用率，最终提高染料·119·敏化太阳能电池的光电转换
华中科技大学
2021-04-14
太阳能逆变器
太阳能逆变器技术是太阳能发电技术领域的研发成果，可以应用在三 相及单相太阳能并网逆变器中。电路采用了高效率的电路拓扑、先进的 电感设计技术、优良的驱动方案、完善的电路设计及软件功能，整体功 能经过了测试验证。该技术符合国家新能源发展政策，具有较大的经济 效益。性能指标： 1.8KW以下单相
西北工业大学
2021-04-14
太阳能灶
灶面尺寸φ400mm×350mm，金属制品，表面镀亮膜，焦点位置可调。
宁波华茂文教股份有限公司
2021-08-23
太阳能小车
230mm×210mm×180mm，在太阳光或100W白炽灯光照射下小车能行驶。
宁波华茂文教股份有限公司
2021-08-23
一种光电化学太阳能电池光电极微纳结构制造工艺
本发明公开了一种光电化学太阳能电池光电极微纳结构制造工艺，包括步骤：1)在洁净硅片上热生长一层 SiO<sub>2</sub>薄膜、2)在有 SiO<sub>2</sub>层的硅片表面光刻出圆孔阵列图形、3)刻蚀暴露的 SiO<sub>2</sub>，将光刻的图形转移到 SiO<sub>2</sub>层、4)镀Cu 膜、5)去除表面的光刻胶及光刻胶表面的 Cu、6)生长 Si 微米线阵列、7)在 Si 微
华中科技大学
2021-04-14
太阳能电池光伏组件外观、电致发光测试、自动分析一体机
晶硅光伏组件生产完成之后，必须经过外观检测，以确定是否有虚焊、碎片、异物等外观缺陷。一般而言，外观检测都是人工完成，具有工作烦累、容易出错等问题。晶硅光伏组件还要经历电致发光（ EL）测试，以确定是否有裂纹、黑芯片、硅片杂质缺陷、电极缺陷、片源不一致等问题。一般而言，这部分的检测都在设备中进行，目前的设备只能得到整个组件的 EL 测试图像，需要人工针对该图像进行缺陷分析，强烈依赖于检测人员的技术能力和责任心。本产品是晶硅光伏领域专家与机器视觉公司合作开发，将晶硅光伏组件的
江苏大学
2021-04-14
一种光电化学太阳能电池光电极微纳结构制造工艺
本发明公开了一种光电化学太阳能电池光电极微纳结构制造工 艺，包括步骤：1)在洁净硅片上热生长一层 SiO2 薄膜、2)在有 SiO2 层的硅片表面光刻出圆孔阵列图形、3)刻蚀暴露的 SiO2，将光刻的图 形转移到 SiO2 层、4)镀 Cu 膜、5)去除表面的光刻胶及光刻胶表面的 Cu、6)生长 Si 微米线阵列、7)在 Si 微米线表面镀一层 ZnO 膜、8)在 Si 微米线表面生长 ZnO 纳米线、9)在 ZnO 纳米线表面制备一层 CdS 薄 膜 、 10) 在 ZnO/CdS 结 构 表 面
华中科技大学
2021-04-14