目前半导体光刻加工用的深紫外光刻胶都采用化学增幅体系，这种体系主要由含酸敏基团的成膜材料和光产酸剂组成，这种体系最大的问题是光产酸在后烘阶段会发生酸迁移，导致光刻分辨率难以提高。能够有效改善酸迁移问题的一种方法是采用高分子光产酸剂，且其光产酸是高分子强酸。 课题组研制了一系列新颖的含多种鎓盐光产酸基团的苯乙烯衍生物及其与甲基丙烯酸酯的共聚物。它们在曝光过程中产生大分子的磺酸，因此可作为大分子光产酸剂与其它成膜材料一起组成化学增幅型光致抗蚀剂。 以之为产酸剂与其它部分保护的对羟基苯乙烯聚合物一起组成二组分的化学增幅型248-nm光刻胶， 制备了苯乙烯磺酸鎓盐和甲基丙烯酸酯、对羟基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保护部分酚羟基，由其组成了单组分的化学增幅型248-nm光刻胶，这些正型248-nm光刻胶获得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及图形线条平滑陡直等的出色表现。   利用高分子产酸剂透明性好的特点，还制备了厚膜248-nm光刻胶，可获得线宽0.34微米、高-宽比可达5：1的光刻图形：   在此基础上，还制备了负型248-nm光刻胶，这些光刻胶也都获得了很好的光刻成像性能表现。这些高分子光产酸剂也可用于制备新型的高性能193-nm光刻胶。 这些248-nm光刻胶的主要组分除了溶剂外都是自行制备，原料易得，反应条件温和可控，去金属杂质的方法也是简便易行，成本相对低廉，在经过多年的深入研究之后，完全具备了产业化的条件。 半导体加工的关键设备、材料主要掌握在美、日手中，对我国电子工业的平稳发展带来困难和潜在的巨大威胁。其中光刻胶作为芯片光刻加工的关键材料，日本公司的产品占据全球市场的70%以上，而我国在中高端产品上（248-nm光刻胶、193-nm光刻胶）完全依赖进口，即便是低端的i-线光刻胶国产化率也只有20%左右。因此，我们必须尽快扭转这种不利的局面，这需要科研工作者和产业界共同努力以及政府的大力支持。     近年来光刻胶引起了社会的广泛关注，已有多家企业开始投身于248-nm光刻胶与193-nm光刻胶的研发与产业化，但绝大部分仍处于研发阶段。我们研制的光刻胶具备了产业化的技术条件并具有与国外先进光刻胶产品竞争的产品性能。    半导体加工用光刻胶种类较多，本课题组从2002年参与国家十五“863”光刻胶重大专项开始，至今近二十年来聚焦于光刻胶研究，在i-线胶、248-nm光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、厚膜光刻胶及抗反射涂层材料等方面都取得了很好的结果，也在致力于这些光刻胶产品的产业化。 相关项目、专利及文章： 1.国家重大科技专项（02专项）子课题,课题编号:2010ZX02303（深紫外光刻胶专用光致产酸剂及新型成膜树脂的扩试技术研究） 2.国家自然科学基金应急管理项目，51641301, 含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其组成的化学增幅光致抗蚀剂研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用，中国发明专利，专利号：9。

AKD中性施胶剂是现代造纸工业中应用最为广泛的一类施胶剂。传统的AKD 合成方法需 加入苯类有机溶剂，残留于产品AKD中，损害人体健康，影响AKD产品的下游应用不能用于 食品包装用纸领域。本技术通过采用新型绿色高效工艺合成AKD。解决了目前AKD生产中的 问题。得到的AKD可用于高端造纸领域。

（专利号：ZL 201410111072.3） 简介：本发明公开了一种银基导电胶的制备方法，属于复合材料制备技术领域。该制备方法具体步骤是：将γ-环糊精、硝酸银、聚丙烯酸钠、浓硝酸、蒸馏水混合，搅拌加热至50～80℃，缓慢滴加抗坏血酸、3,4-乙烯二氧噻吩、吡咯赖氨酸、蒸馏水的混合溶液，反应1小时，过滤，经大量蒸馏水、乙醇洗涤，干燥后得到银含量为88～96%的银基复合导电粒子；将环氧树脂、固化剂以及银基复合导电粒子充分混合,100℃下固化

已有样品/n以辐射加工技术为代表的非动力核技术应用对传统的加工方式产生了颠覆性创新，比如航天航空特种电线、污水处理、材料改性等，产生了很好的经济效益和社会效益。汽车雨刮胶条主要成分是天然橡胶或合成橡胶，实验研究表明电子束辐射能改变橡胶传统的硫化方式，有效提升交联度，通过辐射处理的胶条具有更好的耐候性、耐磨性、拔水性。比如，经过辐照处理后，胶条刮擦循环稳定性可达50 万次，抗拉强度（100%）从4.92MPa 增加到8

本发明公开了一种荧光粉胶的涂覆方法，属于 LED 封装领域，其采用压印方式对 LED 芯片进行荧光粉胶涂覆，包括 S1 将 LED 芯片固定在封装基板上；S2 将荧光粉胶涂覆在所述 LED 芯片上或者所述压印块的端面上，将所述压印块与所述 LED 芯片通过压印方式贴合一起；S3 待荧光粉胶在所述压印块和所述 LED 芯片之间稳定成形后，对所述荧光粉胶进行固化处理获得荧光粉层，实现荧光粉胶的涂覆。本发明方法操作简单，成本低，可灵活控制荧光粉胶形貌，从而提升LED封装光色一致性，其封装成本低，可大规模应用在工业中进行LED封装。

技术成熟度：技术突破 本成套设备，以电供暖的各个电暖气为控制对象，以建筑内不同房间不同区域的取暖温度为控制参数，自下而上，组成了由单片机现场控制器（控制室单独使用PLC控制器）、PLC中间层算法控制器、工控机为上位机构成监控界面的DCS控制系统，从而实现分散控制集中管理的控制系统。此系统的目的在于替换传统水暖系统，利用合理科学的软件算法，实现节能、环保、减排的效果。设备兼具教学、实验、科研及实用的功能。 成果技术特点：本套装置由四个单片机组成现场控制器，一个PLC组成的控制室控制器，与中间层面的S7-300PLC控制系统，以及顶层监控层的工控机装置，统一安装到了一个整体的平台上。此平台便于实地集中实验、研究，也有利于集中编程与项目演示。 图1 设备实物图 图2 为智能控制系统电脑操作界面

随着节水农业的兴起，滴灌、喷灌技术正被越来越广泛地应用。目前已建成的系统 首部，控制系统采用人工手动控制的较多，系统自动化程度低，且产品单一，而过滤器 作为系统首部的核心设备，用户急需技术含量高的产品。 针对以上问题，研制和开发了一套大田滴灌水力旋喷自动吸附网式过滤器及其控制 系统，克服了以往过滤器体积大，水头损失大、操作复杂的缺点，符合当代农业主的需 求。该技术产品具有不同60、80、100、120等不同目数和不同结构的过滤器产品，不仅 用于滴灌，还可以用于喷灌等灌溉方式，适应范围广。生产工艺成熟、产品质量稳定。

该项目发明了基于众核处理器的超大流量喷印数据实时并行处理引擎，实现1.7Gbps 超大流量数码喷印数据的实时处理，喷印速度达到 1055 平方米/小时；发明了基于视频的喷印过程实时监测与控制方法，实时监测 84992 个喷孔的堵塞状态，自适应地对喷印图像实时矫正；发明了基于图像质量评价模型的喷印图像质量缺陷自动检测方法，判定当前喷印图像是否存在缺陷，实时发出报警。项目共授权发明专利 29 项，其中美国发明专利 2 项；获软件著作权 7 项；发表 SCI/EI 论文 27 篇；发布国家纺织行业标准 1 项。行业权威期刊《Digital Textile》认为，该项目成果在喷印速度、喷印色彩等重要指标上达到国际领先水平。项目成果已出口到日本、意大利等 20 多个国家和地区，应用于国内外 200多家企业，近三年实现新增产值 3.07 亿元，出口创汇 9323 万元。行业权威咨询公司 WTiN 2015 年的市场分析报告中，该项目成果喷印的织物占全球市场 13%，为全球第二。

随着节水农业的兴起，滴灌、喷灌技术正被越来越广泛地应用。目前已建成的系统首部，控制系统采用人工手动控制的较多，系统自动化程度低，且产品单一，而过滤器作为系统首部的核心设备，用户急需技术含量高的产品。 针对以上问题，研制和开发了一套大田滴灌水力旋喷自动吸附网式过滤器及其控制系统，克服了以往过滤器体积大，水头损失大、操作复杂的缺点，符合当代农业主的需求。该技术产品具有不同60、80、100、120等不同目数和不同结构的过滤器产品，不仅用于滴灌，还可以用于喷灌等灌溉方式，适应范围广。生产工艺成熟、产品质量稳定。

本发明公开了一种电流体动力喷印同轴喷头，包括探针放置平台、喷嘴、支撑座、金属探针和唇套，所述喷嘴固定设置在探针放置平台上，所述支撑座安装在喷嘴上端，所述唇套套装在喷嘴下端的喷口上，所述金属探针上部针端套装在支撑座中心螺纹孔内，针体置于喷嘴内腔，针体轴线与喷嘴中心轴线同轴，且金属探针下部的针尖穿过所述唇套内的通孔并伸出于喷嘴外。本发明还公开了上述喷头在制备微纳米纤维中的应用。本发明可以提高墨液供给量的控制精度，通过更换唇套可以形成系列化喷头，解决较小内径喷嘴容易发生堵塞、较大内径喷嘴溶液容易自然滴落的