中试阶段/n透明导电薄膜是平台式材料，是光电产业上游重要产品。柔性透明导电薄膜可以用于大尺寸柔性触控，柔性显示与照明、薄膜太阳能电池，可穿戴设备等战略性新兴柔性光电子产业，解决陶瓷基透明电极面临主要成分的资源短缺和固有的脆性等不利因素，在相关领域取代ITO薄膜及金属网格。本项目开发从材料到薄膜加工工艺的全链条技术，开发一系列面向不同光电器件需求的产品。目前，团队通过第三方机构认证的样品透过率导电性耐弯折特性处于国际先进水平。目前，正在进行小试阶段的研发工作，高纯原料和部分装备可国产化。

透明柔性电子皮肤是一种基于少壁碳纳米管取向阵列/高分子复合薄膜的通用器件结构，能够监测人体关节的弯曲以及拉伸情况。在柔性高分子基底上平铺一层少数壁碳纳米管取向阵列的透明薄膜，再涂覆一层超薄的弹性高分子以形成表面光滑的碳纳米管复合材料，蒸镀上电极后即完成柔性电子皮肤的制备。测试弯曲电子皮肤的在不同电压下的电学特性，显示其为欧姆特性，而且电流大小与电子皮肤的弯曲角度呈现出高灵敏度、高度可重复的线性响应，即使弯曲上万次仍能保持

传统上多采用Ni/Au金属作为LED的电极，降低出光效率，因此，需要采用透明电极。针对LED对透明电极的要求，利用磁控溅射法在玻璃衬底上设计不同气氛、衬底温度、工作气压、溅射功率、靶距、溅射时间等参数下的实验制备CIO和ZAO薄膜，探寻制备两类薄膜的合适的工艺条件；并研究了退火处理对制备薄膜的结构和性能的影响。制备出高质量、高性能的CIO和ZAO薄膜，发现薄膜的透光率均在80%以上，甚至可高达91％，电阻率达到10－3Ω.cm数

产品详细介绍 OTM-650 数控加工中心   DK7732 电火花数控线切割机床   触摸屏数控电火花成型机   SYHC-850 数控加工中心   XK7132SD 数控铣床（生产型）   XK7132数控铣床（生产型）   BC-XK0824 数控铣床（教学/生产两用型）   BC-CK6150 数控车床（教学/生产两用型）   BC-CK6130 数控车床（教学/生产两用型）   BC-CK0635 数控车床(教学/生产两用型)   BC-CK0620 数控车床（教学/生产两用型）   BC-XK5025型立式升降台数控铣床   BC-240数控铣床(教学生产两用型)   BC-125A教学型数控铣床   BC-6136型透明数控车床   BC-6135型 液晶数控车床(透明教学数控车床)   XK125教学(生产两用)型数控铣床   BC-6132（教学/生产两用型）数控车床   BC-CNC6140型数控车床（教学生产两用型）   BC-6136型透明数控车床                BC-6136型数控车床是本公司最新研制的教学科研用数控机床。该机床是典型的机电一体化产品，除采用稳定可靠的华兴车床用数控系统外，硬件配置更具有相当的刚性、强度及制造精度；同时，其外形美观大方，主轴箱盖及防扩体均采用时口有机透明材料制作而成，使机床主要内部结构及传动线路一目了然，是各相关科研院所、高职学校及技术学校理想的实验设备。采用四工位自动回转刀架，通过编辑对各种轴尖，盘类等塑料零件能自动完成任务，如外圆术柱面、圆锥面、圆弧面、螺纹等工件的绿切削加工，并能进行切槽、钻孔等工作。 一、特点     1、稳定可靠的华兴专用车床数控系统；     2、全自动四工位数控回转刀架，能满足较复杂零件的刀具使用要求；     3、纵、横向精密滚珠丝杠进给，混合式步进电机驱动，重复定位精度高，转矩大；     4、采用高级变频调速电机驱动主轴，实现无级调速，保证切削线速度稳定；     5、操作方便舒适，符合现代人机工程学优化思想；     6、车削PVC材料时，采用空气（风）冷却，保持工作环境清洁，无工业污染；     7、外型美观大方，彰显实验场所品质。 二、用途  1、相关专业科研院所对现代加工（数控及CAD/CAM）技术研究的实践验证；  2、各类高等院校及中级技术学校的数控技术应用，机电一体化及自动控制专业学生的综合实验；  3、各类高等院校及中级技术学校的机制、模具及其他相关专业数控技术的课堂辅助教学和教学实训；  4、开展数控机床结构及控制原理、数控编程及机床操作、CAC/CAM等专业课程专项培训。 三、数控系统主要功能  1、国内唯一一家从外置到内核均与日本FANUC全面兼容的系统；  2、之系统采用硬件插补技术，快进速率可达12米/分；  3、具有程序记忆和预读功能，提前译码，使机床加工平滑流畅；  4、控制精度高，脉冲当量为1u(0.001mm)；  5、有串行RS232通讯接口功能，可与计算机联机通讯；  6、采用电子齿轮比，简化传动结构，提高机床工作精度；  7、系统具有软、硬件限位，保证工作安全；  8、采用多层印刷电路板技术，表贴技术，门阵技术等，使性能更优越，运行更可靠。 四、车床主要技术参数 产品说明：   三爪卡盘 ￠ 160mm 床身上最大回转直径 ￠ 360mm 最大工件长度 430mm 电动刀架 四工位 主轴转速、无级变速 100～1500rpm 主电动机功率 0.75KW 机床外形尺寸（长、宽、高） 1800×980 ×  1520mm 机床净重 BC-MW1320 万能外圆磨床   BC-M7130平面磨床   BC-GT428金属带锯床   BC-T68数显镗床   BC-Z3040 摇臂钻床   BC-B6050牛头刨床   JH-300型微型普通车床   JH-400型微型普通车床   BC-6130型普通车床   BC-1332型普通车床   BB25-1多功能工具机小型车床   普通模拟机床类   CA6140型普通教学车床（透明）   BC-3X数显普通铣床   BC-C6132A普通车床   BC-C6140A普通车床

透明质酸钠（sodium hyaluronate）又名玻尿酸，是一种酸性粘多糖，N-乙酰氨基葡萄糖胺和葡萄糖醛酸以β-1，3-糖苷键连接而成的二糖单体重复构建而成的杂多糖 。具有许多天然粘多糖共有的性质：呈白色，为无定形固体，无臭无味，有强吸湿性，溶于水，不溶于有机溶剂。

低辐射玻璃就是在玻璃表面形成一层低辐射薄膜。这层薄膜对可见光有较高的透过率，一般超过50%，而对室温下黑体辐射峰值波长10 ?m附近的远红外线有很低的辐射系数，或称发射系数、发射率等。这样就可以保证室内热量不会通过辐射传递的室外，也可在夏季阻止室外高温通过辐射传递到室内。配合以中空、真空玻璃和隔热窗框，可以达到节能效果。      几乎所有的透明导电膜都是低辐射膜，如常用的ITO（氧化铟锡）、AZO（掺铝氧化锌）、SnO2等。在可见光波段，光吸收非常小的Ag膜也可以构成低辐射膜，但需要在前后表面增加介质膜，抵消光反射。      按工艺技术，低辐射玻璃又分为离线镀膜和在线镀膜两类。在线镀膜指的是在浮法玻璃生产线的末端，增加一个CVD室，利用玻璃的高温使得气体分解形成一层氧化锡透明导电薄膜。氧化锡的辐射系数大约为0.2左右，远低于普通白玻璃的0.87。在线镀膜低辐射玻璃由于辐射系数高、透过率低、反射和透过光颜色调整范围小等因素，只能用在要求低的场合。其优点是抗氧化能力超强，而且耐磨性能好，可单层应用，国内在线镀膜低辐射玻璃生产线有数十条。离线镀膜低辐射玻璃指的是采用磁控溅射方法，在玻璃表面形成一层低辐射金属膜和相应的保护介质膜。这种低辐射玻璃的辐射系数低，可见光透过率高，颜色可以随意调整，因此得到广泛应用。离线镀膜低辐射玻璃的基本结构        常温下，黑体辐射的中心波长约10?m。在这个波长下，绝大部分金属的辐射系数都是非常低的，如Ag/Cu/Au/Al/Mo/W/Ta/Nb/Zr/Ni/Fe，都可以用到太阳能集热管中的低辐射层。能用于玻璃中的却只有Ag，因为只有Ag有很小的可见光吸收率。降低辐射系数的简单方法是增加银层厚度，但简单的增大银层厚度会导致可见光反射率大幅度增加。离线双银低辐射玻璃的结构      中间介质层较厚，两侧较薄，这就构成了双银低辐射玻璃。再增加一层银，还可以构成三银低辐射玻璃。由于银的折射率实部不是零，银层是有吸收的，银层双银和三银低辐射玻璃的辐射系数虽低，但光的透过率却大幅度降低。离线单银软膜结构      最早的低辐射玻璃结构，以氧化锌为介质层，其最大特点是，沉积速率快。因为折射率较低，可见光透过谱窄，一般采用双银结构来扩大谱宽。抗氧化能力低，须要24小时内封成中空结构。离线单银硬膜结构      第二代低辐射玻璃，特点是，采用等离子喷涂导电低价氧化物靶，靶材成本高。折射率高，可见光透过谱宽，单银就可以满足要求。采用双银或三银结构的效果更好，但透过率低得多，不适合民居。抗氧化能力较低低，也须要24小时内封成中空结构，基本不能钢化。      为了防止在上层氧化钛沉积中银层氧化，需增加一层约3nm的金属层，可用Cr或Ni等。该金属层使得辐射系数和透光率指标大幅度降低。可异地加工和钢化的硬膜结构      较晚出现的结构，采用SiAl靶反应溅射沉积，沉积速率与低价氧化钛靶相近。因为是非晶结构，抗氧化能力强，可以异地封接和钢化处理，也可非中空应用。高硅硅铝靶需要等离子体喷涂制备，成本高。透光谱性能和损耗相互矛盾，总体光学性能比氧化钛结构差。铝和硅都不能与氮气直接反应，氮气被电子碰撞后形成原子氮，可与铝或硅反应，这就要求气氛中氮含量很高，结果氮气电离比例较高，使得靶表面氮化，导致溅射速率大幅度降低，需要增加靶数，导致设备成本提高，电源功率提高。可异地加工和钢化的另一种结构      特点：最外面增加一层抗氧化的SiAlO，10纳米就足够了。金属靶反应溅射      采用纯金属靶进行反应磁控溅射是降低成本的最有效方法。在已知的常用金属中，锌族、钒族中的钽、钛族中的铪、铬族、锰族、铁族进行磁控反应溅射时，具有可以接受的速度，但其中只有氧化钽和氧化锌具有较好的耐压和介电特性。氧化钽的溅射产额可达到0.2，是可以接受免得。而具有很好绝缘和介电特性的氧化硅、氧化铝、氧化镁，氧化锆以及具有最大介电常数和折射率的氧化钛都难以用磁控反应溅射沉积。氮化硅产额可以达到0.12，尚可接受，但氧化硅只有0.03，约为硅的二十分之一。氧化钛和氧化铝都小于0.015，不到金属铝的百分之一，氧化镁更是小于0.005，不到镁的千分之一。各种材料的溅射产额 材料产额Ti0.6  (600V)TiO20.01 (300V)AI1.25 (600V)Al2O30.01 (300V)Si0.5  (600V)SiO20.03 (300V)Si3N40.12 (300V)      溅射沉积时，单质靶电压较高，而氧化物和氮化物靶电压较低，电压基本按实际情况列出。溅射过程      靶材为低价氧化钛，因此溅射气氛中需要的氧气含量低得多，靶表面溅射面积远小于衬底面积，因此一般不继续氧化，被溅射粒子以原子或分子形式飞向衬底，氧气分子可以向靶和衬底入射，将到达衬底的粒子充分氧化。       硅铝靶溅射中，正氮离子飞向靶面，将靶面氮化。被溅射粒子大部分以分子或原子形式飞向衬底。被溅射出的硅原子不能在空中与氮结合，大部分到达衬底后再与氮原子结合。由于硅和铝不能与氮分子反应，因此靶面必须完全氮化才能得到纯氮化物薄膜，导致溅射速率变慢。硅铝靶的另一个问题是高硅硅铝靶需要等离子喷涂方法制备，靶材成本远高于金属靶。拉制成型的合金靶材中，硅含量难以超过60%。高铝组分的硅铝靶溅射非常慢，而且折射率低，不能用于低辐射玻璃的制备。解决低硅含量硅铝靶的溅射沉积问题是一个大的挑战。         靶材为纯钛，被溅射粒子大部分已原子形式飞向衬底，氧气分子可以向靶和衬底入射，分别将靶面和到达衬底的粒子氧化。金属表面形成的氧化钛极难溅射，导致沉积速率极慢。低辐射玻璃面临的难题       到目前为止，低辐射玻璃，尤其是高档低辐射玻璃主要用于宾馆、写字楼、医院中。这类建筑中，单窗面积较大，窗框所占面积比例小，低辐射玻璃效果明显。此类建筑所需的玻璃呈现逐年缩减的趋势。扩大民居领域的应用，才是正路。民居的特点是单窗面积小，一般不会超过1平米，一般0.5平米。这种窗中，低辐射玻璃的节能效果并不明显，只有大幅度降低价格，才能与效果匹配。世界性难题       大面积衬底上，氧化镁、氧化铝、氧化钛等材料的金属靶反应磁控溅射被认为是一个解决不了的世界性难题，早已经没人尝试解决，转而寻求一些替代方法，如前面所述。       第一个解决该问题的人是我们，可追朔的上世纪80年代，但结果一直没有发表。首先发表此类结果的是皇明公司，他们解决了在高温集热管表面沉积氧化铝减反层问题，而且速度非常高。解决此问题的是一个刚出校门不久的女孩儿，初生牛犊不怕虎，硬试出来的。最初是尝试用铝靶反应溅射沉积氮化铝，从原理上讲，这是不可能的。氮化铝不行，就用氧化铝试试，结果就成功了。虽然减反射效果不如氮化铝，但可以用。集热管太阳能吸收膜沉积中，靶基距非常大，这是其成功的基本条件。由于不懂得其中的道理，仅限于在太阳能集热管这一特殊条件下应用，而不能推广到其它领域。圆柱形金属靶反应溅射的优势       如果能实现钛、锆、铝、硅等薄膜的金属圆柱靶反应磁控溅射，对薄膜产业的影响是革命性的，带来的好处包括：      （1）圆柱靶适合大面积衬底上薄膜沉积，适用于大规模生产。      （2）采用金属靶的成本远低于导电介质靶，构成降低成本的次要因素。      （3）可实现高速溅射沉积，设备规模减小，大幅度降低设备成本，是降低成本的首要因素。      （4）大幅度降低用电量，构成降低成本的次要因素。

该产品由我扬州大学以张瑞宏教授为首的团队经过十年的努力，攻克了许多技术难关，已完成了中试。 2005 年最终实现关键工艺上有所突破，特别是侧边封头工艺及一次性封接法在世界上处于领先地位，可大大简化生产工艺，大大降低生产成本。目前，根据扬州大学的生产工艺生产的真空平板玻璃可将其成本控制在 100 元/m2 左右。

产品详细介绍BY题词单反玻璃词 进口超薄介质光学玻璃 规格（8/15/17/19/21/寸） 单面清晰无虚影， 四边防震超薄膜 工作温度30-60度均可，玻璃厚度2mm 不宜在90℃