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乾立紫外杀菌灯UVR系列
深圳鹏翔智明光电科技有限公司
2021-08-23
乾立紫外杀菌灯AL系列
深圳鹏翔智明光电科技有限公司
2021-08-23
乾立紫外杀菌灯USL系列
深圳鹏翔智明光电科技有限公司
2021-08-23
UV3紫外透射分析仪
产品详细介绍1. 全封闭式暗箱和紫外防护板两种设计，方便客户根据实际需求选择2. 根据紫外透射面积不同分为三种型号：UV3A 150mm×100mm UV3B 150mm×200mm UV3C 200mm×200mm3. 双面抛光紫外玻璃厚度均匀，透射率高，观察时无灯管阴影、背景清晰4. 透射波长：312nm5. 采用高频电子控制，节能，启动快，无闪烁，有效延长灯管寿命6. 强力风扇散热，有效防止灯管热量对凝胶样品的影响7. UV3C增置254nm、365nm紫外光及可见光反射装置，满足更多实验要求8. 可选配LCD-240白光板，可见光透射面积240mm×240mm9. 内置220V电源插座，方便其它实验要求10. 暗箱式紫外透射仪预留CCD接口，可增置CCD和凝胶图像分析软件，进行定性或定量分析11. 外观设计精致，节约实验室空间12. 特别适合于科研实验室和教学实验室使用。
珠海黑马医学仪器有限公司
2021-08-23
GSG2000紫外和凝胶成像系统
产品详细介绍1. 全封闭式暗箱设计，可在明室观察、拍摄2. 130万像素低照度高分辨率CCD，信噪比≥70dB，具备软积分功能3. 日本大孔径6倍光学电动变焦镜头，∮52mm，变焦范围11.5~69mm，USB输出4. 专业紫外增强灯管，紫外光强度达到1000uw/cm25. 双面抛光西外玻璃厚度均匀，透射率高，观察时无灯管阴影、背景清晰6. 紫外透射面积：200mm×200mm，透射波长312nm7. 带254nm、365nm紫外及可见光反射装置8. 电动变焦镜头可通过软件控制光圈、对焦、图像放大或缩小等参数调整，操作方便，精度高9. 标配Hema GSG2000核酸/蛋白凝胶图像分析管理软件10. 图像分析和管理软件可提供多用户管理系统，方便进行实验结果的记录和管理，符合良好实验室标准11. 软件功能强大，界面简洁清晰，操作简便，全中文显示12. 高性价比，特别适合于科研实验室及教学实验室使用。
珠海黑马医学仪器有限公司
2021-08-23
紫外光耐气候试验箱
产品详细介绍
本系列设备参照塑料紫外灯光源曝露试验方法GB9344-88和GB/T9276-96《涂层色漆，清漆试验》设计制作，它广泛用于：橡胶，塑胶，油漆，石油化工，汽车，纺织等行业。
采用进口智能温湿度控制仪进行控温控湿，带PID调节、快速自整定，可设定多种参数，温湿度直接数字显示，读数极为方便；内胆材料采用高级不锈钢砂光板，外壳采用冷轧板静电喷塑，整体外形美观大方。
规格型号 CZ-200 CZ-320 CZ-400 CZ-350 CZ-560 CZ-630
工作室尺寸 400x1000x500 400x1000x800 400x1000x1000 400x1000x500 400x1000x800 400x1000x1000
灯管数量 4 4 4 8 8 8
温度范围 常温~十95℃
温度均匀度 ≤2℃
温度波动度 ≤±0.5℃
荧光灯型号 UV-A／UV-B
试样架 由优质SUS304；不锈钢材料制成
温度传感器 PT100温度传感器
使用环境温度 RT+15℃~35℃
使用环境湿度 ≤85％RH
电源 220V±10％50Hz
详情登录 www.dgzhongzhi.cn了解更多信息
广东众志检测仪器有限公司
2021-08-23
紫外线消毒机器人
自主规划路径
多模式室内无人驾驶技术
山东山速机器人科技有限公司
2021-08-26
基于混沌激光相干法的分布式光纤传感装置及其测量方法
一种基于混沌激光相干法的分布式光纤传感装置及其测量方法,是将混沌激光器发出的混沌激光分为探测光和参考光两路,探测光经过光放大器放大后由光环行器入射到传感光纤中,并在光纤中产生后向布里渊散射光信号,该布里渊散射光信号经光放大器放大后通过一个可调谐光滤波器滤除噪声后入射到光耦合器中;参考光通过可变光延迟线调节其光程距离,使其与探测光信号在传感光纤中不同位置处产生的后向布里渊散射光信号在光纤耦合器中发生干涉,由光电探测器探测获得干涉拍频信号,经过数据采集装置和信号处理装置后得到不同长度处的布里渊增益谱,并输出到显示装置,实现应变或温度传感检测.
太原理工大学
2021-04-13
中国科大实现基于粒子不可分辨性的量子相干生成和应用
基于全同粒子不可分辨性的量子相干性可以提高相位鉴别的成功几率，并且能与基于单个粒子相干叠加的相干性同时存在，因此将在具体的量子信息任务中获得应用。
中国科学技术大学
2022-06-02
14 纳米CMOS 量产工艺中光源掩模协同优化技术
已有样品/n微电子所先导中心韦亚一研究员团队与中芯国际研究团队围绕14 纳米CMOS 量产工艺中光源掩模协同优化技术开展联合攻关并取得显著进展，完成了后段制程中多层关键层的光源优化工作，包括Metal 1X、Metal 1.25X、Via 1X 等。优化后光源通过晶圆数据验证评估，较原有光源在各项关键指标上有显著提升，保证了先进节点中光刻工艺的稳定性。
中国科学院大学
2021-01-12