高频辉光放电等离子体化学气相沉积(PECVD)装置
PECVD(plasma enhanced chemical vapor deposition)—等离子体化学气相沉积,在化学气相沉积领域具有很好的前景。利用等离子体中大量高能量的电子,提供化学气相沉积过程所需的激活能,相对于其它CVD方法具有显著降低CVD薄膜沉积的温度等优点。包括辉光放电等离子体发生电源、气体质量流量计、真空计、分子泵等多个组成单元。可以在不同气压和气体环境下进行PECVD。 技术特点: 1)自主研发的等离子体发生电源可输出较大范围内幅值、频率可调的放电电压信号;2)可实现100~105 Pa不同气压以及不同气体环境,且通过气体流量精确控制实现在任一气压值稳定气压状态。 3)专用设计的反映腔体结构和水冷放电电极结构,可长时间、稳定地生成PECVD用辉光放电等离子体。腔体内部包含多种可调性测量结构,可以对生成的等离子体和PECVD过程进行多种形式的监测。 4)该装置根据产品化标准进行了多重安全性和人机互动性专门设计,符合产品要求。
北京交通大学
2021-04-13