成果简介造纸工艺中的高浓度废水成分复杂、 有机质极高， 难以达标处理， 导致部分中小型企业直接排放， 造成极大的环境污染问题。 所提出的复配混凝沉降+空气催化氧化+两级电催化氧化处理技术， 可以实现有机质的有效提质， 达成水资源和有机质的返生产循环消纳或是商品化高效利用目的。成熟程度和所需建设条件已完成实验室研发， 如下图所示； 在现有废水处理设备基础上加以改进即可。

利用有机发光二极管(OLEDs)中激发态的指纹式磁效应曲线作为一种灵敏高效的探测工具，物理科学与技术学院熊祖洪课题组在有机半导体明星材料¾红荧烯（Rubrene）中发现了一个有利于增强器件发光效率的激子演化通道，即激子的高能态反向系间窜越（High-Level Reverse Intersystem Crossing (HL-RISC)，T2®S­1®S0+hn）过程，并通过调控器件载流子浓度、工作温度、客体掺杂浓度以及控制器件结构对该HL-RISC通道的产生条件、正常与反常的物理行为表现以及如何实现高效率发光和低效率滚降等方面进行了详细探究。 OLEDs在平板显示和固态照明领域具有广阔的应用前景，尽管基于有机发光的手机显示屏和电视已开始市场化，但进一步提升其发光效率和延长其使用寿命仍然是该领域的两大研究方向。因理论上能够实现100%的内量子效率，具有常规RISC (T1®S­1)通道的热活化延迟荧光(Thermally-assisted delayed fluorescence, TADF)有机材料和具有HL-RISC (T2®S­1)过程的有机半导体是目前OLEDs领域的热点研究体系，这是由于无论是RISC还是HL-RISC都可以将占激子总数3/4的不发光三重态T激子转变成发光的单重态S激子，从而实现发光效率的成倍增强。显然，研究这些激子及其前驱体(precursor, 如极化子对(polaron-pair))和TADF材料以及激基复合物材料中电荷转移态(charge-transfer states)激子的形成机制及其演化规律对进一步认识OLEDs的器件物理和设计制造高效率OLEDs具有重要的科学意义和应用价值。近年来，熊祖洪课题组一直致力于采用有机半导体光电子器件中多种微观过程具有的指纹式磁效应(包括magneto-conductance、magneto-electroluminescence、magneto-photoluminescence以及magneto-photocurrent)曲线，系统深入地研究了多种有机光电子体系的器件物理并取得了一系列研究成果。

洁净厂房作为高洁净度生产场景的核心载体，其选址规划、厂区布局、主体建设与配套设施设计，直接决定了生产环境的洁净可控性与产品质量安全。为从源头规避污染风险、保障洁净生产体系长期稳定运行，结合行业合规要求与工程实践经验，对洁净厂房全流程建设核心要求进行系统化规范与细化明确如下： 一、洁净厂房选址核心要求 洁净厂房选址应遵循 “源头防控、合规优先、风险可控” 的基本原则，优先选择环境清洁、无显著污染隐患的区域，从地理区位上杜绝外源污染物对生产环境的侵扰，核心管控要求如下： 污染源防护距离管控洁净厂房选址应与各类有毒有害场所及其他污染源，保持不低于 25 米的最小卫生防护距离，确保生产环境不受外源污染物污染。其中污染源特指可能产生病原性微生物污染、严重危害性污染物的场所，主要分为三大类：一是工业扩散性污染源，包括化工厂、水泥厂、石材加工厂、石灰厂、冶炼厂、危险化学品生产仓储企业等，存在持续性粉尘、有毒有害气体、放射性物质及其他扩散性污染物隐患的场所；二是固体废弃物与环卫污染源，包括生活垃圾、工业固废的收集、存放、中转、处置全链条场所；三是生物性污染源，包括畜禽屠宰场、规模化畜禽饲养场、公共厕所、集中式污水处理设施等易滋生病原微生物、产生恶臭污染的场所。 选址环境底线要求厂区严禁选址于对食品、药品、精密元器件等生产产品存在显著污染风险的区域，厂区周边不得存在有毒废弃物处置点、持续性粉尘排放源、有毒气体扩散源、放射性物质存放点等无法通过防控措施消除的扩散性污染源。选址阶段应同步评估区域常年主导风向，优先将洁净厂房设置于污染源的常年主导风向上风向区域，避开下风向污染扩散带，最大程度降低大气污染物侵入风险。 不可规避污染源的防控要求若区域内各类污染源难以完全避开，必须开展专项污染风险评估，并配套设置可靠、有效的污染防范措施。包括但不限于设置全封闭物理隔离围挡、高密度防护林带、强化净化新风系统的多级过滤等级、调整新风取风口位置与高度等，经技术验证可彻底清除污染源对生产环境造成的影响，杜绝交叉污染风险后，方可开展后续建设工作。 二、厂区总平面布局与环境管控规范 厂区整体布局应遵循 “功能分区清晰、动线合理分离、污染全程防控” 的原则，实现厂区全域环境的闭环管控，核心要求如下： 功能分区与交叉污染防控厂区应按生产属性、洁净等级、使用功能，明确划分洁净生产区、辅助生产区、仓储物流区、办公生活区四大功能板块，各区域边界清晰、动线独立，严禁交叉设置。其中生活区与洁净生产区必须保持足够的防护距离或完全物理分隔，生活污水、生活垃圾处置设施、餐厨区域等，应远离洁净车间设置，杜绝生活源的生物性、化学性污染物向生产区域扩散。厂区人流、物流、污流应设置独立通道，顺向流转不折返、不交叉，从厂区全局规避交叉污染风险。 厂区全域环境与虫害防控厂区应保持全域环境整洁，无裸露垃圾、无积水洼地、无卫生死角，从源头消除鼠类、蚊蝇、蟑螂等病媒生物的孳生条件。生产场所周边不得设置易导致虫害大量孳生的潜在场所，若厂区周边存在此类风险源，必须配套设置全封闭物理隔离屏障、常态化虫媒监测体系与无害化消杀方案，确保洁净生产环境不受生物污染侵扰。 厂区道路与绿化管控厂区内主干道、支道及生产区周边道路，应全部采用混凝土、沥青等硬质材料铺设，路面平整密实、无破损、无扬尘、无积水，确保人流、物流运输过程不产生二次粉尘污染。厂区绿化应遵循 “防污染、防虫害、低干扰” 原则，绿化植被与洁净车间外墙、新风取风口应保持不小于 5 米的安全距离；优先选择无飞絮、无花粉扩散、易养护的常绿品种，严禁种植易滋生虫害、产生大量花粉 / 飞絮的植物。绿化区域应设置完善的灌溉与排水系统，定期开展修剪、养护与病虫害防治工作，杜绝绿化区域成为虫害孳生地与粉尘污染源。 三、厂房与洁净车间主体建设要求 厂房与洁净车间的建设规模、功能布局、洁净等级设计，必须与生产产品的品种、生产批量、工艺要求及行业合规标准完全适配，核心要求如下： 空间适配与作业区划分厂房应具备与生产规模相匹配的建筑面积与空间尺度，根据生产工艺流程、洁净度级别要求，合理划分洁净作业区、准洁净区、一般生产区、辅助作业区等功能区域。工艺布局应遵循 “由低洁净度向高洁净度逐级过渡” 的原则，减少洁净区域的非必要开口，各区域动线顺向不交叉，杜绝生产过程中的交叉污染。洁净车间的空间尺度应同时满足生产设备安装、人员操作、物料流转与净化系统运行的双重需求。 关键功能区域物理分隔厂房内设置的检验检测室、原辅料暂存区、成品仓储区、工器具清洗消毒区等，必须与生产作业区域（尤其是高洁净度生产区）进行严格的物理分隔。其中检验室应独立设置，与生产区域完全分隔，检验过程中产生的废液、废弃物、微生物培养物等，应设置专用的处置通道与无害化处理设施，严禁检验区域的污染物回流至生产区域，造成产品污染。 建筑结构基础规范厂房建筑结构应具备良好的密闭性、保温隔热性与结构稳定性，洁净车间的墙体、地面、顶棚应采用平整光滑、无裂缝、不积尘、易清洁消毒、耐腐蚀的合规材料，符合洁净生产环境的建筑规范要求。车间门窗应采用密闭性良好的材质，配套设置防虫、防尘、防鼠设施，洁净区域的门窗不得直接向非洁净区域开启，确保洁净环境的密闭可控。 四、净化系统配套空间与建筑条件专项要求 洁净车间的净化空调系统、送回风管路等核心设施，对厂房建筑本体条件有明确的专项要求，需在厂房设计与选型阶段同步规划、提前预留，保障净化系统稳定达标运行，核心要求如下： 车间层高与竖向空间预留洁净车间的楼层净高，需结合净化系统送回风管道管径、安装空间、吊顶内障碍物（消防管线、结构梁体等）的高度综合核算，楼层最低有效净高，即障碍物底部至地面的净距，必须满足通风管道安装、设备布置与后期检修的最小空间要求。送回风主管道的管径，需根据车间设计洁净等级、换气次数、所需总风量进行精准水力核算，同步预留管道保温、支吊架安装、检修操作的冗余空间，严禁因层高不足导致风管管径压缩、风量不足，进而影响洁净车间洁净度达标。常规非单向流洁净车间，吊顶内风管安装区域的净空高度不宜低于 1.2 米，车间完成面净高需同时满足生产设备安装与人员操作需求。 净化空调机组安装空间预留净化空调系统分为室外机组与室内洁净送风柜（空气处理机组 AHU）两大核心部分，厂房选型与设计阶段必须同步预留对应安装空间。其中，室外空调机组的安装位置，需具备良好的通风散热条件，远离粉尘、油烟、废气排放口与新风取风口，预留机组安装、检修、维护的充足操作空间，同时需提前规划机组运行的降噪减震措施，避免对周边环境与洁净车间造成振动与噪声影响。室内洁净送风柜应优先设置在专用的净化空调机房内，严禁直接设置在洁净生产区域内，机房位置应靠近洁净车间，缩短送风管路长度，降低风量损耗与冷量损失。 专用净化空调机房设计要求厂房总建筑面积规划中，除生产所需的洁净车间、辅助区域面积外，必须根据净化系统的冷量需求、机组规格、管路排布，预留独立、专用的净化空调机房。机房的面积、层高、承重荷载，需与空调机组、水泵、水箱、配电控制系统等设备的尺寸与运行参数完全匹配，同时预留设备检修、管路更换的操作空间。机房应设置完善的通风、排水、降噪、减震设施，满足设备长期稳定运行的环境要求，严禁将机房与生产区域、仓储区域合并设置，杜绝设备运行产生的粉尘、噪声、振动对洁净生产环境造成干扰。 送回风管路系统的建筑适配洁净车间的送回风管道布局，应在厂房建筑结构设计阶段同步规划，提前预留主管路的穿梁、穿墙孔洞，规避结构柱体、消防管线、给排水管线等障碍物对管路排布的影响。回风系统的设计需结合车间布局，合理设置回风夹道、回风竖井，预留对应的建筑空间，确保送回风系统的气流组织均匀，满足洁净车间的洁净度、温湿度、压差控制要求。 本规范所有技术要求，除满足上述条款外，还应符合《洁净厂房设计规范》GB 50073、对应行业生产质量管理规范（如食品生产通用卫生规范 GB 14881、药品 GMP 等）的国家现行标准要求，实现合规性、安全性与实用性的统一。

济南格非生物技术有限公司成立于2012年4月，是一家服务于生命科学领域的企业，专业提供涉及分子生物学、细胞生物学、生物化学、免疫学、食品药品检验、临床检验等相关领域的试剂、消耗产品、仪器的推广与销售。 公司目前拥有Corning、、依科赛、四正柏、硕华等国内外多个生物技术公司的一级代理权及分销权。客户遍布于细胞生物学、免疫学、农业、林业、生态等生命科学领域的高校、研究所、医院、疾病控制、检验检疫、药物研发、生物技术公司和食品工业等单位。现在已发展成为一家专业从事生物技术产品销售和生命科学技术服务的综合性生命科学公司，。      公司拥有一支以专业技术背景的管理、销售团队，公司以敢于创新、忠于服务、诚信经营为宗旨与理念，致力于服务生命科学领域的研究发展。我们将通过自己的努力使济南格非成为一支在齐鲁乃至全国生命科学领域都具有影响力的专业供应商和服务商。

成果的背景及主要用途： 我国环氧丙烷生产主要采用氯醇法，即：以丙烯、氯气为原料，经次氯酸氧 化制得氯丙醇，再经皂化制得环氧丙烷。该过程产生的废液主要组分为：50-85% （wt）1,2-二氯丙烷，5-20%（wt）双（- 2-氯异丙基）醚，1-10%（wt）环氧丙烷,1-15% （wt）氯丙醇，0-10%（wt）烯丙基氯，此外，还含有 1%（wt）左右的水和少 量的未知醛、酮等 30 余种组分。该废液占环氧丙烷总产量的 13%左右。 1,2-二氯丙烷是重要的化工原料，可以制备烯丙基氰、环氧丙烷、丙烯、四 氯乙烯、三氯乙烯、氯丙烯、1,2-丙二醇、1,2-丙二胺等多种化工产品。同时， 二氯丙烷可作为油漆的稀释剂，橡胶和树脂等的溶剂，农业用杀虫剂和熏蒸剂， 金属的脱脂剂和擦洗剂等，用途非常广泛。由于氯醇法环氧丙烷废液成分复杂， 因经济效益和工艺技术等原因，目前环氧丙烷废液中的二氯丙烷的回收尚未实现 工业化，同时因该废液颜色发黄且刺激性气味较大，国内各环氧丙烷生产厂家只 能将其作为低端溶剂销售或烧掉。随着环保要求日益严格以及商业竞争日益激烈， 从环氧丙烷废液中提取回收副产物二氯丙烷，可以大大减少污染、降低原料消耗 和能源消耗，从而增强企业的竞争力。 间歇精馏过程处理量小、操作复杂，操作人员劳动强度大，且整个过程塔顶 塔底温度随时间不断变化，精馏设备难以实现的自动控制。而共沸精馏方法中， 所采用的共沸剂为水，由于二氯丙烷在水存在的条件下会水解生产盐酸，因此在 精馏温度 60—100℃下，对设备腐蚀严重，同时共沸精馏产生大量废水。目前， 尚无从氯醇法环氧丙烷废液中提取 1,2-二氯丙烷的工业规模连续精馏分离方法 和装置的报道。天津大学科技成果选编 技术原理与工艺流程简介： 本工艺克服了已有技术存在的处理量小、操作复杂、精馏设备难以实现自动 控制，以及设备腐蚀严重并产生大量废水的不足，提供一种适合于工业生产的可 实现自动控制、连续运行、操作费用低、无设备腐蚀、提取装置简单而且高效的 从氯醇法环氧丙烷废液中提取 1,2-二氯丙烷的工业规模连续精馏方法及装置，所 得 1,2-二氯丙烷产品纯度可达 95-99%（wt），收率 90-95%。 此外，本课题组还可提供双-（2-氯异丙基）醚从从氯醇法环氧丙烷废液中 提取的工艺包。 目前该工艺已申请专利。 应用领域：环氧丙烷生产企业 技术转化条件：根据具体情况面议 合作方式及条件：根据具体情况面议

本发明提供了一种从源头治理、资源化处理含铬废渣污染的新思路新方法，解决了现有技术中铬渣处理消耗大、解毒效率不高、堆存过程铬缓释再氧化等问题。专利技术在一化控股（中国）有限公司、福建省（屏南）榕屏化工有限公司、东江环保公司、内蒙古兰太钠业有限公司等多家企业实施应用，产生经济效益高达2亿多，推动铬盐相关产业的发展。尤其是与一化控股（中国）有限公司合作，铬分离回收技术工艺在亚洲最大氯酸盐企业实现技术示范应用，首次实现铬渣变废为宝和全资源化利用，突破氯酸盐行业可持续发展瓶颈问题，节省处理费用1750万/年。获得“第十届国际发明展览会暨第三届世界发明创新论坛””发明创业奖*项目奖“金奖。

（专利号：ZL 201510409511.3） 简介：本发明公开了一种从焦化脱硫废液中提取硫氰酸钠的化学处理方法，属于工业废水处理技术领域。该方法具体步骤是：取HPF焦化脱硫废液加入适量ADA混盐，或者取ADA焦化脱硫废液加入适量HPF混盐，加入活性炭，加热到70‑80℃，搅拌1‑2小时，过滤后滤液加入硫酸至pH＝3.5‑4,加热至60‑70℃，搅拌2小时，过滤后滤液再加入氢氧化钙，加热至60‑70℃，搅拌1小时，过滤后滤液蒸发浓缩后冷却、过滤，过滤后固体料经干燥后得到工业一级品硫氰酸钠产品。本专利方法兼顾了HPF焦化脱硫废液与ADA焦化脱硫废液的综合利用，采用化学处理方法直接得到硫氰酸钠产品，方法简单易行，处理成本较低，产品质量优越。

本发明公开了一种高光谱图像端元个数自动估计的端元提取方 法，首先使用 PPI 算法计算高光谱图像中所有像元的 PPI 值，根据像 元的 PPI 值确定初始候选端元集，并对初始候选端元按 PPI 值由大到 小进行排序；然后依次剔除初始候选端元集中独立性最弱的候选端元， 同时获得随端元个数递减的候选端元集的重构精度曲线和端元独立性 曲线，通过寻找这两条曲线变化的显著性位置确定端元个数的取值范 围；最后利用 SGA 算法获取不同端元个数下的二次选择候选端元集， 根据这些候选端元集所构成的重构精度曲线，确定最终的端元个数， 同时获得最终的端元提取结果。本发明不需要事先给定端元的个数， 有利于端元提取的自动化处理，同时提取的端元准确性高。 

本发明公开了一种在低信噪比情况下提取设备物理指纹特征的方法，接收机接收到低信噪比的信号后，在不破坏设备物理指纹的情况下进行降噪处理，然后从降噪后的信号中提取设备的物理指纹特征，方法中涉及的信号需要包括重复序列，或重复发送的多帧信号内有不变的部分，包括步骤：接收到低信噪比信号后，估计信号的频率和相位，估计信号重复序列上调制的信息数据，获得极性相同的多个重复序列，并将其对齐和叠加以提高信噪比；最后通过物理层指纹提取方法提取设备的物理指纹并用于设备身份识别。本发明可以在信噪比低的情况下有效地提取设备的物理层指纹特征，有效地解决了基于设备物理指纹的设备识别方法在现实应用中必须面临的低信噪比问题。

【发 明人】郭立玮；朱华旭；刘陶世；付廷明；沈强【摘    要】本发明提供滁菊提取物、固体饮料、含片和食品添加剂及其制备方法，涉及功能食品领域。所述滁菊提取物的制备方法，包括如下步骤：(1)提取滁菊花的挥发油；(2)残留滁菊花药渣用水煎煮，取滤液，浓缩，喷雾干燥后获得喷干粉；(3)将所述挥发油与喷干粉混合后，获得滁菊提取物。本发明还要求保护所述方法制备的滁菊提取物、以滁菊提取物为活性成分的固体饮料、含片和食品添加剂。本发明制备滁菊提取物的方法，能够安全、高效的提取滁菊花中有效成分，成本低。本发明制备的滁菊提取物、以所述滁菊提取物为活性成分的固体饮料、含片和食品添加剂，含有大量的滁菊花有效成分，安全，不仅适用于普通健康人群，而且适用于儿童、肥胖和糖尿病。