产品详细介绍     YVR 系列激光转速表       激光具有高亮度，光线平行，频率特定的性质，可用作测量定位和搭载有用信号。搭配环境补偿功能，使转速表能抵抗较强的干扰和波动，使测量更精确。        如果需要精准、稳定地测量转速， YVR系列转速表是你的最佳选择。 性能特点 ◆ 多参数自动测量: 一次可自动完成; ◆ 测量参数时自动刷新，可选择存储及回放; ◆ 待机状态下延时 30 秒自动断电; ◆ 低电压报警指示; ◆ 具备光电式、转轴接触式多种测量方式; ◆ 四节七号电池低功耗供电，连续工作10小时以上，理论休眠待机时间三年; 技术参数 ◆ 测量精度: 转速全量程范围内: 0.01% 线速度:2% ◆ 光电方式测量距离： 5cm~500cm，距离10cm~50cm测量最佳; ◆ 角速度测量范围  0.01r/s~1666.6r/s 线速度测量范围  0.1cm/s~16666cm/s 检测项目 ●  轴旋转机件：角速度    ●直线运动机件：线速度 产品选型 YVR-1激光转速表 光电方式最大测量离50cm 不支持接触式测量 不支持延展测量探头 普通抗干扰性能 YVR-2激光转速表 光电方式最大测量距离500cm 支持接触式测量 不支持延展测量探头 普通抗干扰性能 YVR-2激光转速表 光电方式最大测量距离500cm 支持接触式测量 支持延展测量探头 增强的抗干扰性能 YVR-1激光转速表 光电方式最大测量离50cm 不支持接触式测量 不支持延展测量探头 普通抗干扰性能 YVR-2激光转速表 光电方式最大测量距离500cm 支持接触式测量 不支持延展测量探头 普通抗干扰性能 YVR-2激光转速表 光电方式最大测量距离500cm 支持接触式测量 支持延展测量探头 增强的抗干扰性能 YVR-1激光转速表 光电方式最大测量离50cm 不支持接触式测量 不支持延展测量探头 普通抗干扰性能 YVR-2激光转速表 光电方式最大测量距离500cm 支持接触式测量 不支持延展测量探头 普通抗干扰性能 YVR-2激光转速表 光电方式最大测量距离500cm 支持接触式测量 支持延展测量探头 增强的抗干扰性能

主要应用领域： (1)工业加工    激光对材料的加工效率取决于多种因素，其中主要包括激光的光束质量、功率和波长。光纤激光器由于优异的光束质量，同等激光功率水平下，其加工效率要远高于灯泵或者半导体激光器（LD）泵浦的固体激光器；大部分有机材料对1.5μm激光的吸收要强于传统的1μm激光，使用1.5μm激光加工材料可以显著降低能耗，提高加工效率。1.5μm连续和脉冲激光器适用于大部分有机材料的切割、焊接、钻孔、打标、刻槽等单点加工方式。 (2)遥感技术领域 1.5μm激光波长红外遥感技术在军事侦察，探测火山、地热、地下水、土壤温度，查明地质构造和污染监测方面都有广泛的应用。例如在军工方面，激光雷达的作用是能精确测量目标位置（距离和角度）、运动状态（速度、振动和姿态）和形状，探测、识别、分辨和跟踪目标。 (3)自由空间通讯领域    在自由空间通讯FSO（Free Space optical communication）领域的应用也迅速增长，1.5x μm激光波长具有高带宽、部署迅速、费用合理等优势。FSO技术以激光为载体，用点对点或点对多点方式实现连接；不需要光纤而是以空气为介质，因此又有“无线光纤”之称。在2000年悉尼奥运会上，Terabeam公司成功地使用FSO设备向客户提供100Mbit/s的数据连接。1.5μm波长尤为适用于海面目标、地面与卫星之间、公司或军队临时驻扎时使用。 (4)军工领域1.5x μm激光源也是产生3~5μm中红外激光的重要光源基础。3~5μm波长的中红外波段同样也是重要的大气窗口，是军用红外探测器的主要工作区域。红外制导导弹探测器(如InSb ,HgCdTe 等) 的响应范围在3～5μm波段，因而针对红外导引头的光电对抗迫切需要该波段的激光器件。在军事上，中红外激光器主要用于光电对抗以及生化战剂的探测，用中红外波段的多束激光，可以干扰红外热寻的导弹，摧毁在不同距离和高度的目标

本项目利用一种新型结构独特的兼具准直和选频功能的混合菲涅尔透镜衍射光栅光学元件来实现一种小型集成化、窄线宽的半导体激光器。结合混合菲涅尔透镜衍射光栅光学元件外腔技术，使激光线宽小于50 kHz水平，实现微型化的厘米长度的窄线宽相干激光光源的批量制备。

本发明公开了一种天吊式LED多光谱无影灯。它包括矩形导轨、无影灯灯头、送风天花、手术台；手术台上方设有矩形导轨、送风天花，送风天花设置在矩形导轨的内侧，矩形导轨、送风天花固定在天花板上，矩形导轨上设有多个无影灯灯头。无影灯灯头包括第一LED灯珠S1~第五LED灯珠S5、自由曲面准直透镜L、第一二向合色镜D1和第二二向合色镜D2。本发明实现照明角度的调节和水平的位移，提高了系统的无影率，简化了无影灯的安装程序。同时，该无影灯解决了以往LED手术无影灯会出现彩色影子的问题，提高了手术创面组织的可分辨能力。

光纤共聚焦显微光谱与成像装置是将光纤共聚焦光谱分析技术和显微光学成像技术相融合的细胞检测装置，此装置能够同时获得被测细胞的形态结构信息和反映细胞形态和成分特性的光谱信息，得到被测细胞定性、定量、定位的综合分析信息。 光纤共聚焦显微光谱与成像装置包括光源照明系统、光纤共聚焦光谱分析系统、显微成像和定位系统、数据分析系统，照明光源系统给光纤共聚焦光谱分析系统提供光源；光纤共聚焦光谱分析系统传输照明光照射细胞，开接收携带细胞信息的背向散射的光信号，获取光谱信息进入数据分析系统分析；显微成像和定位系统由照明系统照明，获得反映细胞形态和结构的图像信息进入数据分析系统；数据分析系统同时获取被测细胞的显微图像和反映细胞形态和成分特性的光谱信息。 光纤共聚焦显微光谱与成像装置结合光纤共聚焦技术、后向散射光谱分析技术和显微成像技术，提出了适用于同时获取特定细胞的显微图像和光谱信息的细胞检测装置，能够实时的获取细胞的综合信息。这就解决了目前技术不能够在细胞水平上获取特定位置的组织形态信息和光谱信息的技术问题。对于癌症除检测癌变细胞的显微形态信息外，同时获取相应细胞生化成分的光谱，光谱信息中既包括了形态变化对光的散射特性变化，也包括了细胞中成分变化导致的光吸收特性的变化信息，结合这两种检测技术的细胞分析装置，能及时发现细胞的早期癌变，以便对癌症实施全面而及时的诊断。而且，当前显微成像技术和CCD光谱技术都是比较成熟的检测技术，且CCD光谱技术可以进行实时分析，所以，本发明提供的装置利用现有先进技术，大大提高癌变细胞的检测精度，同时可以大大降低检测成本。

LaAgSb2，这是一种二维层状结构材料，分别在207 K和184 K发生两个电荷密度波相变。这两个相变对应的电荷密度波的调制波矢非常小（或者说实空间的调制周期非常大），尤其是高温对应的相变其超格子调制周期几乎接近原晶格周期的40倍。利用红外光谱，他们发现低频光电导谱存在显著的压制，揭示电荷密度波相变导致单粒子激发谱上有能隙打开，绝大部分自由载流子由于费米面上打开能隙而丢失。尤其有意义的是，利用超快泵浦探测他们发现低温存在两个集体激发模式，其能量尺度非常小，在低温极限下分别只有0.12 THz（～0.5 meV）和0.34 THz（～1.4 meV）。通过改变探测光波长等多种实验条件，他们确认这两个集体模式分别对应于两个电荷密度波相变的振幅子集体激发模式。这是首次在电荷密度波材料中观察到能量尺度如此之小的振幅子激发

本实用新型公开了一种用于运动伪影校正的空间光谱编码并行OCT系统。本实用新型在宽带光源和并行OCT系统之间加入了空间光谱编码模块，该模块沿光束扫描方向对宽带光源出射的宽带光谱进行空间光谱编码；本实用新型利用相邻两步扫描过程中，两个矩形照明区域的重叠区域所对应的数据进行基于互相关算法的运动伪影校正，来计算和补偿相邻次扫描过程中样品的随机运动量。利用相邻多步扫描过程所获得的多幅干涉光谱中对同一位置的不同编码光谱，拼接出该位置的完整光谱，完成空间光谱解码，从而恢复并行OCT系统的理论横向分辨率和轴向分辨率。本实用新型能够在保证原有并行OCT系统分辨率的同时，提供高精度、高准确度的样品随机运动量校正。

已有样品/n“十二五” 期间， 国家高技术863计划相关主题十分重视天光背景测量技术的研究。 在有关课题的支持下， 我所根据项目任务需求和学科发展的需要， 进行了太阳辐射和天光背景测量仪器的系统性技术开发和技术储备。 2013年完成了宽谱段天空背景辐射计的研制， 目前已在安徽合肥地区、 四川西昌地区、 广东茂名地区、 辽宁锦州地区以及吉林长春等全国多地开展天光背景实地测量研究， 为各种地基跟、瞄系统跟踪能力的评估提供了量化的数据支

光电探测器光谱响应测试系统及其测量方法，属于光学辐射定 标测量仪器及方法，解决现有测试系统成本昂贵且难以保证测量精度 的问题，以实现光谱响应的高精度测量。本发明的测试系统，包括正 弦调制光源、聚光透镜、单色仪、滤光片轮、暗箱、电机驱动电路， 微控制器控制电路、前置放大电路、正弦锁相放大电路、数据采集卡 和计算机，所述正弦调制光源为正弦调制的白炽灯、卤钨灯或 LED 光 源。本发明使用正弦调制光源，采用可编程器件实现正

本实用新型提供一种用于表面增强拉曼光谱检测的装置，包括盒体、开设在盒体上端的扫描窗口和 溶剂注入窗口，所述盒体底部嵌设有吸附层，所述的吸附层与溶剂注入窗口连通，所述的扫描窗口底部 设有浓缩层，所述浓缩层与吸附层连通，所述的盒体顶部设有封闭盖 A 和封闭盖 B，分别用于封闭溶剂 注入窗口和扫描窗口，所述的盒体底部设有底盖，用于封闭吸附层，所述的吸附层为多孔材料，所述的 浓缩层为表面具有密集排列微纳米阵列的吸附垫，结构中，在微纳米阵列前端的表面上沉