产品详细介绍 真空熔炼炉  产品说明 一、设备用途本产品主要供大专院校、科研单位及生产企业在真空或保护气氛条件下对金属材料（如不锈钢、镍基合金、铜、合金钢、镍钴合金、稀土钕铁錋等）的熔炼处理，也可进行合金钢的真空精炼处理及精密铸造。二、主要技术参数：1.电源功率：100KW2.额定电压：380V3.中频电压：375V4.最高温度：1700℃5.中频频率：1500-2500Hz（频率自动跟踪）6.坩埚容量：25Kg（钢液）7.极限真空度：6.67×10-3Pa8.压升率：4Pa/小时三、结构说明本产品由炉盖、炉体、炉底、坩埚回转机构、真空系统及中频电源控制系统等组成。炉盖、炉体及炉底均采用双层水冷结构，保持炉壳温度不超过60℃。炉盖打开方式为手动，炉盖上设有观察孔及挡板，为便于熔化过程中添加合金元素，炉盖上特设有合金加料器。炉体内有一感应线圈，通过手动转动炉外手柄可轻松将坩埚内熔液浇入锭模，锭模可设计成水冷形式。坩埚上部设有一测温装置。真空系统采用二级泵，即K-300油扩散泵与2X-70机械泵，机械泵上设有电磁放气阀避免停电后返油。真空机组上设有放气阀及充气阀。中频电源可选择KGPS可控硅或IGBT、全数字电路等，电气系统设有过流、过压返馈及保护电路。集成电源 

产品详细介绍在科学实验过程中，有些物质在大气状态下极易氧化和潮解，这使得试验物质的化学反应及样品的前级处理非常困难，影响了试验过程和测试结果。真空手套箱（又称真空惰性气体操作箱）有效地解决了这些问题，该装置可使试验样品能够安全的放进和取出，并在无氧无水状态下自如的操作、反应和测试，确保了科学试验的正常进行。该产品是高等院校、科研单位、企业实验室开展科学实验的理想装置，广泛应用于生化、冶金、电子、化工、地质、矿产、医药等。一、 手套箱内水氧含量在400~1000ppm的，可选用真空手套箱，采用抽真空充保护性气体的置换方式，置换快、用气省，比较经济实用。真空手套箱也可以采用常压充、排气的方式进行气体置换，采用常压充排气的方式比较费时废气，但可以采用充排气的方式维持手套箱的气体氛围。二、 手套箱内水氧含量要求在1ppm以下的实验，建议在选用真空手套箱的同时，配置除氧除水系统，以进一步深度除氧除水，并维持手套箱的气体氛围。主是对O2，H2O，有机气体的清除，气体介质：N2、Ar、He等惰性气体。保证了系统高效运作和低能源消耗。主要技术指标CLX-1真空手套箱箱体材质：SUS304不锈钢，厚度：6mm过渡室真空度：-0.1MPa 箱体真空度：-0.1MPa过渡室尺寸（单位：mm）：Φ220×250箱体尺寸（单位：mm）：600×500×650保压时间：20小时以上手套口直径：Φ145mm以上使用气体：氩气、氦气、氮气（纯度99.95％以上）可以根据实验需要加装各类加热控温以及其它等设备CLX-2真空手套箱箱体材质：SUS304不锈钢，厚度：6mm过渡室真空度：-0.1MPa 箱体真空度：-0.1MPa过渡室尺寸（单位：mm）：Φ280×350箱体尺寸（单位：mm）：800×650×700保压时间：20小时以上手套口直径：Φ145mm以上使用气体：氩气、氦气、氮气（纯度99.95％以上）可以根据实验需要加装各类加热控温以及其它等设备CLX-3真空手套箱 箱体材质：SUS304不锈钢，厚度：6mm过渡室真空度：-0.1MPa箱体真空度：-0.1MPa过渡室尺寸（单位：mm）：Φ340×400箱体尺寸（单位：mm）：1200×700×1120保压时间：20小时以上手套口直径：Φ145mm以上使用气体：氩气、氦气、氮气（纯度99.95％以上）可以根据实验需要加装各类加热控温以及其它等设备  特点：  *不锈钢结构、抗腐蚀、易清洗、无污染。*观察窗为30毫米厚有机玻璃，视角广阔。*箱内配照明灯泡，克服了箱外照明箱体内有死角的缺点。 *箱内配备多孔电插座，方便进行科学试验。*箱内可进行局部加热。*操作手套采用厚乳胶手套，密封可靠。*操作箱内最高正压：0.06MPa*所有规格均可根据用户要求定做。敬告：*禁止在真空状态下打开舱门、手套口压盖或进行拆卸检修。*内置电源为220V、50HZ、1KW。*手套应先于或同时于箱体抽真空，后于或同时于箱体停止抽真空。*外接气源管件应适配、接插应密封牢靠，充气时不宜超过零压即1个大气压。

产品详细介绍主要技术指标1、练泥产量：30Kg/h；2、电源及功率：AC380V/2.2KW；3、真空度：-0.096MPa；4、练泥轴转速：25r/min；5、出泥口大小：∮55mm；6、出泥含水率：19～21%。

北京维意真空技术应用有限责任公司，原名北京科立方真空技术应用有限公司，创立于2013年6月，主体经营分为真空配件销售、真空设备定制、浅蓝纳米科技三个部分，是北京从事真空产品设计、制造、销售、维修、保养于一体的性的公司，公司拥有一支、产品技术工程师和维修技术工程师，具有丰富的行业经验。        公司于2016年初至2017年末，陆续投入大量研发资金，针对等离子增强化学气象沉积设备、原子层沉积设备和高低温真空探针台设备，以及附属配件进行了系统、深入的研发、改进工作。竭尽所能满足高校、研究所的教学、科研使用，同时减少相关进口设备的市场占有率，并力争创造外汇，打出中国创造的名牌!        我们的客户遍布国内各高校和研究院所、部分军工单位和电力试验所、各级的材料、物理、化学、纳米等研究领域的实验室，期待您就是我们的下一位客户、朋友!        您的满意微笑是我们一直努力追求的经营目标!        维意真空，为您服务，唯你成就是我们的宣传口号!        技术创新、服务诚信是我们一直遵循的经营理念!        我们热诚欢迎国内外先进的仪器制造商及科学工作者与我们联系开展各层面的合作,打造成的真空系统产品、等离子体增强化学气相沉积设备、原子层沉积设备和高低温真空探针台设备供应商。

本发明公开了一种微流控芯片组件，包括微流控芯片以及罩盖在微流控芯片上的盖片，所述微流控芯片上设有中心加样口、围绕中心加样口的若干周侧加样口以及将若干周侧加样口分别与中心加样口导通的流道；所述盖片上设有与所述中心加样口和周侧加样口对应的通孔；所述微流控芯片与罩盖转动配合，所述盖片具有保证微流控芯片上所有加样口与所述通孔对应导通的加样工作位，以及封堵所有周侧加样口的封装工作位；所述微流控芯片与盖片之间设有拨片，该拨片用于在盖片处于封装工作位时遮盖所述中心加样口。本发明的微流控芯片组件整体结构简单，使用方便，仅通过简单的旋转即可实现微流控芯片工作状态的切换，封装和打开非常方便，实用性较强。

基于自主路径规划的光伏板表面自适应无水清洁技术。面向光伏板壁面全方位清洁检测的基本需求，针对光伏板表面结构化环境，研究并设计自适应路径规划算法，解决光伏板表面自适应清洁与缺陷检测死角问题，切实提高光伏板表面清洁度与表面检测范围，实现光伏板表面全面深度清洁与检测，最大化降低发电效率损失。 一、项目进展 创意计划阶段 二、负责人及成员 姓名 学院/所学专业 入学/毕业时间 学号 苟益鹏 机器人产业学院/ 2020/2024 20497214 李川 机器人产业学院/自动化 2020/2024 20416216 张涵琳 机器人产业学院/自动化 2020/2024 20461106 三、指导教师 姓名 学院/所学专业 职务/职称 研究方向 徐淑玲 机器人产业学院 院长 智能制造 戴昌志 机器人产业学院 指导老师 人工智能 四、项目简介 目前市面上的清洁车无法做到完全无人化值守，我们希望能解决清洁车全自动化清洁问题。 基于自主路径规划的光伏板表面自适应无水清洁技术。面向光伏板壁面全方位清洁检测的基本需求，针对光伏板表面结构化环境，研究并设计自适应路径规划算法，解决光伏板表面自适应清洁与缺陷检测死角问题，切实提高光伏板表面清洁度与表面检测范围，实现光伏板表面全面深度清洁与检测，最大化降低发电效率损失。同时研究使用与光伏板表面的无水清洁技术，实现光伏表面的无水清洁，减低水资源使用，提升系统应用对环境的友好性。

包括柱塞、球头杆、滑靴、防松销钉、密封盖、密封圈和填充 芯棒，沿柱塞的纵向设置有通孔;球头杆上设置有与柱塞的螺纹通孔 配合的外螺纹;滑靴包括内滑靴和外滑靴;球头杆穿过外滑靴后通过 所述外螺纹连接在所述柱塞的内螺纹上;所述密封盖设置于所述柱塞 内，并且其与所述球头杆的方形头接触;所述填充芯棒填充在所述柱塞的通孔内并且与所述密封盖远离所述球头杆的一端接触。本发明的 滑靴由内滑靴和外滑靴组合而成，加工制造简单，难度小。

MS-246小型多靶磁控溅射镀膜机 真空腔室：1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，上开盖和前开门结构；真空系统：机械泵+分子泵（进口和国产可选）；极限真空：优于8✕10-5Pa（设备空载抽真空24h）；真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min；升降基片台：尺寸直径100mm，高度60～120mm可调，旋转0～20r/min可调，可加热至300℃（可选水冷功能），可选配偏压清洗功能；磁控靶：直径2英寸2只（可升级成3只），兼容直流和射频，可以溅射磁性材料的靶材；溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选；质量流量计：10sccm、50sccm质量流量控制器各1套；膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪；控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空；整机尺寸：L60cm✕W60cm✕H96cm机电一体化机架，预留1个CF35法兰接口。

EV-246小型电阻蒸发镀膜机真空腔室：1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，上开盖和前开门结构；真空系统：机械泵+分子泵（进口和国产可选）；极限真空：优于8✕10-5Pa（设备空载抽真空24h）；真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min；基片台：可拆卸式，尺寸60✕60mm，旋转0～20r/min可调，可加热至300℃（可选水冷功能）；蒸发源及电源：水冷铜电极3组，逆变式蒸发电源，功率2KW，配源间防污隔板；膜厚监控仪：采用国产或进口膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚；控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空；整机尺寸：L60cm✕W60cm✕H96cm机电一体化机架，预留1个CF35法兰接口。

真空涂层技术起步时间不长，国际上在上世纪六十年代才出现将 CVD（化学气相沉积）技术应用于硬质合金刀具上。由于该技术需在高温下进行（工艺温度 高于 1000ºC），涂层种类单一，局限性很大，起初并未得到推广。到了上世纪七十年代末，开始出现 PVD（物理气相沉积）技术，之后在短短的二、三十年间 PVD 涂层技术得到迅猛发展，究其原因： （1）其在真空密封的腔体内成膜，几乎无任何环境污染问题，有利于环保； （2）其能得到光亮、华贵的表面，在颜色上，成熟的有七彩色、银色、透明色、金黄色、黑色、以及由金黄色到黑色之间的任何一种颜色，能够满足装饰性的各种需要； （3）可以轻松得到其他方法难以获得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂层、复合涂层，应用在工装、模具上面，可以使寿命成倍提高，较好地实现了低成本、高收益的效果； （4）此外，PVD 涂层技术具有低温、高能两个特点，几乎可以在任何基材上成膜，因此，应用范围十分广阔，其发展神速也就不足为奇。真空涂层技术发展到了今天还出现了 PCVD（物理化学气相沉积）、MT-CVD（中温化学气相沉积）等新技术，各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。