产品详细介绍主要技术指标1、练泥产量：30Kg/h；2、电源及功率：AC380V/2.2KW；3、真空度：-0.096MPa；4、练泥轴转速：25r/min；5、出泥口大小：∮55mm；6、出泥含水率：19～21%。

产品详细介绍在科学实验过程中，有些物质在大气状态下极易氧化和潮解，这使得试验物质的化学反应及样品的前级处理非常困难，影响了试验过程和测试结果。真空手套箱（又称真空惰性气体操作箱）有效地解决了这些问题，该装置可使试验样品能够安全的放进和取出，并在无氧无水状态下自如的操作、反应和测试，确保了科学试验的正常进行。该产品是高等院校、科研单位、企业实验室开展科学实验的理想装置，广泛应用于生化、冶金、电子、化工、地质、矿产、医药等。一、 手套箱内水氧含量在400~1000ppm的，可选用真空手套箱，采用抽真空充保护性气体的置换方式，置换快、用气省，比较经济实用。真空手套箱也可以采用常压充、排气的方式进行气体置换，采用常压充排气的方式比较费时废气，但可以采用充排气的方式维持手套箱的气体氛围。二、 手套箱内水氧含量要求在1ppm以下的实验，建议在选用真空手套箱的同时，配置除氧除水系统，以进一步深度除氧除水，并维持手套箱的气体氛围。主是对O2，H2O，有机气体的清除，气体介质：N2、Ar、He等惰性气体。保证了系统高效运作和低能源消耗。主要技术指标CLX-1真空手套箱箱体材质：SUS304不锈钢，厚度：6mm过渡室真空度：-0.1MPa 箱体真空度：-0.1MPa过渡室尺寸（单位：mm）：Φ220×250箱体尺寸（单位：mm）：600×500×650保压时间：20小时以上手套口直径：Φ145mm以上使用气体：氩气、氦气、氮气（纯度99.95％以上）可以根据实验需要加装各类加热控温以及其它等设备CLX-2真空手套箱箱体材质：SUS304不锈钢，厚度：6mm过渡室真空度：-0.1MPa 箱体真空度：-0.1MPa过渡室尺寸（单位：mm）：Φ280×350箱体尺寸（单位：mm）：800×650×700保压时间：20小时以上手套口直径：Φ145mm以上使用气体：氩气、氦气、氮气（纯度99.95％以上）可以根据实验需要加装各类加热控温以及其它等设备CLX-3真空手套箱 箱体材质：SUS304不锈钢，厚度：6mm过渡室真空度：-0.1MPa箱体真空度：-0.1MPa过渡室尺寸（单位：mm）：Φ340×400箱体尺寸（单位：mm）：1200×700×1120保压时间：20小时以上手套口直径：Φ145mm以上使用气体：氩气、氦气、氮气（纯度99.95％以上）可以根据实验需要加装各类加热控温以及其它等设备  特点：  *不锈钢结构、抗腐蚀、易清洗、无污染。*观察窗为30毫米厚有机玻璃，视角广阔。*箱内配照明灯泡，克服了箱外照明箱体内有死角的缺点。 *箱内配备多孔电插座，方便进行科学试验。*箱内可进行局部加热。*操作手套采用厚乳胶手套，密封可靠。*操作箱内最高正压：0.06MPa*所有规格均可根据用户要求定做。敬告：*禁止在真空状态下打开舱门、手套口压盖或进行拆卸检修。*内置电源为220V、50HZ、1KW。*手套应先于或同时于箱体抽真空，后于或同时于箱体停止抽真空。*外接气源管件应适配、接插应密封牢靠，充气时不宜超过零压即1个大气压。

产品详细介绍 真空碳管炉  ◎产 品 说 明  设备特点：  真空碳管炉主要供大专院校、科研单位在真空或保护气氛条件下对无机材料（如功能陶瓷、透明陶瓷、碳化硅、氧化锆、氧化锌、二氧化铝等）及金属材料（如硬质合金）等进行烧结处理。  技术参数：  1、型号：ZT-25-20  2、 额定功率：25KW3、最高工作温度：2000℃  4、工作区尺寸：直径90x120  5、极限真空度：6.67x10-3Pa6、温度控制：热电偶+红外自动控制  结构说明：  本产品是由炉体、炉盖、炉底、真空系统及电气控制系统等组成，占地小，易于搬运。  1、炉盖、炉体及炉底均采用双层水冷结构，保持炉壳温度不超过60℃.打开炉盖装料，炉体内有用碳毡或金属隔热屏做成的保温层，发热元件采用石墨筒。炉体侧部设计有观察窗及热电偶，以便进行温度分段自动控制，及1700℃以下采用钨铼热电偶，1000℃-2000℃采用红外传感器。  2、真空系统采用二级泵，及K-159油扩散泵与2XZ-8D直联泵，真空机组上设有放气阀及充气阀。  3、电气控制采用大电流变压器、调压器及温度控制仪表组成温度控制执行回路。电路设有断水、过流、超温报警及保护功能。 

产品详细介绍 真空钼丝炉  产品编号：Cx005  ◎产品说明  设备特点：  本电炉为立式结构，适用于金属材料在高真空，高温条件下进行退火、钎焊、烧结、除气处理，同时也适用于石英材料的脱羟处理。  技术参数：  型号 名称 额定功率 最高工作温度 工作区尺寸 极限真空度  ZM-25-16 真空钼丝炉 30KW 1600℃ Ф150×200 <3×10-3Pa  ZM-36-10 真空钼丝炉 36KW 1000℃ Ф300×400 <3×10-3Pa  ZM-40-16 真空钼丝炉 40KW 1600℃ Ф200×280 <3×10-3Pa  ZM-45-15 真空钼丝炉 45KW 1500℃ Ф340×400 <3×10-3Pa  ZM-45-16 真空钼丝炉 45KW 1600℃ Ф340×400 <3×10-3Pa  ZM-66-12 真空钼丝炉 66KW 1200℃ Ф350×600 <8×10-4Pa  产品采用专业技术生产制造的特点：  1. 独有的加热元件布置结构，炉温均匀好，寿命长。  2. 独有的保温结构，节能性，长寿命。  3. 独有的一体化水、电联接结构，具有故障低，调试快。维护方便的特点。  4. 独有的快冷方式，能快速降低炉温，提高生产效率。从1000℃降到100℃只需1个多小时。  5. 模拟操作界面及PLC适应生产需要，故障低，自动化程度高，是连续生产产品品质的保证。 

产品详细介绍 ZN-20真空纳米收集炉 一.说明： 纳米粉末收集炉是在真空或充保护气体状态下，利用中频感应加热的原理实现金属与坩埚熔炼蒸发，然后利用一旋转装置收集纳米级粉末的设备，节能、产量高、粉体粒度尺寸可控、设备操作简单，设计新颖，是科研院校以及科研单位实验室理想的制备纳米粉末的设备，可以实现真空收集及真空密封。 二.主要技术参数：1.额定功率：20KW2.额定温度：1800℃3.容量： 500g4.极限真空度：5X10-3Pa5.压升率：≤4Pa/h 6 电源：中频电源IGBT 三、结构说明 本产品由炉盖、炉体、旋转收集装置、充气系统、真空系统及高频电源控制系统等组成： 1、炉体： 为全不锈钢设计，炉壳采用双层水冷结构。 2、旋转收集装置：炉体上设有旋转收集装置，呈扇形状。收集器的内侧设有粉末收集刀，旋转的同时把纳米粉导入收集瓶中。 3、真空系统： 采用二级泵，即k150油扩散泵与2XZ-8D 直联泵。真空机组上设有放气阀及充气阀。 4、炉架：由型钢钢板组焊成柜架结构，炉体安置在炉架上。 5、水冷系统：由各种阀、管道等相关装置组成，并设有断水时声光报警、自动切断加热电源功能。 6、加热电源：电源采用最新技术（IGBT模块），整套电源相当于一台电脑主机般大小，外观小巧、节能环保。

产品详细介绍 真空熔炼炉  产品说明 一、设备用途本产品主要供大专院校、科研单位及生产企业在真空或保护气氛条件下对金属材料（如不锈钢、镍基合金、铜、合金钢、镍钴合金、稀土钕铁錋等）的熔炼处理，也可进行合金钢的真空精炼处理及精密铸造。二、主要技术参数：1.电源功率：100KW2.额定电压：380V3.中频电压：375V4.最高温度：1700℃5.中频频率：1500-2500Hz（频率自动跟踪）6.坩埚容量：25Kg（钢液）7.极限真空度：6.67×10-3Pa8.压升率：4Pa/小时三、结构说明本产品由炉盖、炉体、炉底、坩埚回转机构、真空系统及中频电源控制系统等组成。炉盖、炉体及炉底均采用双层水冷结构，保持炉壳温度不超过60℃。炉盖打开方式为手动，炉盖上设有观察孔及挡板，为便于熔化过程中添加合金元素，炉盖上特设有合金加料器。炉体内有一感应线圈，通过手动转动炉外手柄可轻松将坩埚内熔液浇入锭模，锭模可设计成水冷形式。坩埚上部设有一测温装置。真空系统采用二级泵，即K-300油扩散泵与2X-70机械泵，机械泵上设有电磁放气阀避免停电后返油。真空机组上设有放气阀及充气阀。中频电源可选择KGPS可控硅或IGBT、全数字电路等，电气系统设有过流、过压返馈及保护电路。集成电源 

 微弧离子镀（Micro-arc Ion Plating，MAIP）技术有机融合了多弧离子镀和磁控溅射离子镀的优点，主要面向于精密制造领域的高端薄膜制备。微弧离子镀工艺因具有离化率高、绕镀性好、均匀性好、基片温升低等特点，是各种精密制品理想的表面改性工艺；以此技术开发的纳米氮化物系列超高硬度镀层、碳基非晶自润滑镀层、硫化钼基低摩擦系数镀层等在机械行业得到了广泛的应用。

微弧离子镀（Micro-arc Ion Plating，MAIP）技术有机融合了多弧离子镀和磁控溅射离子镀的优点，主要面向于精密制造领域的高端薄膜制备。微弧离子镀工艺因具有离化率高、绕镀性好、均匀性好、基片温升低等特点，是各种精密制品理想的表面改性工艺；以此技术开发的纳米氮化物系列超高硬度镀层、碳基非晶自润滑镀层、硫化钼基低摩擦系数镀层等在机械行业得到了广泛的应用。

产品详细介绍真空原位分析表征系统是为红外光谱吸附态表征和催化剂酸性测定设计的专用真空系统，配有石英红外吸收池，可以与Bruker、Nicolet、PE、Shimadzu、Jasco、Varian\Bio-Rad等主要红外光谱仪连接使用，进行氨、吡啶、一氧化碳、一氧化氮、甲醇、乙醇等小分子化合物的化学吸附测定。具体应用吸附态研究和催化剂的表征　　红外光谱已经广泛应用于催化剂表面性质的研究，其中最有效和广泛应用的是研究吸附在催化剂表面的所谓“探针分子”的红外光谱， 如：NO、CO、CO2、NH3、C3H5N等，, 它可以提供在催化剂表面存在的“活性中心”信息。用这种方法可以表征催化剂表面暴露的原子或离子, 更深入地揭示表面结构的信息。与其它方法相比较, 这样的红外研究所获得的信息只限于探针分子（或反应物分子）可以接近或势垒所允许的催化剂工作表面。 CO吸附态研究　　由于CO具有电子受授性质，未充满的空轨道很容易同过渡金属相互作用。CO同许多重要的催化反应有密切关系。如羰基合成、水煤气合成、氧化等。并且具有很高的红外消光系数。因此, 在过渡金属表面吸附态的研究是一个十分广泛的研究课题。 双金属原子簇催化剂的研究（红外光谱方法研究催化剂表面组成和相互作用）利用两种气体混合物吸附在双组元过渡金属催化剂上通过红外光谱侧其吸附在不同组元上吸收带强度的方法可以测定双金属载体催化剂的表面组成。例如：CO和NO混合气吸附在Pt-Ru/SiO2上的红外光谱测定Pt-Ru/SiO2催化剂的表面组成。催化剂红外酸性测定 氧化物表面酸性的测定　　酸性中心一般看作是氧化物催化剂表面的活性中心。在催化裂化、异构化、聚合等反应中烃类分子和表面酸性中心相互作用形成正碳离子, 是反应的中间化合物。正碳离子理论可以成功地解释烃类在氧化物表面上的反应, 也对酸性中心的存在提供了强有力的证明。为了进一步表征固体酸性催化剂的性质, 需要测定表面酸性中心的类型（L酸、B酸）、强度和酸量。利用红外光谱研究表面酸性常常利用氨、吡啶、三甲基胺、正丁胺等碱性吸附质, 其中应用比较广泛的是吡啶和氨利用红外光谱研究固体酸。 氧化物表面羟基的研究 红外光谱应用于反应于反应动态学研究 催化剂原位表征高真空系统解决的问题　　由于红外光谱方法本身存在一定的局限性。　　1) 利用透射方法研究载体催化剂, 由于大部分载体低于1000cm, 就不透明了,所以很难获得这一范围的许多重要信息。　　2) 金属粒子不同的暴露表面边、角、阶梯、相间界面线等,分子吸附在所有这些中心上的光谱都可对测得的光谱有贡献, 因而解释起来有困难。　　3) 由于催化反应过程中, 在催化剂表面上反应中间物浓度一般都很低,寿命很短（尤其是反应活性的承担者）, 红外光谱的灵敏度和速度不够高。　　4) 红外光谱只适用于有红外活性的物质。　　随着光谱技术的发展, 这些局限性将通过真空系统克服。系统基本情况　　一套用于催化剂原位表征的真空装置及红外原位测量系统，配备红外吸收池统。 提高真空系统的性能使其在较短的时间内达到测量需要的中高真空度。主要技术指标　　1. 样品处理开始后样品池中真空度应在30 分钟内达到10-5 Torr；　　2. 样品测量过程中各样品可同时或分别进行吸附或脱附探针分子；　　3. 由于测量所需探针分子为酸性或碱性分子，高硼硅玻璃材质避免了相互污染；　　4、真空处理系统由机械泵与玻璃四级扩散泵串联组合抽气，达到客户对测试池中高真空的要求，抽速快，体积小,低噪音，操作简单，使用方便的特点,并且价格适中。　　5、低真空部分主要是抽出系统中的高浓度气体或吸附的残余气体。　　6、各部分节门选用高硼硅玻璃节门，满足系统高真空的要求，透明性操作，便于调试。　　7、真空测量仪使用数显高精密真空计。　　8、本系统配备透过式石英红外吸收池，采用透射模式，可对样品进行陪烧、流动氧化还原、抽空脱气、吸附反应等处理过程，可随时移入或移出到红外光谱仪的光路中进行实验，也可利用配备的延长管路进行原位表征和实验。其加热方式可采用程序升温方法控制温度的升降，也可使用调压变压器对温度的升降进行控制，使用温度可以高达450度，标准配置的吸收池窗口为CaF2，工作区间为4000—1200波数之间，用户也可按照需要自性配置其他材料的窗口。　　9. 样品测量过程中各样品可同时或分别进行预处理、吸附、脱附探针分子或更换样品。　　10. 波纹管更换方便。　　11．为满足客户的要求真空系统可做相应改变。配置单序号 设备名称 数量高真空装置 1.1 机械泵 1 1.2 玻璃油扩散泵 1 1.3 真空计 1 1.4 压力规表头 1 1.5 吸附阱、冷却室、管道、真空工作架、玻璃节门、电控标准连接件等 1测量系统 2.1 石英样品池 1 2.2 温控装置 1 2.3 操作手册 1

产品详细介绍 小型真空碳管炉  产品编号：52310445116  ◎产品说明  设备技术：  本电炉为周期作业式，广泛用于功能陶瓷、光学材料、碳复合材料、硬质合金、粉末治金等高温下进行烧结处理，也可在充气保护下成型烧结。  技术参数：  1、型号：ZT-18-22  2、额定功率：18KW  3、额定温度：2200℃  仪表控温精度：正负1℃  5、控温方式：钨铼热电偶+红外衣  工作区尺寸：直径80x100mm  7、冷态极限真空度：5x10-3 Pa  8、压升率：2Pa/h  9、电源电压：380V 50Hz 单相  10、充气压力：<0.03Mpa（可充氮气、氩气）  11、发热元件：石墨管（高纯石墨）  结构与说明：  1、炉体：采用双层水夹层结构，"内层为不锈钢（1Gr18N9Ti）抛光。上、下法兰组焊筒形结构，法兰平面开设封闭槽。采用“0”圈真空密封，并设有水冷装置（防止因温度过高“0”圈老化）。开设有抽气、热电偶、红外仪等。  2、炉盖：采用双层水夹层封头结构，设有观察窗，屏蔽锁紧、开启装置，并通水冷。  3、炉底：采用双层水夹层封头结构，设有电极引出装置，支撑平台等，并设有水冷装置。  4、炉架：山型钢及钢板组焊成箱式结构，炉体安装放在箱体内，美观大方。  5、真空系统：又一台K-100扩散泵配冷阱，一台2XZ-8D直联泵、手动高真空蝶阀、真空压力表（Pa）、充气阀、放气阀和真空管路等组成，扩散泵采用金属波纹软管快速接头联接（减缓震动），真空度的测量采用数显复合真空计。  6、控制系统PLC控制：控制系统是由我公司自行开发人机对话操软件，画面显示友好，操作简单，要以炉内工况进行实时监测，软件彩色模拟屏显示，加热升温显示及真空阀门的控制都集成到电脑上操作，现场也可以手动操作，需要电脑操作时，直联由232接口连接到笔记本电脑上启动软件，可检测到各种状态，也可通过485通讯连接到办公室操作，本设备可采纳温度、真空度曲线和烧结时间，方便用户根据历史曲线分析烧结工艺。控温方式为1300℃以下热电偶升温。1000℃-2200℃红外仪表自动控制。压力控制可采用手动及自动方式。控制系统上设有过流、超温及断水等分类报警功能。  7、气路系统：整个系统中设有1个j进气口、1个放气口、可冲气氛。  8、电气控制：采用各种管道阀等相关装置组成，具有断水声光报警自动切断电源能。  9、变压器及连接电缆：采用与之相匹配的变压器及连接电缆。  10、发热元件及隔热屏：发热元件采用高纯石墨加工成圆筒形结构，隔热屏采用石墨复合材料、碳毡、石墨毡，保温性能好、加热均匀、辐射面大、耐冲击性好，可快速加热和冷却。保温层和发热分体，易维护和取装，保温套外用不锈钢框架支撑，固定。