真空井点降水方法，可应用于地下水位较高的施工环境中，已成为土方工程、软土 加固、地基与基础工程施工中的一项重要技术措施。这种方法通过将基土水分疏干，促 使土体固结，提高地基强度，进而减少了基底土隆起、土坡土体侧向位移与沉降，可消 除流砂、稳定边坡。真空降水基本原理是在基坑开挖前，预先在基坑四周埋设一定数量 的滤水管（井），在基坑开挖前和开挖过程中，利用真空原理，不断抽取地下水，使井 点周围的地下水位下降，形成降水漏斗，从而使大面积原有地下水位降低，并且在工作 过程当中要保持每天 24 小时连续抽水，使地下水位降低并使降落曲线保持稳定。因此， 真空降水技术以其成本较低、设备简单、容易进行施工操作等优点，得到了广泛应用。 但是降水效率仍然是现实设计施工中急需解决的问题。对于透水较弱的地基来说，其降 水速率很慢，往往会影响到其加固效果和工期。根据上海地区过去进行的野外抽水试验 总结资料，当降低水位深度大于 10m 且土层渗透系数小于 0.1m/d 时，常见降水方法均 不能达到要求。为此，本专利技术在传统真空降水技术基础上，向深层土体注入压力气 体，增强驱水压力梯度，提高降水速率，扩展真空降水技术的适用范围。 图 1 示意了注气在真空降水工程中的应用原理。从装置上看，该降水新方法是在传 统的真空降水方法的基础上，增设一种用于向土体内部注入压力气体的装置，形成一种 新型的注气式真空降水方法。该处理方法仅仅在原有的真空降水系统基础上增设了注气 系统，所以其实施较为方便。其降水系统主要由两部分组成：注气系统和传统的真空降 水系统。真空降水系统主要由真空泵 5、井点管 6、滤头 7 组成，注气系统主要由供气 装置 1、注气管 2、注气嘴 3 和贯入头 4 组成。注气嘴（白色段）与贯入头（灰色段） 均为可拆卸的，注气管、注气嘴和贯入头顺次相接，贯入头利于注气装置插入土体。注 气嘴直径比两端的注气管、贯入头都小，中间细、两头粗，这可避免在注气装置贯入土 体过程中土体把注气嘴的注气孔堵塞。注气管插入土体的深度由注气嘴的位置要求决定。 由于气体容易往上走，所以埋设中，注气嘴位置应当低于井点管底部，其深度差异一般 取井点管间距的 0.5～2.0 倍。注气系统的目的是提高真空降水效率，所以注气管与井 点管在平面布置上尽可能错开布置，注气管安装在井点管之间的中心位置。 图 1(a)示意了注气式真空降水系统的操作原理。当压力气体注入到土体内部时，气 体会在土中向四周扩散，占据土中孔隙，将土中的水推向远处。图中深灰色部分表示土 层中含水较多的区域。由于井点管底部附近有着了较大的负压，所以注入土体中的气体 更容易往井点管方向扩散，同时迫使该区段的土中水快速向井点管移动，实现快速排水。 如果适当增加注气压力，那么土体还可能产生劈裂，出现放射状的微细裂缝，这将加大 土体的透水性，加速土中水向井点管移动，从而提高了排水效率。同时，由于源源不断 地向土体内部注入压力气体，所以势必在注气嘴附近形成较大区域的非饱和土区域，这 将十分有利于地基强度的增加。

该成果 2016 年获教育部高等学校科学研究优秀成果奖二等奖。中国月-季节尺度降水预测是短期气候预测中的一个难点和重点，我们提出了一种基于动力-统计相结合的客观定量化的气候预测新理论，充分吸收了动力学和统计学方法的优点，为提高月-季节降水预测准确率提供了一种新思路。

发现由人为活动产生的气溶胶可显著抑制华南四月中尺度对流系统的发生频次，进而显著减少降水，并阐释了其物理机制。此发现解释了近40年来华南四月降水减少的原因。 研究团队首先分

EV-400高真空金属有机蒸发镀膜机 真空腔室：前开门真空腔体，方便取放基片、更换钨舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护保养； 真空系统：国产分子泵作为主抽泵，真空极限优于5.0✕10-5Pa（经烘烤除气后）；另可选进口磁悬浮分子泵或是低温泵作为主抽泵，真空极限优于3.0✕10-6Pa（经烘烤除气后）； 真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min； 蒸发源：4～6组欧美技术金属或是有机束源炉蒸发源可选，多源共蒸获得复合膜/分蒸获得多层膜，功能强大，性能稳定； 蒸发电源：真空专业蒸发电源，恒流/恒功率控制。电流、功率可预先设置，可实现一键启动和停止的自动控制功能； 基片台：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；基片台公转，转速0～20r/min连续可调； 基片台功能：衬底可选择加热（室温～300℃可调可控）或水冷，基片台可选升降，源基距最大350mm； 溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选； 膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪； 可镀材料：可沉积金属（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金属、化合物（MoO3、LiF等）及有机材料，可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜； 控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。

HMDS真空预处理烘箱产品用途:该产品主要用于半导体行业，HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。     一、产品规格： 型号：BD/HMDS-6090   内形尺寸：450×450×450     型号：BD/HMDS-6210   内形尺寸：560×640×600   二、 技术参数： 1、控温范围：RT+10～250℃  2、温度分辨率：0.1℃     3、温度波动度：±1℃ 4、达到真空度：小于133Pa 5、真空度：100Pa～100000Pa 6、定时范围：1～9999min 7、工作室材料：316L 8、样品架：2块、3块 9、真空泵：4L/S 10、电源电压：220V/50Hz、380V/50Hz三相五线制 11、总功率：3000W、4500W 三、产品特点： 1、外壳采用冷轧钢板制造，表面静电喷塑。内胆、样品机、连接管路均采用优质不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。 2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。 3、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。 四、HMDS预处理系统操作流程： 1、首先确定烘箱工作温度； 2、预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充入氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分; 3、再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应; 4、当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。 五、控制系统： 1、7.0英寸维纶彩色触摸屏，三菱PLC控制器； 2、富士微电脑双数显温度PID控制器，控温精确可靠； 六、保护系统： 1、漏电保护； 2、超温保护； 3、缺液保护；              七、设备使用条件： 1、环境温度：5℃～＋28℃（24小时内平均温度≤28℃） 2、环境湿度：≤85%R.H 3、操作环境需要室内通风良好,机器放置前后左右各80公分不可放置东西; 八、HMDS真空预处理烘箱服务承诺： 保修十二个月，免费送货上门,在对该设备安装调试结束后,在用户现场对相关技术人员免费做相应的操作培训,人数不限。

MS-450高真空多靶磁控溅射镀膜机 真空腔室：直径450✕H400mm，1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，前开门结构； 真空系统：机械泵+分子泵（进口和国产可选）； 极限真空：优于5✕10-5Pa（经烘烤除气后）； 真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min； 升降基片台：2～6英寸基片台，靶基距60～120mm连续在线自动可调，旋转0～20r/min可调，可加热至500℃（可选水冷功能），可选配偏压清洗功能； 磁控靶：直径3英寸2～4只（可升级成直径4英寸靶2～3只），兼容直流和射频，可以溅射磁性材料的靶材； 溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选； 质量流量计：2～3路工艺气体，可根据工艺要求增加； 膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪； 控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空。

北京台式真空干燥箱 产品用途：该产品广泛应用于生物化学，化工制药、医疗卫生、农业科研、环境保护等研究应用领域,作粉末干燥、烘培以及各类玻璃容器的消毒和灭菌用,特别适用于对干燥热敏性、易分解、易氧化物质和复杂成分物品进行快速高效的干燥处理。    台式系列:                                                                         DZF-6021    内形尺寸300×300×275:mm   外形尺寸605×490×450:mm   RT+10℃～200℃DZF-6051    内形尺寸415×370×345:mm   外形尺寸730×560×550:mm  (冷扎板内胆1层搁板) DZF-6020    内形尺寸300×300×275:mm   外形尺寸605×490×450:mm   RT+10℃～250℃ DZF-6020D                                                        (不锈钢内胆1层搁板) DZF-6030    内形尺寸320×320×300:mm   外形尺寸630×510×490:mm   RT+10℃～250℃  DZF-6030D                                                        (化学专用不锈钢内胆1层搁板) DZF-6050                                                          RT+10℃～250℃DZF-6050D   内形尺寸415×370×345:mm   外形尺寸730×560×550:mm  (不锈钢内胆2层搁板)DZF-6053                                                         (不锈钢内胆3层搁板) DZF-6020B   内形尺寸300×300×275:mm   外形尺寸605×490×450:mm  RT+5℃～65℃DZF-6030B   内形尺寸320×320×300:mm   外形尺寸630×510×490:mm  (生物专用不锈钢内胆1层搁板)DZF-6050B   内形尺寸415×370×345:mm   外形尺寸730×560×550:mm  (生物专用不锈钢内胆2层搁板) DZF-6250    内形尺寸700×600×600:mm   外形尺寸1050×760×910:mm   立式系列: DZF-6090    内形尺寸450×450×450:mm   外形尺寸610×660×1400:mm  RT+10℃～250℃DZF-6090D                                                        (不锈钢内胆2层搁板独控)                                                                           DZF-6210    内形尺寸560×600×640:mm   外形尺寸720×805×1680:mm  RT+10℃～250℃DZF-6210D                                                        (不锈钢内胆3层搁板独控)   一、技术参数: 1.控温范围：RT+10～200℃ 、250℃ 、RT+5℃～65℃ 2.温度分辨率：0.1℃     3.恒温波动度：±1℃ 4.达到真空度：小于133Pa 5.工作室材料：优质不锈钢板 6.定时范围：0～9999min 7.电源电压：220V/50Hz 二、产品特点: 1.带定时功能数显微电脑温度控制器,控温精确可靠; 2.长方体工作室,使有效容积达到最大; 3.钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然; 4.箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶密封圈确保箱内高真空度; 5.工作室采用不锈钢板（或冷扎板）制成,确保产品经久耐用; 三、设备使用条件: 1.环境温度：5℃～40℃（24小时内平均温度≤28℃） 2.环境湿度：≤85% 四、北京台式真空干燥箱服务承诺：保修十二个月,免费送货上门，终身维护

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产品详细介绍适用于在真空条件下对物品进行真空干燥、烘焙、熔腊、灭菌、固化、热处理等，广泛应用于工矿企业、科研院所、大专院校、医药卫生等单位。按工作温度分普通型和高温型，控温方式有自动恒温型和精密程序控温型，工作室尺寸有多种规格，内胆有冷钢板和不锈钢两款。主要技术参数1、最高温度：250℃；2、电源及功率：AC220V/500KW；3、测温：K分度号热电偶+数显智能控温仪；4、控温：数显自动恒温；控温精度：±2℃；5、真空度：-0.1MPa；6、内空尺寸：∮350×400mm；7、冷钢板内胆。

本发明公开了一种基于神经网络的反演大气可降水量的MODIS模型改进方法，包括以下步骤：S1：利用MODIS三通道比值法反演大气可降水量PWV，记为PWVMODIS；S2：利用BP神经网络建立测站处的纬度φ、测站处的高程h、年积日doy、PWVMODIS与测站GPS/MODIS反演的PWV残差RES之间的非线性关系；S3：对BP神经网络模型进行训练；S4：将φ、h、doy以及PWVMODIS作为输入参数代入BP神经网络模型，并计算出GPS测站处PWV残差RESBP；S5：利用RESBP补偿PWVMODIS，获得大气可降水量PWV＝PWVMODIS+RESBP。本发明有效提高了建模精度。