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碳-60结构模型
宁波华茂文教股份有限公司
2021-08-23
碳-60结构模型
产品详细介绍碳-60结构模型
广州市展科教学仪器有限公司
2021-08-23
《科技支撑引领青海碳达峰碳中和实施方案》印发实施
《实施方案》以贯彻落实习近平总书记视察青海时提出的“青海要在实现碳达峰碳中和方面先行先试，为全国能源结构转型、降碳减排作出更大贡献”重大要求和党的二十大精神、省第十四次党代会精神为指导，以经济社会发展全面绿色转型为引领，以产业结构和能源结构调整为关键，构建符合青海省省情定位的绿色低碳技术创新体系，支撑青海省实现碳达峰碳中和目标。
青海省科技厅
2023-02-09
能源消费与碳排放现状、预测及低碳发展路径选择研究
北京工业大学
2021-04-14
折叠式包装纸裹包设备
本发明公开了一种折叠式包装纸裹包设备。本发明机架中心水平安装有工作台机构，工作台机构一侧方安装有用于顶面压紧的丝杠电机机构，另一侧方安装有上下折叠运动机构；工作台机构包括槽式工作台，机架中心固定安装有两根水平平行排列的长导轨，槽式工作台底部套接在长导轨上并沿长导轨移动，两根长导轨两端部附近均设有限位夹；工作台机构后方的机架上装有后支架机构，后支架机构上装有两个后电机运动机构和两个左右折叠运动机构。本发明通过电机带动曲柄连杆及同步带，带动折叠板折叠包装纸包装礼盒；可以完成对一定尺寸的礼盒的自动包装，调节方便、操作简单；适合礼品店对礼盒的包装，以及自动礼物贩卖机等需要无人自动包装的场合。
浙江大学
2021-04-11
并行程序性能监测工具包
针对集群和多核服务器平台，该软件工具集可以对系统资源和并行程序性能进行在线监测和性能分析展示，帮助用户监测系统资源和发现并行程序瓶颈，辅助进行程序优化。性能数据的采集主要是通过对被监测进程的插桩和包装库的结合实现，可对MPI程序、OpenMP程序和CUDA程序进行性能监测。 本项目主要特点如下。 1.合理的数据采集方式，可以对混合结构高性能计算系统进行性能监测，较少的监测扰动； 2.基于MRnet的树形数据汇聚和类库，保证了大量性能监测数据的快速高效汇集，并提供同步，汇总等功能接口； 3.多种数据分析统计方法，高效的分析和多视角可视化图形展示，辅助用户分析瓶颈进行优化。该成果在国家863计划支持下，已在多个计算中心应用，获得国家专利3项。
北京航空航天大学
2021-04-13
一种三氢化铝表面包覆改性方法
本发明公开了一种三氢化铝表面包覆改性方法，采用原子层沉 积技术在三氢化铝粉末表面沉积纳米厚度的金属氧化物或金属物质将 其包覆，以提高三氢化铝粉末热稳定性，包括，S1：将三氢化铝粉体 放入腔体内并抽真空；S2：加热腔体到设定温度且温度均匀稳定后， 通入流化气，使三氢化铝预分散；S3：原子层沉积反应，当腔体内的 温度达到 50～130℃时，开始原子层沉积反应；S4：重复多次原子层 沉积反应，使粉体表面沉积厚度不断增长，通过控制沉积反应循环的 次数从而控制在三氢化铝粉体表面沉积的金属氧化物或金属的厚度，
华中科技大学
2021-01-12
一种荧光粉胶的涂覆方法
本发明公开了一种荧光粉胶的涂覆方法，属于 LED 封装领域，其采用压印方式对 LED 芯片进行荧光粉胶涂覆，包括 S1 将 LED 芯片固定在封装基板上；S2 将荧光粉胶涂覆在所述 LED 芯片上或者所述压印块的端面上，将所述压印块与所述 LED 芯片通过压印方式贴合一起；S3 待荧光粉胶在所述压印块和所述 LED 芯片之间稳定成形后，对所述荧光粉胶进行固化处理获得荧光粉层，实现荧光粉胶的涂覆。本发明方法操作简单，成本低，可灵活控制荧光粉胶形貌，从而提升LED封装光色一致性，其封装成本低，可大规模应用在工业中进行LED封装。
华中科技大学
2021-04-13
全自动LED荧光粉高均匀涂覆机
荧光粉涂覆是大功率白光LED的关键技术，也是保障LED发光效率、光均匀性和散热效果的关键工艺。目前，国内大功率LED封装荧光粉涂覆普遍采用点胶工艺，该工艺难以对荧光粉的涂覆厚度和形状进行精确控制，导致出射光色彩不一致，出现偏蓝光或者偏黄光。在广东省新兴战略产业重大专项支持下，华南理工胡跃明团队经过多年技术攻关，自主发明和研制了系列基于雾化喷涂机理的全自动荧光粉高均匀涂覆机，为国内首创。该系列机型采用多头雾化涂覆和自适应荧光粉涂敷厚度控制技术，实现了荧光粉的高速高均匀涂覆，保障了光色的均匀性。
华南理工大学
2021-04-14
一种三氢化铝表面包覆改性方法
本发明公开了一种三氢化铝表面包覆改性方法，采用原子层沉积技术在三氢化铝粉末表面沉积纳米厚度的金属氧化物或金属物质将其包覆，以提高三氢化铝粉末热稳定性，包括，S1：将三氢化铝粉体放入腔体内并抽真空；S2：加热腔体到设定温度且温度均匀稳定后，通入流化气，使三氢化铝预分散；S3：原子层沉积反应，当腔体内的温度达到 50～130℃时，开始原子层沉积反应；S4：重复多次原子层沉积反应，使粉体表面沉积厚度不断增长，通过控制沉积反应循环的次数从而控制在三氢化铝粉体表面沉积的金属氧化物或金属的厚度，实现三氢化铝粉体
华中科技大学
2021-04-14