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乾立智能热成像测温机器人
深圳鹏翔智明光电科技有限公司 2021-08-23
植物表型成像分析系统(植物自动传送版)
产品详细介绍 PlantScreen植物表型成像分析系统(植物自动传送版)   PlantScreen植物表型成像系统由捷克PSI公司研制生产,整合了LED植物智能培养、自动化控制系统、叶绿素荧光成像测量分析、植物热成像分析、植物近红外成像分析、植物高光谱分析、自动条码识别管理、RGB真彩3D成像、自动称重与浇灌系统等多项先进技术,以最优化的方式实现大量植物样品——从拟南芥、玉米到各种其它植物的全方位生理生态与形态结构成像分析,用于高通量植物表型成像分析测量、植物胁迫响应成像分析测量、植物生长分析测量、生态毒理学研究、性状识别及植物生理生态分析研究等。作为全球第一家研制生产植物叶绿素荧光成像系统的厂家,PSI公司在植物表型成像分析领域处于全球的技术前列,大面积叶绿素荧光成像分析功能使PlantScreen成为植物表型分析与功能成像分析的最为先进的仪器设备,使植物生长、胁迫响应等测量参数达100多个。 左图为整套PlantScreen系统,中图为成像室,右图为成像室中的玉米 PlantScreen系统包括如下成像分析功能:   1. 叶绿素荧光成像分析:单幅成像面积35x35cm,成像测量参数包括Fo, Fm, Fv, Fo’, Fm’, Fv’, Ft, Fv/Fm, Fv’/Fm’, Phi_PSII, NPQ, qN, qP, Rfd等几十个叶绿素荧光参数 2. RGB成像分析:成像测量参数包括: 1) 叶面积(Leaf Area: Useful for monitoring growth rate) 2) 植物紧实度/紧密度(Solidity/Compactness. Ratio between the area covered by the plant’s convex hull and the area covered by the actual plant)   3) 叶片周长(Leaf Perimeter: Particularly useful for the basic leaf shape and width evaluation (combined with leaf area)) 4) 偏心率(Eccentricity: Plant shape estimation, scalar number, eccentricity of the ellipse with same second moments as the plant (0...circle, 1...line segment)) 5) 叶圆度(Roundness: Based on evaluating the ratio between leaf area and perimeter. Gives information about leaf roundness) 6) 叶宽指数(Medium Leaf Width Index: Leaf area proportional to the plant skeleton (i.e. reduction of the leaf to line segment)) 7) 叶片细长度SOL (Slenderness of Leaves) 8) 植物圆直径(Circle Diameter. Diameter of a circle with the same area as the plant) 9) 凸包面积(Convex Hull Area. Useful for compactness evaluation)   10) 植物质心(Centroid. Center of the plant mass position (particularly useful for the eccentricity evaluation)) 11) 节间距(Internodal Distances) 12) 生长高度(Growth Height) 13) 植物三维最大高度和宽度(Maximum Height and Width of Plant in 3 Dimensions) 14) 相对生长速率(Relative growth rate) 15) 叶倾角(Leaf Angle) 16) 节叶片数量(Leaf Number at Nodes) 17) 其它参数如用于植物适合度估算的颜色定量分级、绿度指数(Other parameters such as color segmentation for plant fitness evaluation, greening index and others) 3. 高光谱成像分析(选配),可成像并分析如下参数: 1) 归一化指数(Normalized Difference Vegetation Index (NDVI)) 2) 简单比值指数(Simple Ratio Index, Equation: SR = RNIR / RRED) 3) 改进的叶绿素吸收反射指数(Modified Chlorophyll Absorption in Reflectance Index (MCARI1), ?Equation: MCARI1 = 1.2 * [2.5 * (R790- R670) - 1.3 * (R790- R550)]) 4) 最优化土壤调整植被指数(Optimized Soil-Adjusted Vegetation Index (OSAVI)?, Equation: OSAVI = (1 + 0.16) * (R790- R670) / (R790- R670 + 0.16)) 5) 绿度指数(Greenness Index (G), Equation: G = R554 / R677) 6) 改进的叶绿素吸收反射指数(Modified Chlorophyll Absorption in Reflectance Index (MCARI), ?Equation: MCARI = [(R700- R670) - 0.2 * (R700- R550)] * (R700/ R670)) 7) 转换类胡罗卜素指数(Transformed CAR Index (TCARI)?, Equation: TSARI = 3 * [(R700- R670) - 0.2 * (R700- R550) * (R700/ R670)]) 8) 三角植被指数(Triangular Vegetation Index (TVI)?, ?Equation: TVI = 0.5 * [120 * (R750- R550) - 200 * (R670- R550)]) 9) ZMI指数(Zarco-Tejada & Miller Index (ZMI), Equation: ZMI = R750 / R710) 10) 简单比值色素指数(Simple Ratio Pigment Index (SRPI), Equation: SRPI = R430 / R680) 11) 归一化脱镁作用指数(Normalized Phaeophytinization Index (NPQI), Equation: NPQI = (R415- R435) / (R415+ R435)) 12) 光化学植被反射指数(Photochemical Reflectance Index (PRI), Equation: PRI = (R531- R570) / (R531+ R570)) 13) 归一化叶绿素指数(Normalized Pigment Chlorophyll Index (NPCI), NPCI = (R680- R430) / (R680+ R430)) 14) Carter指数(Carter Indices?, Equation: Ctr1 = R695 / R420; Ctr2 = R695 / R760) 15) Lichtenthaler指数(Lichtenthaler Indices?, Equation: Lic1 = (R790 - R680) / (R790 + R680); Lic2 = R440 / R690) 16) SIPI指数(Structure Intensive Pigment Index (SIPI), Equation: SIPI = (R790- R450) / (R790+ R650)) 17) Gitelson-Merzlyak指数(Gitelson and Merzlyak Indices?, ?Equation: GM1 = R750/ R550; GM2 = R750/ R700)   4. 热成像分析(选配):用于成像分析植物在光辐射情况下的二维发热分布,良好的散热可以使植物耐受较长时间的高光辐射或低水条件(干旱) 5. 近红外成像分析(选配):用于观测分析植物的水分状态及其在不同组织间的分布变异,处于良好浇灌状态的植物表现出对近红外光谱的高吸收性,而处于干旱状态的植物则表现出对近红外光谱的高反射性,通过分析软件可以监测分析从干旱胁迫到再浇灌过程中的整个过程动态及植物对干旱胁迫的响应和水分利用效率,并形成假彩图像,可以与植物的形态指数及叶绿素荧光指数进行相关分析研究。   系统配置与工作原理:   整套系统由自动化植物传送系统、光适应室、RGB成像、FluorCam叶绿素荧光成像、高光谱成像、植物热成像、植物近红外成像、自动浇灌施肥与称重系统、植物标识系统等组成,光适应室内的植物可由传送带传送到成像室进行成像分析等。   技术指标:   1. 自动装载与卸载植物样品,通过条形码或RFID标签识别跟踪样品 2. 光适应室:用于光照适应或植物培养,LED光源光照强度达1000μmol/m2.s,无热效应,强度0-100%可调,可通过实验程序预设光照周期变化,可选配通用型或专用型如水稻生长观测室等,还可选配三维扫瞄成像分析功能(包括XYZ三维扫瞄成像系统和软件) 3. 标配托盘架30x30cm,用于安放盆栽植物或可以盛放多个小花盆的托盘 4. 自动传送系统由光适应室到成像室形成一个环形传送通道,传送带采用具变速器的三相异步马达,200-1000W,传送带宽320mm,负载力130kg,速度9m/min 5. 移动控制系统中央处理单元:CJ2M-CPU33;数字I/O:最大2560点;PLC通讯:通过以太网100Mb/s高端PC;OMRON MECHATROLINK-II 最大16轴精确定位 6. 植物成像测量室:150cm(长)x150cm(宽)x220cm(高),与环境光隔离(light-isolated),快速自动开启关闭门,开启关闭周期小于3秒,传送带入口具光幕传感系统、条码识别器和RFID读取器 7. RFID读取器辨识距离:2-20cm;通讯:RS485;条码识别器可读取1维、2维和QR码,具LED光源便于弱光下辨识,RS485通讯 8. F3EM2光幕系统,精确测量植物高度和宽度以便进入成像测量室后摄像头自动精确定位,测量范围150cm,分辨率5mm 9. 叶绿素荧光成像:包括光隔离成像室、自动开启与关闭门、传送带、PLC控制自动上下移动聚焦系统、4个LED光源板、8位绿波轮等,单幅成像面积35x35cm,测量光橙色620nm,橙色和白色双波长光化学光,饱和光闪为白色或蓝色 10. 自动灌溉与称重,可同时对5个植物种植盆进行浇灌和称重,精确度±1g;称重后精确浇灌,可通过实验程序(protocol)预设浇灌过程(regime)或干旱胁迫状态,还可选配营养供给系统随浇灌定量供给植物营养(如氮肥等);称重前自动零校准,还可通过已知重量(如砝码)物品自动进行再校准;防护级别:IP66 11. 称重系统由4个称重单元组成,安全承载限:150% Ln;温度补偿:-10-40°C,标配测量范围7kg,可选配10kg、15kg或20kg 12. RGB成像:顶部和侧面三维成像(3个摄像头),每个摄像头各自拥有独立的控制面盘以设置曝光时间、增益、白平衡等,通过控制面盘的快照键可即时拍照并显示分辨率等信息,还可通过自动模式自动成像并存储至数据库,每次扫瞄成像时间小于10秒 13. RGB成像系统包括成像室(光隔离)、传送带及位置传感器、3个摄像头、光源及成像分析软件,标配成像范围150cm(长)x150cm(宽)x150cm(高),LED冷白光源(不对植物产生热效应) 14. 标配USB以太网摄像头,有效像素4008x2672,像素大小9.0μm,比特分辨率12比特,光量子效率:蓝光峰值465nm,绿色峰值540nm,红色峰值610nm;28mm光学镜头,口径43.2mm,光圈范围2.8-F16 15. NIR近红外成像单元:可成像采集1450-1600nm水吸收波段,以反映植物水分状况,在供水充沛情况下表现出高NIR吸收值,干旱胁迫情况下则表现出高NIR反射,NIR假彩色成像可以通过软件反映和分析植物水分状况 16. 高光谱成像单元包括光隔离成像测量室、自动开启关闭门、传送带、PLC控制自动移动聚焦镜头包括SWIR和VNIR镜头、光源、成像分析系统等,VNIR镜头波段380nm-1000nm,光圈F/0.2,缝隙宽度25μm,缝隙长度18mm,帧速12-236 fps;SWIR镜头波段900-2500nm,光圈F/0.2,缝隙宽度25μm,缝隙长度18mm,帧速60或100 fps,视野150x100cm 17. 用户可通过实验程序选择SWIR成像、VNIR成像或两个镜头全波段成像,每个镜头成像时间分别为15秒 18. 热成像单元:分辨率640x480像素,温度范围20-120°C,灵敏度NETD<0.05°C@30°C/50mK,成像面积可达150x150cm 19. 可选配人工气候室,植物生长面积9.5m2,生长高度2.0m,温度稳定性±1°C,430nm-730nm白色和IR LED 光源,1000μmol/m2/s(距离植物100cm高度的光强),可预设自动光照周期动态, 20. 系统控制与数据采集分析系统: Ø 用户友好的图形界面 Ø 用户定义、可编辑自动测量程序(protocols) Ø MySQL数据库管理系统,可以处理拥有上千万条记录的大型数据库,支持多种存储引擎,相关数据自动存储于数据库中的不同表中 Ø 植物编码注册功能:包括植物识别码、所在托盘的识别码等存储在数据库中,测量时自动提取自动读取条形码或RFID标签 Ø 触摸屏操作界面,在线显示植物托盘数量、光线强度、分析测量状态及结果等,轻松通过软件完全控制所有的机械部件和成像工作站 Ø 可用默认程序进行所有测量,也可通过开发工具创建自定义的工作过程,或者手动操作LED光源开启或关闭、RGB扫面成像、叶绿素荧光成像、称重及浇灌等 Ø 实验程序(Protocols)具备起始键、终止键、暂停键 Ø 可根据实验需求自动控制植物样品的移动和单一成像站的激活 Ø 可提供3个相机视角的RGB数字生长分析,包含阈值分析和颜色分析 Ø 对于叶绿素荧光成像图片,软件可批量进行淬灭参数分析,包含了在背景去除图像上用户感兴趣区域和像素值的平均。分析数据以原始图像和分析数据的形式存储在数据库中。 Ø 对FIR热成像图,16位图可直接导出到MATLAB或通过软件生成温度分布的假彩图像。   部分用户:   1. 国际水稻研究所(菲律宾)The International Rice Research Institute, Los Banos Philippines  2. 澳大利亚联邦科学与工业研究组织植物表型组学中心The CSIRO Plant Phenomics Center, Canberra, Australia  3. 澳大利亚国立大学The Australian National University, Canberra. Australia  4. 孟山都公司(美国)Monsanto Corporation, St. Louis, USA.  5. 杜邦先锋国际良种公司Pioneer-Dupont, Des Moines, Iowa  6. 巴斯夫公司Metanomics(柏林)Metanomics (BASF), Berlin, GDR  7. 巴斯夫公司CropDesign(比利时)CropDesign (BASF), Nevele, Belgium  8. 美国合成基因公司Synthetic Genomics, La Jolla, USA  9. Palacky 大学Palacky University Olomouc, Czech Republic 10. Masaryk 大学Masaryk University Brno, Czech Republic   产地:欧洲    
北京易科泰生态技术有限公司 2021-08-23
JP-K600化学发光成像系统
使用范围介绍: 化学发光成像系统适用于化学发光、多色荧光检测与普通凝胶检测,选用了高分辨率低照度进口制冷CCD,并完美结合大光圈电动镜头,可捕获到极微弱的荧光和化学发光信号。化学发光成像系统JP-K600深度制冷的CCD,较大程度的消除了背景噪声,超大光圈镜头,收集微弱信号。化学发光成像系统JP-600可选的多种荧光光源以及多位电动滤光片轮,满足核酸成像、ECL成像等多种实验需求。 主要应用范围: 核酸检测:各种荧光染料,如Ethidium bromide,SYBRTMGold, SYBRTMGreen, SYBRTMSafe, GelStarTM, Fluorescein, Texas Red标记的DNA/RNA检测。 蛋白检测:考马斯亮蓝胶,银染胶,以及荧光染料如SyproTMRed, SyproTMOrange,Pro-Q Diamond, Deep Purple 标记胶/膜/芯片等。 印迹膜:Western Lightning、ECL、ECLplus、CDP Star、SuperSignal、CSPD、LumiGlo、Cy2、Cy3、Cy5、FITC、AlexaDyes、DyLight dyes、ProQDiamond、ProQ Emerald 300、ProQEmerald 488、IR Dye 680 等。 JP-K600化学发光成像系统产品介绍: 集凝胶成像、化学发光和生物发光成像一体的全自动多功能成像系统; 用于凝胶和膜中蛋白质与DNA样品的数字图像的检测和分析;; JP-K600化学发光成像系统产品特色: 采用最新一代冷却CCD相机,605万像素(可选配890万像素); 配备F/0.95大光圈定焦镜头,(可选配F/0.8镜头)具有超高的检测灵敏度。 超光密闭的暗箱设计为化学发光和生物发光成像提供了最适和的环境   防散射样品台使光散射产生的影响降低到最小  暗箱配有顶置白光光源,具有顶部白光灯 标配抽屉式双位载物对焦平台,可兼容拍摄各种厚度的样品,自动对焦升降平台 可选配电脑控制自动定位样品载物升降平台,并可通过电脑进行无级定位控制 用户可自行设定定时自动关闭光源时间(0-60分钟)   JP-K600化学发光成像系统技术参数: CCD芯片 Sony ICX695,4/3英寸,2750×2200  (605万像素)    动态范围 4.8OD.16bit灰阶(0-65535) 像数尺寸 5.4um×5.4um 像素合并 1×1,2×2,3×3,4×4 ,6×6,8×8 CCD温度 -45℃"绝对温度,相对于温室-65℃ 感光效率 High QE: >75% 镜头 F/0.95定焦镜头 顶置白光光源 极高的均匀性对低亮度的图像进行增强 灵敏度 最低可检测0.01ngEB染色体DNA 暗电流 <0.0005e-/pixelc. 激发光源 300nm透射UV  254、365nm反射UV 透射台 超亮紫外透射台,面积200×250mm 滤光片轮 5位滤光片轮.自动控制.标配F590干涉滤色镜
上海金鹏分析仪器有限公司 2021-12-09
新型镀镍/镀铝/镀铬/镀铜金属蚀刻剂和去雾剂
成果与项目的背景及主要用途: 生产手机、 MP3 、汽车仪表等高档显示面板时,需要将视窗部分的镀镍、天津大学科技成果选编 镀铝、镀铬、镀铜等金属高效蚀刻去除,保证视窗无残留金属、通透性好,同时 面板上保留金属不能发生侧蚀。如果产品上残存黑色、黄色等物质,需要逐片擦 拭,生产效率低、劳动强度大。 本产品可将面板视窗部分所镀金属在一分钟左右去除干净,经清洗干燥后, 面板上不残存有色物质,防止侧蚀效果好。该药液应用于自动生产线,大大提高 了生产效率和产品合格率、降低生产成本。 技术原理与工艺流程简介: 利用反应配制技术,制造出各种药液,实现显示面板所镀金属的快速、干净、 可控的去除。 工艺流程简单,易实现,技术原理清楚。 技术水平及专利与获奖情况: 蚀刻产品通过严格的盐雾等测试,已经大量应用于国际多种知名品牌手机面 板的生产。 应用前景分析及效益预测: 与外购药液相比,该技术效益可观,同时产品质量容易控制,便于企业构筑 产品质量保证体系。 应用领域:电子配套产品的生产。 合作方式及条件:成熟技术成果转让。 
天津大学 2021-04-11
新型镀镍/镀铝/镀铬/镀铜金属蚀刻剂和去雾剂
生产手机、 MP3 、汽车仪表等高档显示面板时,需要将视窗部分的镀镍、镀铝、镀铬、镀铜等金属高效蚀刻去除,保证视窗无残留金属、通透性好,同时面板上保留金属不能发生侧蚀。如果产品上残存黑色、黄色等物质,需要逐片擦拭,生产效率低、劳动强度大。本产品可将面板视窗部分所镀金属在一分钟左右去除干净,经清洗干燥后,面板上不残存有色物质,防止侧蚀效果好。该药液应用于自动生产线,大大提高了生产效率和产品合格率、降低生产成本。利用反应配制技术,制造出各种药液,实现显示面板所镀金属的快速、干净、可控的去除。工艺流程简单,易实现,技术原理清楚。
天津大学 2023-05-10
硫磺沥青改性剂
本项目研制的硫磺沥青改性剂含有特殊的硫化氢抑制剂和塑化剂,在沥青混合料中可替代约30%的沥青原料,并有效地减小在生产和摊铺过程的发烟,同时降低生产温度到140℃,节能减排,且硫化氢逸出量指标好于国外同类产品先进指标。将硫磺沥青改性剂加入到沥青中明显改善和提高了沥青混合料稳定度,抗车辙能力提高一倍,同时沥青混合料的低温抗裂性有一定的改善,沥青混合料的水稳定性也得到提高。
东南大学 2021-04-10
固体碱催化剂
和废盐,且催化剂不易回收。发展的趋势是用固体传统的质子酸(硫酸等)和路易斯酸(AIC1。等)催化的催化过程中产生酸酸取代液体酸、用多相催化取代均相反应, 以减轻环境污染提高生产效益。本顼目所开发的固体酸具有如下优点:(1)催化活性高、催化剂用量少;(2)易与产物分离,重复使用高;(3)生产过程中污染少。并且在酯类香料的合成中显示很高的催化活性,如:丙酸异戊酯的收率可达98.2%;丁酸苄酯的收率可达96.9%;己二酸   二丁酯的收率可达98.O%以上。
南京工程学院 2021-04-11
液体酶稳定剂
该液体酶稳定剂通用性强,适用于多种酶制剂,并且通用于未经浓缩的酶液、中空纤维超滤浓缩或膜式超滤浓缩的酶液,都可在室温保存三个月至八个月,剩余酶活力在80%。具体技术指标为:1.未经浓缩的液体α-淀粉酶,室温保存9个月,剩余酶活力达80%以上。/line2.中空纤维超滤浓缩的液体α-淀粉酶,室温保存6个月,剩余酶活力达80%以上。/line3.膜式超滤的液体碱性蛋白酶,室温保存8个月,剩余酶活力在80%左右。/line4.未经浓缩的液体糖化酶,室温保存5个月,剩余酶活力接近90%。/line5.经中空纤维超滤浓缩的液体糖化酶,室温保存3个半月,剩余酶活力接近90%。未经浓缩和膜式超滤的酶液添加稳定剂后的液体酶稳定性明显好于经中空纤维超滤浓缩的液体酶。因此膜式超滤较好。实验证明,液体酶添加剂能提高酶的抗变性能力,促进变性酶的复性;不同添加剂之间有协同或拮抗作用,对稳定剂配方的筛选提供了理论依据。/line所用的添加剂价格低廉,来源方便,并具有通用性。主要设备是超滤浓缩装置及包装容器。厂房面积约200平方米。可通过技术转让或技术入股方式进行合作。
南开大学 2021-04-10
纳米荧光显影剂
研发阶段/n虽然具有荧光性能和磁响应性能的稀土类纳米材料可作为性能优良的显影剂,但是它们的生物毒性限制了其临床使用。羟基磷灰石(HAP)具有良好的生物相容性和生物活性,并且其晶体结构特别适合稀土离子掺杂,可以作为荧光稀土离子如Eu3+和磁响应稀土离子如Gd3+的基质材料。该课题组前期也开展了稀土掺杂HAP荧光纳米粒子的相关研究,证明其具有良好的生物相容性,可用于肿瘤细胞的标记。这些研究都证明稀土掺杂HAP纳米材料是一种性能优异的显影剂,而且多重功能的稀土元素共掺杂HAP可以同时实现多种类型的显影功能
武汉理工大学 2021-01-12
系列水处理剂
水处理化学品在水污染控制和节水方面发挥着无法替代的作用,尤其对于钢铁、石 化、冶金,火电等高耗水行业来说,高效、功能化、无二次污染的水处理剂,例如混凝 剂和缓蚀阻垢剂等,成为国内外研究与应用的主流。一方面污染严重的水资源给工业给 水的预处理用混凝剂提出更高的要求,而我国目前的混凝剂聚合氯化铝、聚合硫酸铁, 产品结构单一,污染物去除效果较差。另一方面工业循环冷却水常用的缓蚀阻垢剂存在 含磷量高,生物难降解,易引起水体富营养化等环境危害问题。针对我国水处理化学品 普遍存在的这些问题,本课题组通过多年的深入研究和探索,形成了水的预处理-深度 处理和缓蚀阻垢功能化处理所用的一体化和系列化水处理剂。 技术创新点: (1)针对目前使用的聚合氯化铝、聚合硫酸铁混凝效果较差的缺陷,发明了“混凝 剂多态聚合氯化铝铁及其制备方法”及“混凝剂固体聚硅硫酸铁的一步法生产方法”两 项专利技术。该生产技术与传统的聚合氯化铝生产技术相比,加入了硅酸钠及超细二氧 化硅微粉,利用超细颗粒物和介孔吸附剂等强化混凝的方法来加强处理,与上述传统处 理药剂相比,其絮体矾花大,沉降速度快;这一新技术特别适合难处理原水的混凝,例 如长江下游的低温低浊度水处理等,其性能超过美国专利 7201856 报道的性能,比常规 聚合氯化铝投加量降低 15%以上;而聚硅硫酸铁与传统聚合硫酸铁生产技术相比,以硅 酸钠的水解中间产物为桥联作用的混凝剂,提高了聚合硫酸铁的混凝性能,在常温条件 下氧化/聚合一步反应生产工艺,生产固体聚硅硫酸铁,与加热分步反应工艺相比,能 节约成本 20%以上。提出了氧气替代氯气准备氯化铁和聚氯化铁的新工艺,并产业化。 (2)针对工业水处理缓释阻垢剂存在含磷高,生物难降解的问题,发明了新型无磷、 生物可降解的水处理缓蚀阻垢剂聚天冬氨酸、聚环氧琥珀酸(聚环氧丁二酸)和胺基聚 环氧琥珀酸(胺基聚环氧丁二酸)的等三项专利生产技术。并对专利生产技术进行了转 让,率先在国内实现了工业化生产,制备工艺超过美国专利,其产品性能优越优于国外 同类技术指标。 (3)针对绿色缓蚀阻垢剂聚天冬氨酸、聚环氧琥珀酸还没有获得实际应用的现状, 研究并发明了“一种用于循环冷却水处理的绿色环保型复合缓蚀阻垢剂”及“一种用于 处理循环冷却水的低磷环保型复合缓蚀阻垢剂及使用方法”等两项专利应用技术,对专 利技术实施产业化。其无磷生物可降解的特性,给循环冷却水行业带来了巨大的环境效 应和社会效应。 
同济大学 2021-04-13
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