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SC-100A pH自动控制加液系统(双泵)
系统简介
pH自动控制加液系统是pH值在线监控或静态控制。测量与自动加酸加碱调整于一体的新型自动化控制设备。
pH精度高，稳定性好。广泛用于高等院校、科研院所实验室、中试车间、工业生产流程特定pH溶液的配置，以及其他生产工艺需求检测、控制、调节pH之场所。
技术参数
1、工作电源：AC220V±10%，50Hz2、控制范围：0～14 pH3、测量精度：±0.05 pH4、分 辨 率：0.01 pH5、泵头速度：0.1～300转/分 无级调速6、转速显示：OLED高清液晶窗口显示7、加液速度：0.12～190ml/min(自来水)8、加液泵头：双泵9、测量电极：pH三复合电极 或玻璃电极10、温度补偿：自动温度补偿(PT1000)11、pH控制器：高精度智能控制器12、pH电极适用温度 ：0～80℃13、pH标准液：6.86/4.0014、外形尺寸：480*320*220mm15、环境温度：室温～40℃ 相对湿度：<80%16、整机重量：约14kg
性能特点
◆ 高精度智能pH控制器，大屏幕液晶即时显示动态pH值与温度值，超出范围报警。◆ 多种控制测量模式：自动、手动、停止,可自由转换，实现一机多用。◆ 单泵实现加酸或加碱，适用于只用一种液体(酸液或碱液)来调节控制PH值。◆ 采用OLED高清液晶窗口，单独显示当前电机转速及工作状态，加液速率可无级调速。◆ pH值上下限自由设定，设定值与实测值同时显示。◆ pH电极可单点或两点校正，pH值与温度自动测量，pH值能根据温度自动校正。◆ 采用步进电机控制蠕动泵加液,液体接触进口泵管，不接触泵体，无污染。◆ 选配不同形式的pH精密复合电极，及配四氟材质的电极护套和延长杆可在高温、反应釜、反应器中适用实现特殊容器内pH值的监控与调整。◆ 本产品荣获国家发明专利,专利号为：ZL 201420406055.8 ZL 201420406067.0 ZL 201410349779.8
网址链接
http://www.csscyq.com.proshow.asp?id=779
长沙思辰仪器科技有限公司
2021-12-18
乾立迷你型自动感应洗手液机
深圳鹏翔智明光电科技有限公司
2021-08-23
DLSB-5/80~120低温冷却液循环泵
产品详细介绍DLSB-5/80～120低温冷却液循环泵参数技术参数 型 号 DLSB-5/80 DLSB-5/120 储液容积(L) 5 5 空载最低温度(℃) -80 -120 制冷量(W) 2036-180 3888-160 流量(L/min) 20 20 扬程(m) 4--6 4--6 调温范围(℃) 室温：-80 室温：-120 控温精度(℃) ±1 ±1 电压/频率 220V/50HZ 220V/50HZ 外形尺寸（mm×mm×mm) 700×650×900 950×710×940工作环境 环境温度(℃) 25 25 环境湿度(通风) 60-80％ 60-80％
巩义市瑞德仪器设备有限公司
2021-08-23
DLSB-5/10~40低温冷却液循环泵
产品详细介绍DLSB-5/10～40低温冷却液循环泵参数技术参数 型 号 DLSB-5/10 DLSB-5/20 DLSB-5/30 DLSB-5/40 储液容积(L) 5 5 5 5 空载最低温(℃) -10 -20 -30 -40 制冷量(W) 1328-319 1328-319 2733-627 2036-602 流量(L/min) 20 20 20 20 扬程(m) 4--6 4--6 4--6 4--6 调温范围(℃) 室温：-10 室温：-20 室温：-30 室温：-40 控温精度(℃) ±1 ±1 ±1 ±1 电压/频率 220V/50HZ 220V/50HZ 220V/50HZ 220V/50HZ 外形尺寸（mm×mm×mm) 500×370×540 500×370×540 545×370×640 600×410×670工作环境 环境温度(℃) 25 25 25 25 环境湿度(通风) 60-80％ 60-80％ 60-80％ 60-80％
巩义市瑞德仪器设备有限公司
2021-08-23
DLSB-20/20~120低温冷却液循环泵
产品详细介绍F-20L单层玻璃反应釜参数基本参数 型号 F-20L 玻璃材质 GG-17 锅壳材质 喷塑防腐 锅胆材质 不锈钢450*260mm 移动方式 带刹车式万向地脚轮 反应瓶容积 球形20L 反应瓶口数 七口 放料口离地 450mm 釜体反应温度 -80～200℃ 真空度 -0.098Mpa 搅拌转速 0-1400rpm 搅拌轴径 12mm 电机功率 250W 加热功率 6KW 电压/频率（V/Hz） 220V/50Hz功能配置 调速方式 变频调速 转速显示方式 数字显示 锅内温度显示方式 数字显示 密封方式 四氟组件密封，￠80法兰搅拌口 冷凝器 立式高效双回流冷凝管100*670mm，40#标口 回流（蒸馏）装置 回流弯头配放料开关，50#球磨口 滴加装置 1L恒压漏斗 减压装置 34#标口减压阀 测温管 24#标口 固体加料（清洗）口 ￠125法兰口配四氟盖 真空显示方式 真空表 搅拌连接方式 万向节连接 搅拌棒 锚式不锈钢棒，外包四氟可选配置 锅壳 304不锈钢 收集装置 收集瓶 釜内温度显示 PT100传感器数显 冷循环装置 冷却铜盘管 防爆 防爆变频器、防爆电机EX370W 0-1400转 主体部分 喷四氟 密封部分 陶瓷轴承、机械密封
巩义市瑞德仪器设备有限公司
2021-08-23
DLSB-10/10~120低温冷却液循环泵
产品详细介绍技术参数 型 号 DLSB-10/10 DLSB-10/20 DLSB-10/30 DLSB-10/40 DLSB-10/80 DLSB-10/120 储液容积(L) 10 10 10 10 10 10 空载最低温度(℃) -10 -20 -30 -40 -80 -120 制冷量(W) 1894-884 2733-813 2036-1022 2628-748 3679-160 4997-120 流量(L/min) 20 20 20 20 20 20 扬程(m) 4--6 4--6 4--6 4--6 4--6 4--6 调温范围(℃) 室温：-10 室温：-20 室温：-30 室温：-40 室温：-80 室温：-120 控温精度(℃) ±1 ±1 ±1 ±1 ±1 ±1 电压/频率 220V/50HZ 220V/50HZ 220V/50HZ 220V/50HZ 220V/50HZ 220V/50HZ 外形尺寸（mm×mm×mm) 500×400×650 550×420×680 580×450×680 580×450×680 880×670×900 900×700×900工作环境 环境温度(℃) 25 25 25 25 25 25 环境湿度(通风) 60-80％ 60-80％ 60-80％ 60-80％ 60-80％ 60-80％
巩义市瑞德仪器设备有限公司
2021-08-23
一种正渗透汲取液及其应用、以及一种用于正渗透汲取液的有 机膦化合物及其制备方法
本发明公开了一种正渗透汲取液及其应用，该正渗透汲取液包 括质量分数为 5％～50％的有机膦化合物，所述有机膦化合物具有如 式 I 所示的化学结构式，其中，m 为 1～6，n 为 0～6，x 为 0～2m+4n+8， Y 为 Na ， K 或 Li<img file=""DDA0000920592790000011.GIF"" wi=""1226"" he=""539"" />本发明还公开了用于该正渗透汲取液的有机 膦化
华中科技大学
2021-01-12
一种光电化学太阳能电池光电极微纳结构制造工艺
本发明公开了一种光电化学太阳能电池光电极微纳结构制造工艺，包括步骤：1)在洁净硅片上热生长一层 SiO<sub>2</sub>薄膜、2)在有 SiO<sub>2</sub>层的硅片表面光刻出圆孔阵列图形、3)刻蚀暴露的 SiO<sub>2</sub>，将光刻的图形转移到 SiO<sub>2</sub>层、4)镀Cu 膜、5)去除表面的光刻胶及光刻胶表面的 Cu、6)生长 Si 微米线阵列、7)在 Si 微
华中科技大学
2021-04-14
一种光电化学太阳能电池光电极微纳结构制造工艺
本发明公开了一种光电化学太阳能电池光电极微纳结构制造工 艺，包括步骤：1)在洁净硅片上热生长一层 SiO2 薄膜、2)在有 SiO2 层的硅片表面光刻出圆孔阵列图形、3)刻蚀暴露的 SiO2，将光刻的图 形转移到 SiO2 层、4)镀 Cu 膜、5)去除表面的光刻胶及光刻胶表面的 Cu、6)生长 Si 微米线阵列、7)在 Si 微米线表面镀一层 ZnO 膜、8)在 Si 微米线表面生长 ZnO 纳米线、9)在 ZnO 纳米线表面制备一层 CdS 薄 膜 、 10) 在 ZnO/CdS 结 构 表 面
华中科技大学
2021-04-14
自蔓延反应烧结氮化硅/氮化硼复相可加工陶瓷
北京科技大学特种陶瓷研究室开发出一种自蔓延反应烧结氮化硅/氮化硼复相可加工陶瓷材料，其应用前景极其广阔。 Si和N2合成Si3N4反应的绝热燃烧温度高，体积有所增加，生成棒状的b-Si3N4相相互交叉，提高了自蔓延反应烧结氮化硅多孔陶瓷的强度，但氮化硅加工性能差。h-BN陶瓷可加工性能好，但烧结性能差。本项目利用h-BN相在氮化硅陶瓷中形成弱界面，当加工时，弱界面上会形成微裂纹，并沿弱界面发生偏转，耗散裂纹扩展的能量使裂纹扩展终止；当载荷继续上升时，在下层的弱结合界面处将产生新的临界裂纹再扩展；如此反复，使裂纹成为跳跃式阶梯状扩展，断裂渐次发生而非瞬间脆断，使氮化硅/氮化硼多孔陶瓷材料具有了好的可加工性能。 本项目原料中采用了一定比例的Si粉，比完全以Si3N4粉为原料的普通烧结工艺节约了原料成本。产品的基本工艺为自蔓延高温合成（燃烧合成）工艺，在气体高压反应器中进行，烧结所需要的能量完全由原料自身放热提供，与其他制备方法（常压烧结、热压烧结、反应烧结）相比较，不需要高温烧结炉长时间烧结，大大节省了能源。本项目工艺简单，烧结速度快，效率高。可制作复杂形状一维，二维的大尺寸陶瓷材料。抗弯强度已做到188MPa，材料可加工性能优良。 已获中国发明专利《ZL 200610089013.6自蔓延反应烧结Si3N4/BN复相可加工陶瓷的方法》。
北京科技大学
2021-04-11