1 成果简介GaN 基的发光二极管（ LED）作为一种新型高效的固体能源，将成为人类照明史上继白炽灯、荧光灯之后的第三代照明工具。外延 GaN 使用最广泛的衬底是蓝宝石，与普通的平整蓝宝石衬底相比，经生长或刻蚀的方式制作出的具有周期性凸凹起伏结构的图案化蓝宝石衬底，可以减少外延生长 GaN 的位错密度，改善晶体质量，提升 LED 内量子效率。同时图案化的蓝宝石衬底有效解决了由于 GaN 材料折射率大引起的全反射问题，增加了光提取效率。研究表明，微米级图案化蓝宝石衬底可以大幅度提高 LED 的芯片亮度，而使用纳米级的图案化蓝宝石衬底亮度将更高。目前虽然可以制造出微米级图案化蓝宝石衬底，但是需要进行黄光光刻工艺，存在成本高且产率低等问题；如果要形成纳米级周期性结构，所采用的次微米图形加工工艺昂贵， 500nm 以下的图形成本更高。我们以化学自组装工艺代替传统半导体光刻工艺，发展出一种低成本的纳米级图案化蓝宝石衬底加工技术，以提供 LED 企业急需的面向高端产品（高亮度、大功率照明用 LED）的蓝宝石衬底。2 应用说明本技术以胶体纳米球作为构筑基元，利用化学自组装方法制备大面积（可达 4 英寸）胶体晶体单层——一种纳米级有序排列形成的周期性结构（图 1），再通过干法刻蚀或者湿法腐蚀的方法将该周期性结构转移到蓝宝石衬底上，从而得到纳米级图案化蓝宝石衬底（图2）。 整个方法建立在化学自组装技术基础上，摈弃了传统半导体光刻工艺，快速、重复性好，大大降低了纳米级图案化蓝宝石衬底的制备成本，从而为外延生长高亮度、大功率照明用 GaN 材料提供更高质量、更低成本的蓝宝石衬底。  图 1 化学自组装方法在 2 英寸蓝宝石衬底上制备的胶体晶体单层及其微细结构。  图 2 纳米级图案化蓝宝石衬底， 左图为蒙古包状图形衬底， 右图为凹坑状图形衬底。3 效益分析目前我国照明行业产值已达 800 多亿元，市场对高端 LED 产品的需求越来越旺盛。为了提高 LED 的发光效率，除采用优化的外延结构外，使用图案化蓝宝石衬底是广泛采用的方法之一。目前高光效图案化蓝宝石衬底的市场年需求量为 1000 多万片，并且随着我国“ 十城万盏” 计划的推进，每年的需求量将有一个很大的递增。当前的图案化蓝宝石衬底无论在国内市场还是国际市场都是供不应求，而在中国国内还未有相应的技术和方法，外延所需的图案化衬底主要从美国、韩国和台湾进口。因此，面对市场对高端 LED 产品的需求，纳米级图案化衬底的市场规模巨大，前景非常好。本项目携手蓝宝石衬底企业或 LED 企业，瞄准 LED 高端市场的需求，生产目前 LED 企业急需的纳米级图案化蓝宝石衬底，力争成为国内首家纳米级图案化蓝宝石衬底专业制造商。4 合作方式技术转让或合作开发，商谈。5 所属行业领域能源环境。

本发明公开了一种图案绘制方法。首先选择导电材料为基体、导电材料为绘制材料，然后在基体和绘制材料之间施加脉冲电源，其中，基体与脉冲电源的阴极连接，绘制材料与脉冲电源的阳极连接，控制绘制材料与基体之间的距离至绘制材料开始熔化，使熔化后的液态绘制材料沉积到基体表面的同时与基体形成化学键结合，通过控制绘制材料的移动方向从而形成所需图案。在一定电压下，当基体与绘制材料接近至二者之间的介质被短路电流击穿时会产生局部高温，使得绘制材料熔化并沉积到基体表面的同时与基体形成化学键结合，结合力强，不易发生脱落等现象。在沉积过程中，基体所受的应力几乎为零，因此不会有任何变形或开裂风险。

        研发团队针对高性能、抗静电热控涂层材料开展自主科研攻关，研发出具有自主知识产权的白色氧化锌导电粉体，与相关企业合作建立了100Kg级导电粉体中试生产线，完成了粉体批次稳定性验证，突破了批量制备导电粉体稳定性差的瓶颈，形成了一套高性能白色氧化物导电粉体的标准生产工艺。产品技术指标经权威检测机构检验达到或超过进口产品水平，并已通过国家航天领域应用验证。同时，产品原料及生产成本远低于进口产品，有望在我国民用市场普及。产品可应用于汽车、电子、纺织、橡胶和化工等领域的防静电、节能、电磁屏蔽等，如轮胎橡胶添加剂、红外反射涂层、防静电涂层等，市场前景广阔。         意向开展成果转化的前提条件：中试放大及产业化工艺开发资金支持

本发明公开了一种基于光图案的室内定位方法，包括以下步骤： (1)设置光图案发射装置；(2)对所述待定位目标的光信号进行检测；(3) 定位所述待定位目标的位置，得到该待定位目标距扇叶旋转轴的距离 ρ，以及该待定位目标相对基准线的偏转角度θ。本发明通过对光图 案发射装置的组成及设置、以及相应的基于光图案的室内定位方法的 测量参数等进行改进，与现有技术相比能够有效解决室内定位精度不 高的问题，该室内定位方法可实现厘米级定位精度，并且定位目标数 量多，定位范围广；此外，该室内定位方法对定位目标的硬件功能要 求不高，可大大扩展应用范围。 

本发明公开了一种挑花图案数字化精确采集方法，在 Photoshop 软件中设置网格参数；将需要数字 化的图案图片导入 Photoshop 软件，并调整大小；新建图层，对照网格和图案图片绘制图案，注意数清 针数；每一种颜色设置单独图层；保存得到该图案的数字化精确采集图。本发明用专业软件 Photoshop 实现数字化，按照图案的色彩、位置进行分层管理，以便后续的图案配色和设计；与现在通行的拍照、 扫描等数字化手段相比，可以更加精确地采集挑花图案细节信息；用标注了格数的标尺对图案进行准确 定位，方便再生产；用网格分隔针脚，针法清晰，图案美观。 

本发明公开了一种表面图案化修饰的基片，包括衬底以及图案化的纳米薄层，所述衬底表面带有亲水基团，所述纳米薄层为厚度小于 1μm 的 PDMS 薄层；所述图案化的纳米薄层与所述衬底键合，形成没有纳米薄层的亲水区域和具有纳米薄层的疏水区域，所述亲水区域用于吸附微流体，所述微流体为水、溶液或者悬浊液，所述微流体在所述基片表面投影的形状与对应的亲水区域的形状相同。本发明还公开了该基片的制备方法以及在制备阵列芯片中的应用。通过本发明，利用一种简单快速的工艺对基片表面进行图案化的修饰，该基片在微阵列芯片的制备中具

本发明公开了一种基于电流体动力喷印的阵列化图案喷印装置，包括金属针头，承印层，金属基板，运动平台和高压发生器，其中，所述金属针头设置在承印层上方，该承印层设置在金属基板上，该金属针头和金属基板分别连接到高压发生器正负端，从而在两者之间形成电场，所述金属基板可在运动平台的驱动下作平面运动，从而带动承印层运动，在电场作用下，喷印溶液通过金属针头流出并形成射流喷射到运动的承印层上，即可在该承印层上形成所需的喷印图案。本发明还公开了利用上述装置制备图案的方法。本发明基于拉伸辅助的高精度定位，实现了在工程环境下，高精度阵列化图案的简单、快速制造，突破了传统静电喷印技术在射流定位与喷印特定图案方面的限制。

本发明公开了一种能够直接产生动态强调标识图案的电子教鞭， 包括外壳以及安装在外壳上的第一激光输出组件，外壳的左端设置有 左出光口，第一激光输出组件包括第一安装板、转轴、第一光栅镜片、 第一激光发射器和转轴驱动装置，第一安装板固定安装在所述外壳的 内壁上;转轴可转动安装在第一安装板上，其上固定安装所述第一光 栅镜片;转轴驱动装置用于驱动所述转轴旋转;第一激光发射器安装 在第一安装板上;第一光栅镜片用于透射和衍射第一激光发射器发射 的激光，从而使透射和衍射后的激光从左出光口发出并屏幕上显示的 图形呈圆形

纳米氮化硼材料兼具氮化硼和纳米材料的双重优势，广泛应用于航空航天、高端电子散热材料、吸附剂、水净化、化妆品等领域。项目团队开发出一种能够实现形貌和尺寸均一且具有超大比表面积多孔氮化硼纳米纤维的规模化制备技术，目前市场尚未实现规模化生产。该技术合成工艺简单可控、成本低、过程绿色环保，处于国际领先地位。 1 产品的应用领域 图2 高性能氮化硼纳米纤维粉体 图3 氮化硼纳米纤维粉体微观形貌

本发明公开了一种在预应变弹性基板上进行柔性电子图案化的方法，包括如下步骤：(1)在水平方向上以一定应变率拉伸弹性基板；(2)计算在自然态下的所述弹性基板上各点在拉伸态下对应的坐标，得到在自然状态下构成预期规则图案的离散元器件之坐标在拉伸态下对应的坐标，以及自然状态下互联结构在拉伸态下对应的互联结构；(3)将离散元器件布置在所述拉伸态下对应的坐标上，将互联结构布置在拉伸态对应的互联结构上；(4)释放基板，即可获得均匀分布的柔性电子图案。本发明可完成离散元器件从拉伸态到自由态的坐标变换，不需要制备掩膜，