产品详细介绍 供应北京/天津/上海/河北/湖北/青海/甘肃/宁夏/陕西/山西/河南/山东/辽宁/吉林/黑龙江/内蒙古/新疆/石家庄/济南/沈阳/哈尔滨/郑州/太原/武汉/兰州/银川/西宁/西安/大连 /昆山/苏州/大连/烟台/青岛/无锡/潍坊/南京/杭州/东莞/深圳/珠海三目偏光显微镜 GRME-POL2-TC（日本原装进口） 照    明：反射照明，透射照明，内藏式电源，6V20W卤素灯，亮度可调节。 焦距调节：同轴粗微调焦机构，调焦范围30mm,微动格值：0.002mm。 观察系统：三目镜筒，倾斜45°，瞳距调节范围54-74mm，视度可调。 检偏装置：0°-90°转动式偏装置。 聚 光 镜：NA1.25阿贝式聚光镜和滤色片。 转 换 器：4孔。 目    镜：WHE10X/18mm、WH15X。 物    镜：POL-M Plan5X、POL-M Plan 10X、POL-M Plan 40X、POH100X(Dry)。 综合倍率：50倍-1500倍。 圆型旋转载物台：直径150mm，360 °回转，任意位置可固定，刻度格值1°，游标格值6′。 生产研发销售批发     照明放大镜，TV放大镜，电视放大镜，PC放大镜，电脑放大镜，宝石放大镜，手术放大镜，大尺寸放大镜，放大镜灯，LED环形荧光灯，LED荧光灯，LED同轴光照明，UV照射灯，LEDUV照射灯照射装置，LEDUV固化炉，LED同轴点光源，零角度LED灯，显微镜光源；SMT设备，视觉检查装置，LED背光灯，外观检查显微镜，外观检查机装置，AOI，SMT设备维修，回流炉，对比检查软件，工业自动外观检查装置，贴片机，实装机，氮气发生器装置，PSA，制氮机器装置                                                                                                                                                            Microscope-GR01   :PC显微镜，TV显微镜，USB显微镜，电脑显微镜，内窥显微镜，工业显微镜，工厂显微镜，工业内窥镜，工业相机，电视显微镜，计算机显微镜，口腔显微镜，手术显微镜，医疗显微镜；  

产品详细介绍Nikon SMZ745T三目立体显微镜 主要特点： 1、SMZ745T在光学路径的整合上，可利用目镜或切换至CCD camera观察，方便宜用。 2、不论是NIKON DS系列数位CCD或一般CCD，皆可连接使用。 3、SMZ745T 7.5X的光学变焦设计,提供0.67至5倍的广泛观察范围。 4、除了优越的高变焦范围和高观察倍率之外，NIKON SMZ745T同时提供了一个无与伦比的高工作距离，增加了使用者工件放置的高度及弹性。 5、NIKON SMZ745T具有防霉、防静电之表面处理设计，更适合于放置现场使用。  

产品详细介绍Nikon E200生物显微镜 尼康首次在这一类型显微镜中采用了CFI60无限远光学系统，而且的机体的防霉设计更加确保了长年高品质的使用 　特点  CFI60物镜 可再定焦载物台 上限位机构 独特防霉设计 目镜可锁定，防止脱落与丢失 可选配E系列或其它较高档次的物镜 操作方便、舒适、符合人机工程学设计  　功能   明场、相差、暗场、 简易偏光、荧光及各种照相附件  主要技术参数    　 E200   光学系统   CFI60无限远光学系统，齐焦距离60mm   放大倍数   40－1500X，8－500X（135显微照相）   目镜筒   铰链式双目、三目镜筒（倾角：30º，瞳距：47－45mm）   目镜   CFI E 10X（视场直径：20mm），CFIE 15x（视场直径：12mm）   物镜   CFI E 平场消色差物镜：4X、10X、40X、100X，也可选其它较高级物镜   物镜转换器   四孔物镜转换器，内向型   照明   6V20W卤素灯   可选附件   相差、暗场、荧光、偏光、示教头、摄影、描绘器   更多详情请点击：http://www.nuoxu-v.cn/2jie_LJ/sw/E200.htm

产品详细介绍一、 用途：15JE数显型测量显微镜是光学计量仪器之一种，其测量工作台可沿X、Y向移动，并绕垂轴旋转，X、Y向的移动的距离可从数显读数装置上读取，旋转角度通过度盘和游标读取，仪器结构简单，操作方便，适用范围极广，主要用途如下：1、 直角座标中测定长度，例如测定孔距、基面距离、刻线宽度、键槽宽度、狭缝宽度、通孔外圆直径等。2、 转动度盘测定角度,例如对刻度盘、样板、量规、钻孔模板及几何形状复杂的零件进行角度测量。3、 用着观察显微镜，以比较法检查工作表面光洁度，鉴定冶金工业的矿石标本、检定印刷照相制版，检查纺织纤维等等。二、 规格：物    镜 目   镜（毫米） 显微镜放大倍数 工作距离（毫米） 视场直径（毫米）放大倍数/数值孔径 焦距（毫米） 放大倍数 焦  距（毫米） 2.5X/0.08 43.40 10X 25.00 25X 58.84 5.610X/0.25 17.13 100X 7.81 1.4测量工作台读数装置主要规格1. 测量范围                                                        6、 分划板(1) 工作台测量范围X向  50毫米                   Y向  13毫米 (2) 圆工作台角度测量范围 0°－360°         1、目镜     2. 分度值(1) 工作台数显读数装置分度值   0.001毫米(2) 圆工作台分度值              1°         2、棱镜     (3) 圆工作台游标分度值          6’3. 仪器测量准确度  ±(5+L/15)微米4. 测量地点温度变化（20±3）℃三、仪器主要尺寸：1. 测量工作台玻璃台面与物镜间的最大距离 80毫米  3、物镜2. 测量工作台直径      120毫米3. 仪器外形尺寸（长x 宽 x 高） 284x263.5x332毫米四、仪器重量：11千克                            4、工作台      显微镜的目镜管同棱镜成为一体绕垂轴旋转，   显微镜可由调焦手轮进行上下调焦。         5、照明器上海光学仪器进出口有限公司地 址 ：上海市杨浦区武东路32号2幢401室 邮编 ：200433电话：021-35030526   手机：13916201020   传真：021-65563863  售价：6200.00元（加外置光源：加100.00元）   款到发货    联系人：卜生高E-mail:bsg040206@163.com     http://www.soiec.cpooo.com

本发明公开了一种亚纳米厚度的纳米孔传感器。第二电泳电极或微泵、第二储藏室、第二微纳米分离通道、基板、第一绝缘层、亚纳米功能层、第一微纳米分离通道、第一储藏室、第一电泳电极或微泵顺次放置，亚纳米功能层的中心设有纳米孔，第一绝缘层的中心设有第一绝缘层开孔，基板的中心设有基板开口，第一微纳米分离通道中部设有测量离子电流的第一电极，第二微纳米分离通道的中部设有测量离子电流的第二电极。本发明解决了将亚纳米功能层集成于纳米孔的技术难点，其制备亚纳米功能层的方法简单；解决了DNA或RNA碱基穿越纳米孔时由于碱基可能存在的不同取向而导致对碱基与亚纳米功能层的相互作用的影响。

本发明提供了一种纳米氮化钒及纳米碳氮化钒粉体的制备方法。其特征在于以粉状钒酸铵、碳质还原剂和微量稀土等催化剂为原料，按一定配比将它们溶于去离子水或蒸馏水中，并搅拌均匀，制得溶液。然后将该溶液加热、干燥，最后得到含有钒源和碳源的前驱体粉末。将前驱体粉末置于高温反应炉中，并通入还原气体作为反应和保护气体，于800～950℃、30～60min条件下，制得平均粒径＜100nm、粒度分布均匀的纳米氮化钒及纳米碳氮化钒粉体。本方法具有反应温度低、反应时间短、生产成本低、工艺简单等特点，适合工业化生产。

本发明是一种纳米金/纳米纤维功能复合物修饰电极的制备方法，具体制备方法包括：1）纺丝溶液配制；2）静电纺丝制备复合纳米纤维，形成复合纳米纤维PA6-MCWNTs修饰电极；3）复合纳米纤维电沉积纳米金功能化。将复合纳米纤维PA6-MCWNTs修饰电极浸于含有HAuCl4的沉积液中，采用多电位阶跃法，将HAuCl4还原成纳米金并同步直接沉积在PA6-MCWNTs复合纳米纤维表面。本发明获得具有稳定性好、比表面积大、生物相容性良好、电子传递速率快、纳米直径孔径分布均匀等特点的功能复合物电极修饰材料。

高压静电纺丝技术是一种自上而下 (top-down) 的纳米制造技术, 通过外加电场力克服喷头毛细管尖端液滴的液体表面张力和黏弹力而形成射流, 在静电斥力、库仑力和表面张力共同作用下，被雾化后的液体射流被高频弯曲、拉延、分裂，在几十毫秒内被牵伸千万倍，经溶剂挥发或熔体冷却在接收端得到纳米级纤维。该技术工艺过程简单、操控方便、选择材料范围广泛、可控性强、并且可以通过喷头设计制备具有微观结构特征的纳米纤维。 应用高压静电纺丝技术制备的纳米纤维膜，其表面积大、孔隙率高、并且具有三维立体连续网状结构等特征。结合聚合物基材的使用，电纺纳米纤维膜不仅仅可以有针对性地解决难溶药物溶解度问题，而且可以用于开发多种药物的速溶速效给药系统。可以根据用户需要进行各种药物速效给药系统的研制与开发

CMOS成像芯片广泛应用于手机、相机、安保、工业、医疗、科学等众多应用领域。该领域的绝大部分市场和技术被国外厂商垄断。成像芯片大量依赖进口存在重大技术风险和政治风险。该项目通过产学研合作，从器件、电路及工艺等多层次突破了高性能CMOS成像芯片的关键技术，形成了一批国际、国内发明专利以及集成电路布图设计等知识产权，开发了国际首款128级TDI型CMOS图像传感器芯片，打破了国外在高端成像技术上的垄断。本项目技术成果达到国际领先水平，且相关成像技术已在产业界得到应用。