产品详细介绍

成果与项目的背景及主要用途：罗红霉素不仅保留了红霉素等大环内酯所共 有的抗菌活性，而且具有口服吸收良好，组织穿透力强，血药半衰期长，血药浓 度高及不良反应少等特点，是大环内酯类药物中比较理想的品种。在世界上已有 九十多个国家和地区广泛应用于临床，在国内的应用也日趋广泛。 目前，国产罗红霉素生产过程中的结晶收率低，生产成本居高不下，而且产 品主要为不定形的白色或类白色粉末，相比进口罗红霉素十四个面的规整六边形 晶体，产品主粒度小，粒度分布不均匀，产品流动性差，光泽和外观也不理想， 在国际市场上的竞争力明显劣于国外同类产品。 技术原理与工艺流程简介：本研究开发出一种先进的罗红霉素重结晶工艺： 先在丙酮-水混合溶剂中溶解罗红霉素粗品，过滤后仍在丙酮-水体系下共沸蒸发 重结晶生产出罗红霉素晶体产品。结晶过程收率达 94%以上，产品洁白，主粒度 大，产品流动性好，完全达到甚至超过国外同类产品的指标。 技术水平及专利与获奖情况：在浙江绍兴震元制药公司 2003 年新建年产 200 吨罗红霉素工业生产线上实施见效，使罗红霉素结晶产品各项技术经济指标达到 国外同类产品标准。 应用前景分析及效益预测：采用本中心在“八五”、“九五”攻关过程中开 发的新型结晶工艺与设备以及全套的计算机辅助操作与控制技术，产品质量和收 率达到国际先进水平，所开发的新型结晶工艺操作稳定，可靠。目前罗红霉素市 场前景广阔，经济效益显著。 应用领域：新型蒸发与溶析耦合结晶工艺，应用于无法单纯通过溶析或蒸发 结晶得到满意晶体产品的工业化生产过程改进。 16天津大学科技成果选编 15、抗污染超滤膜 成果与项目的背景及主要用途： 超滤技术主要用于含分子量 100～1000,000 的物质的分离，是目前应用最广 的膜分离过程之一。超滤是通过膜的筛分作用，将溶液中粒径大于膜孔径的大分 子溶质截留，使小分子组分透过超滤膜，达到分离目的的膜过程。超滤作为一种 新型高效的膜分离技术，具有无相变、操作条件温和、无第三组分引入、工艺流 程简单等优点，可代替传统的分离技术，如精馏、蒸发、萃取、结晶等过程，但 是超滤过程中的膜污染严重限制了超滤在分离领域的更广泛应用。 国际纯粹和应用化学协会 IUPAC 将膜污染定义为由于悬浮物或可溶性物 质通过物理化学作用或者机械作用，在膜的表面及膜孔内部吸附或沉积，导致膜 孔堵塞或变小、膜通量降低的过程。目前，解决高分子超滤膜污染的根本途径是 开发低污染超滤膜，包括开发新型高分子材料及对现有超滤膜进行表面改性。前 者制膜成本较高，并在大规模应用上存在困难。而对现有膜进行表面改性则成为 解决高分子超滤膜膜污染的有效途径。 技术原理与工艺流程简介： 天津大学多年来致力于抗污染膜表面的构建研究。受细胞膜组成、结构和功 能启发，采用表面偏析与相转化相结合的方法，利用热力学和动力学协同效应， 将非溶剂诱导的相分离和嵌段共聚物的自组装过程相结合，原位多尺度构建抗污 染膜表面。利用 Pluronic 系列嵌段共聚物的表面改性和致孔双重作用，调控膜 表面结构和孔结构，在膜表面形成稳定水化层, 抑制污染物吸附。利用磺胺、磷 脂共聚物等两性离子型嵌段共聚物同一官能团内含有等量正、负电荷，保证膜表 面电中性的同时，通过离子溶剂化作用形成更致密的水合层，提高膜抗污染性能； 并其刺激响应性（温度、pH 值等），构建智能型超滤膜表面。以含氟、含硅系 列多嵌段共聚物为改性剂对膜表面结构进行调控，可控构建同时具有亲水区和低 表面能微区的非均相膜表面，赋予膜表面抗污染、自清洁的双重特性。 所制备的超滤膜在广泛的 pH 值范围内具有良好的抗污染特性，用于含蛋白 质、油、酵母菌的模拟污水处理，水通量>200L/(m2 h)，通量恢复率近 100%，通 量衰减率<3.4%。 17天津大学科技成果选编 目前已经完成表面偏析法抗污染膜中试实验，建成了中空纤维膜生产线， 开发了基于聚氯乙烯（PVC）和聚偏氟乙烯（PVDF）等材料的 5 个系列 20 多个 膜品种。 应用前景分析及效益预测： 膜技术在分离中的优势： 1、条件温和，在常温下进行，特别适合热敏性物质的分离和浓缩 2、无相态变化，能耗低 3、分离过程速度快，选择性高 4、分离过程简单，可以连续操作，容易与其他分离过程耦合，易于放大 5、无外加物质，利于节约资源和保护环境 天津大学制备的抗污染超滤膜用于蛋白质、油水乳化液、微生物等污水处理， 显示了抗污染、自清洁、智能性和高通量等特点，具有良好的应用前景。 应用领域：电子、化工、环保、生物、食品、医药等领域。 应用包括：饮用水净化；污水处理，特别是含油污水处理；发酵液澄清，细 胞分离与收集，酶、蛋白质等大分子物质的浓缩与精制，抗生素的回收及纯化， 氨基酸类制品的浓缩。 技术转化条件（包括：原料、设备、厂房面积的要求及投资规模） 需根据实际情况面议。 合作方式及条件：具体面议

该成果有效提高防水砂浆和混凝土的抗渗性和粘结强度，每吨防水砂浆成本降低108.97元，占原成本的30.82%。

一、 项目简介在蒸发及换热操作过程中，当处理的物料为粘性物料或容易结垢时，将固体粒子加入到换热系统中，由于固体粒子在随流体的运动中不断穿过流动边界层，即使在小流速下传热也能得到强化；依靠固体颗粒与换热壁面的不断碰撞、颗粒对壁面的冲刷等作用，可有效除去换热壁面上沉积的污垢，即使有垢层产生，其厚度也能得到很好控制，使换热器的传热系数维持在一个可接受的范围内操作而不需停车清垢。总传热系数提高约2～3倍，颗粒的加入还有很好的防垢效果，并提高了传热过程的稳定性，有效地强化了传热，达到节能效果。二、 项目技术成熟程度已投入实际工业生产中。在使用该技术过程中可保持原工艺流程和现有设备的安装状态不变；所有原有的泵体还可以继续使用；具有稳定的传热系数K值和压力降△P值。本项技术是国家八五、九五科技攻关计划、河北省自然基金和河北省教育厅科技攻关项目。其核心技术经专家鉴定一致认为属于国际先进水平。其中的关键部件组合型颗粒分布装置获2008年河北省科技进步三等奖。三、 技术指标有效地强化传热，传热系数比传统的管壳式换热器提高约2～3倍；换热壁面无污垢发生，洗罐周期在原基础上延长5～7倍；壁温降低，有效防止腐蚀现象发生；可在原有换热（蒸发）系统上改造，设备投资少、见效快；无清垢废液产生，对环境无污染。四、 市场前景在各种有结垢倾向的蒸发换热系统，如：氯化镁、氯化钠、氯化钾、烧碱、碳酸钾、芒硝、氯化钙、硫酸钙、碳酸钙、废水处理、海水淡化、制糖、食品、造纸废液（黑液、红液）等溶液的换热及蒸发操作。石家庄莱茵科技有限公司承担的乳酸蒸发装置、连云港海水化工含氯化钠废水处理系统、山西振兴化肥有限公司氯化钙蒸发系统等。五、 规模与投资需求根据不同需求可对应多种解决方案。六、 合作方式技术入股，技术转让等形式。七、 项目具体联系人及联系方式项目负责人及联系人：张少峰电话： 022-60204596 13132081566 邮箱： shfzhang@hebut.edu.cn

本项目由细消型连续等电结晶、基于热变性的菌体絮凝及谷氨酸二次蒸发结晶等关键技术组成，经过技术与装备集成，形成了完整的“谷氨酸双结晶绿色制造”技术。（1）谷氨酸提取收率≥94.0%，产品纯度≥98.0%；（2）硫酸消耗降低54%，液氨消耗降低 100%；（3）菌体蛋白去除率从 80%提高到 99%以上；（4）生产性高浓度废水减少 90%以上，无中低浓度废水。 创新要点 从谷氨酸生产全局出发，综合考虑原辅材料消耗、产品收率与质量、环境污染治理及废弃物综合利用等因素对生产成本的影响，从而形成整体最优的谷氨酸生产技术。 

罗红霉素不仅保留了红霉素等大环内酯所共有的抗菌活性，而且具有口服吸收良好，组织穿透力强，血药半衰期长，血药浓度高及不良反应少等特点，是大环内酯类药物中比较理想的品种。在世界上已有九十多个国家和地区广泛应用于临床，在国内的应用也日趋广泛。目前，国产罗红霉素生产过程中的结晶收率低，生产成本居高不下，而且产品主要为不定形的白色或类白色粉末，相比进口罗红霉素十四个面的规整六边形晶体，产品主粒度小，粒度分布不均匀，产品流动性差，光泽和外观也不理想，在国际市场上的竞争力明显劣于国外同类产品。本研究开发出一种先进的罗红霉素重结晶工艺：先在丙酮-水混合溶剂中溶解罗红霉素粗品，过滤后仍在丙酮-水体系下共沸蒸发重结晶生产出罗红霉素晶体产品。结晶过程收率达94%以上，产品洁白，主粒度大，产品流动性好，完全达到甚至超过国外同类产品的指标。

（专利号：ZL 201510240031.9） 简介：本发明公开了一种升降的高拉速下抑制结晶器液面波动的系统，属于结晶器工艺优化技术领域。本发明包括主体单元和升降单元，聚流器侧面设有与其相连通的聚流口，聚流器内部设有挡流板；分流器为一长方体，分流器上部设有从分流器的中心向分流器两侧，大小依次增大的若干通孔；出流口通过吊柱与分流器相连，分流器通过大吊柱与升降单元相连；升降车两端设有车轮，车轮与竖直设置的铁轨相配合；铁轨顶部设有滑轮，钢缆一端绕过滑轮与升降车相连，钢缆另一端与升降电机的转轴相连。本发明能够抑制高拉速下结晶器液面波动，且能够使聚流口最大限度聚集由浸入式水口侧孔喷射出来的射流、有效抑制分流器水口上释放钢液量不均匀的现象。

（专利号：ZL 201410284167.5） 简介：本发明公开了一种基于超声波振动式结晶器的不锈钢生产方法，属于钢铁冶金技术领域。本发明的步骤为：步骤一、高炉炼铁；步骤二、转炉冶炼并进行精炼；步骤三、超声波连铸，经过步骤二精炼之后的钢水在连铸过程中采用水平连铸结晶器，在水平连铸结晶器上产生超声波振动。本发明中无需依靠结晶器的机械振动，而仅仅依靠超声波振动力使初生坯壳与结晶器内壁自动“脱模”，从而消除或减少不锈钢铸坯表面缺陷的产生；结晶器

产品介绍： 美国 Lake Shore 218是功能丰富的温度监视器8个传感器输入，几乎可以与任一个二极管或电阻型温度传感器配合使用。连续显示所有8个通道，显示单位是K, °C, V 或 Ω。测量输入是按低温测量的要求设计的，但是监视器的低噪音、高分辨率、宽量程范围等特点，使其应用在非低温的环境中也是理想的。  218温度监视器台式监控器低温监测仪表 主要特点 • 使用合适的传感器，操作时的*低温度可以达到1.2K • 8个传感器输入 •支持二极管和电阻型传感器 • 连续8个输入显示为K, ℃, V 或 Ω为单位的读数 • IEEE-488 和 RS-232C 接口，模拟输出和报警继电器 • 有2个型号可供选择：218S 和 218E • CE认证  218温度监视器台式监控器低温监测仪表   传感器输入显示 美国 Lake Shore 218温度监视器具有八个恒流源（每个通道一个），可以与多种传感器配合使用。输入设置可以通过前面板完成或通过计算机接口完成。监视器的八个通道分为两组，每组中的四个通道必须连接一种类型的传感器（比如四个通道全都是铂电阻传感器，或者全都是硅二极管传感器）。 两个高分辨率的A / D转换器可以提高218温度监视器的更新速率。因为不需要等待电流源转换，所以218比其它品牌的扫描式监视器能更快地读取到温度读数。218温度监视器每秒可读取到16个温度读数，也就是说每个通道每秒可读到2个温度读数。还可以关掉部分输入通道的方法来获得更高的读数率。   温度曲线 美国 Lake Shore 218温度监视器含有标准的硅二极管和铂电阻传感器的温度曲线。它每个通道可以储存一条200点的用户自定义曲线，所以可以支持多种传感器类型。 Lake Shore校准的CalCurves™同样可以被存储为用户曲线。内置的SoftCal™1算法也可以将DT-470系列二极管和铂电阻的温度曲线进一步改善，做为用户曲线储存到218 中。 Lake Shore用在硅二极管和铂电阻传感器上的SoftCal™ 算法，对于用户希望得到比标准曲线更高的精度，但并不需要传统的标定的情况是很好的解决方案。 SoftCal™ 算法采用几个已知的温度参考点点来修正传感器的标准曲线，从而达到更高的精度。 接口 美国 Lake Shore 218温度监视器可获得的计算机接口有并口（IEEE-488，仅218S有此接口）和串行计算机接口（RS-232C）。每个输入都有高、低值报警，并且提供锁定和非锁定操作。218S中的八个继电器可用于故障报警或执行简单的开关控制。218S包括两个模拟电压输出，用户可以选择输出数据的比例和数据进行输出，包括温度、传感器单位、或线性方程的结果。在手动控制下，模拟电压输出也可以作为一个电压源用于其它应用程序。   显示 美国 Lake Shore 218温度监视器八个显示位置的内容用户可配置的。读出的数据源是温度单位、传感器单元和数学*算函数结果。为使用方便，输入的通道号和数据源一直显示在前面板。显示的数据每秒更新两次。 1 Lake Shore SoftCal™的校准对于硅二极管和铂电阻传感器需要更高精度时是比较好的解决方案，但是这种校准并不是真正的传统意义上的校准。SoftCal校准是采用标准曲线的可预测性来改善单独传感器在几个已知温度参考点的精度。  

       DT640系列硅二极管温度传感器选用了专门适用于低温温度测量的硅二极管。相比普通硅二极管，具有重复性好、离散性小、精度更高温度范围更宽、低温下电压相对高而易于测量等特点。所有此款温度计都较好地遵循一个电压-温度（V-T）曲线，因而具有更好的可互换性。很多应用中都不需要单独的标定。       DT640-BC型裸片温度计，相比市场上的其它温度计，具有尺寸更小、热容更小、响应时间更短的特点。在尺寸、热容以及响应时间有特殊要求的应用中具有独特的优势。    您也可以直接登录淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，可以看到我们的淘宝店铺，联系更加方便！ 特点： ※ 激励电流小，因而具有很小的自热效应；  ※ 符合标准曲线，具有良好的互换性； ※ 多种封装，不易损坏、耐温度冲击、易于安装； ※ 在宽温度范围1.4K-500K内，可提供较好的测量精度； ※ 遵循DT-640标准温度响应曲线； ※ 多种可选封装方式。 您也可以直接登录淘宝网首页搜索“锦正茂科技”，可以看到我们的淘宝店铺，联系更加方便！ 参数： ※ 温度范围：3K~500K； ※ 标准曲线：DT640 ※ 推荐激励电流：10µA±0.1%； ※ 可重复性：10mK@4.2K，16mK@77K，75mK@273K。 ※ 反向电压高达：75V； ※ 损坏前电流高达：长时间200mA 或瞬间1A； ※ 推荐激励下的功率耗散：20µW@4.2K; 10µW@77K; 6µW@300K； ※ BC封装响应时间：10ms@4.2K, 100ms@77K, 200ms@305K； ※ 辐射影响：只推荐在低辐射场合下使用； ※ 磁场影响：不推荐在磁场环境下使用。 ​​​​​​​