高等教育领域数字化综合服务平台
云上高博会服务平台 高校科技成果转化对接服务平台 大学生创新创业服务平台 登录 | 注册
|
搜索
搜 索
  • 综合
  • 项目
  • 产品
日期筛选: 一周内 一月内 一年内 不限
XN-1型全自动多功能绝缘油耐压试验机
为解决变压器油耐压试验重复工作量大、耗时多、自动化程度低等问题,研究开发的XN-1型全自动多功能绝缘油耐压试验机具有以下主要功能: 1、一次试验能同时做4个油样的耐压,或抽样进行,对多油样试验可提高效率许多倍。 2、只需使用鼠标就能完成所有指令输入,计算机自动按照国家标准要求进行程控试验,不需工作人员辅助操作、监督。 3、试验结果用专家系统诊断,人工智能自动给出耐压结论。 4、加简化分析结果,打印A4纸正规试验报告。 5、试验数据和结论不可人为修改,确保试验报告客观真实,并可存盘,再次调用。 6、试验过程在计算机屏幕上显示,可以进行中断,也可重新试验。 7、能查询油耐压的最新国家标准;可通过“学习(电气试验)”、“学习(简化分析)”、“学习(色谱分析)”文本,对试验人员进行技术培训。 8、系统加密管理、具有自动检测和校正功能;进行油耐压时,计算机可同时做其他工作。
北京交通大学 2021-04-13
西安交大科研人员在有机绝缘驻极体薄膜研究领域取得重要进展
场效应晶体管(Field Effect Transistor, FET)是芯片与集成电路的基本单元,由金属电极、半导体电荷传输层和绝缘电介质层三部分组成。近年来,电气设备和电子产品小型化、轻量化、智能化的发展趋势对FET等基础电学元器件提出了向高性能、微型化、高频化和柔性化发展的需求。进入21世纪后,随着多种具有共轭π键体系聚合物和小分子的合成,有机半导体材料的优良电荷传输特性已被较为充分地发掘,分子结构创新的匮乏导致半导体材料电荷传输性能难有跨越式的提升。基于这种现状,西安交通大学鲁广昊教授课题组将研究重点转向绝缘电介质层,通过充分挖掘绝缘介质带电特性形成可控的栅极补偿电场,实现FET半导体层电荷传输的调控并提高器件性能。近日,前沿院鲁广昊教授课题组与电气学院李盛涛教授课题组、理学院张志成教授课题组、中科院长春应用化学研究所崔冬梅研究员课题组开展合作,通过自由基聚合合成了一种新型绝缘聚合物分子:无规4-氟代聚苯乙烯(Poly(4-fluorostyrene),FPS)。该聚合物具有较高的深电荷陷阱密度、高击穿场强、高热稳定性和疏水性,可实现高度稳定的驻极体。以FPS薄膜作为栅极介电层,并以C12-BTBT作为半导体层制备的有机场效应晶体管具有高达11.2 cm2·V-1·s-1的场效应迁移率,高达107的开/关比和较小的阈值电压。与广泛使用的聚苯乙烯相比,FPS的电子和空穴陷阱密度及陷阱能级均有所上升,带来6.8×1012cm-2的高带电量。利用FPS制备的OFET存储器件可在大于100 V的宽存储窗口下工作,并具有在空气环境中大于一个月的存储稳定性。 该研究成果以“Soluble Poly(4-fluorostyrene): a High-performance Dielectric Electret for Organic Transistors and Memories”为题发表在国际材料领域权威期刊Materials Horizons上(影响因子:14.356)。该文第一作者为西安交大前沿院助理教授朱远惟博士,通信作者为前沿院鲁广昊教授、电气学院李盛涛教授和中科院长春应化所刘波副研究员。该工作得到了国家自然科学基金、陕西省自然科学基础研究计划、国家博士后基金、电力设备电气绝缘国家重点实验室中青年基金及校基本科研业务费的资助。论文链接为:https://pubs.rsc.org/en/content/articlelanding/2020/mh/d0mh00203h/unauth#!divAbstract课题组网站:http://gr.xjtu.edu.cn/web/guanghaolu/home
西安交通大学 2021-04-11
四色磷铜低温导线Kapton绝缘层四色双绞线
​
北京锦正茂科技有限公司 2022-02-19
新型镀镍/镀铝/镀铬/镀铜金属蚀刻剂和去雾剂
成果与项目的背景及主要用途: 生产手机、 MP3 、汽车仪表等高档显示面板时,需要将视窗部分的镀镍、天津大学科技成果选编 镀铝、镀铬、镀铜等金属高效蚀刻去除,保证视窗无残留金属、通透性好,同时 面板上保留金属不能发生侧蚀。如果产品上残存黑色、黄色等物质,需要逐片擦 拭,生产效率低、劳动强度大。 本产品可将面板视窗部分所镀金属在一分钟左右去除干净,经清洗干燥后, 面板上不残存有色物质,防止侧蚀效果好。该药液应用于自动生产线,大大提高 了生产效率和产品合格率、降低生产成本。 技术原理与工艺流程简介: 利用反应配制技术,制造出各种药液,实现显示面板所镀金属的快速、干净、 可控的去除。 工艺流程简单,易实现,技术原理清楚。 技术水平及专利与获奖情况: 蚀刻产品通过严格的盐雾等测试,已经大量应用于国际多种知名品牌手机面 板的生产。 应用前景分析及效益预测: 与外购药液相比,该技术效益可观,同时产品质量容易控制,便于企业构筑 产品质量保证体系。 应用领域:电子配套产品的生产。 合作方式及条件:成熟技术成果转让。 
天津大学 2021-04-11
新型镀镍/镀铝/镀铬/镀铜金属蚀刻剂和去雾剂
生产手机、 MP3 、汽车仪表等高档显示面板时,需要将视窗部分的镀镍、镀铝、镀铬、镀铜等金属高效蚀刻去除,保证视窗无残留金属、通透性好,同时面板上保留金属不能发生侧蚀。如果产品上残存黑色、黄色等物质,需要逐片擦拭,生产效率低、劳动强度大。本产品可将面板视窗部分所镀金属在一分钟左右去除干净,经清洗干燥后,面板上不残存有色物质,防止侧蚀效果好。该药液应用于自动生产线,大大提高了生产效率和产品合格率、降低生产成本。利用反应配制技术,制造出各种药液,实现显示面板所镀金属的快速、干净、可控的去除。工艺流程简单,易实现,技术原理清楚。
天津大学 2023-05-10
硫磺沥青改性剂
本项目研制的硫磺沥青改性剂含有特殊的硫化氢抑制剂和塑化剂,在沥青混合料中可替代约30%的沥青原料,并有效地减小在生产和摊铺过程的发烟,同时降低生产温度到140℃,节能减排,且硫化氢逸出量指标好于国外同类产品先进指标。将硫磺沥青改性剂加入到沥青中明显改善和提高了沥青混合料稳定度,抗车辙能力提高一倍,同时沥青混合料的低温抗裂性有一定的改善,沥青混合料的水稳定性也得到提高。
东南大学 2021-04-10
固体碱催化剂
和废盐,且催化剂不易回收。发展的趋势是用固体传统的质子酸(硫酸等)和路易斯酸(AIC1。等)催化的催化过程中产生酸酸取代液体酸、用多相催化取代均相反应, 以减轻环境污染提高生产效益。本顼目所开发的固体酸具有如下优点:(1)催化活性高、催化剂用量少;(2)易与产物分离,重复使用高;(3)生产过程中污染少。并且在酯类香料的合成中显示很高的催化活性,如:丙酸异戊酯的收率可达98.2%;丁酸苄酯的收率可达96.9%;己二酸   二丁酯的收率可达98.O%以上。
南京工程学院 2021-04-11
液体酶稳定剂
该液体酶稳定剂通用性强,适用于多种酶制剂,并且通用于未经浓缩的酶液、中空纤维超滤浓缩或膜式超滤浓缩的酶液,都可在室温保存三个月至八个月,剩余酶活力在80%。具体技术指标为:1.未经浓缩的液体α-淀粉酶,室温保存9个月,剩余酶活力达80%以上。/line2.中空纤维超滤浓缩的液体α-淀粉酶,室温保存6个月,剩余酶活力达80%以上。/line3.膜式超滤的液体碱性蛋白酶,室温保存8个月,剩余酶活力在80%左右。/line4.未经浓缩的液体糖化酶,室温保存5个月,剩余酶活力接近90%。/line5.经中空纤维超滤浓缩的液体糖化酶,室温保存3个半月,剩余酶活力接近90%。未经浓缩和膜式超滤的酶液添加稳定剂后的液体酶稳定性明显好于经中空纤维超滤浓缩的液体酶。因此膜式超滤较好。实验证明,液体酶添加剂能提高酶的抗变性能力,促进变性酶的复性;不同添加剂之间有协同或拮抗作用,对稳定剂配方的筛选提供了理论依据。/line所用的添加剂价格低廉,来源方便,并具有通用性。主要设备是超滤浓缩装置及包装容器。厂房面积约200平方米。可通过技术转让或技术入股方式进行合作。
南开大学 2021-04-10
纳米荧光显影剂
研发阶段/n虽然具有荧光性能和磁响应性能的稀土类纳米材料可作为性能优良的显影剂,但是它们的生物毒性限制了其临床使用。羟基磷灰石(HAP)具有良好的生物相容性和生物活性,并且其晶体结构特别适合稀土离子掺杂,可以作为荧光稀土离子如Eu3+和磁响应稀土离子如Gd3+的基质材料。该课题组前期也开展了稀土掺杂HAP荧光纳米粒子的相关研究,证明其具有良好的生物相容性,可用于肿瘤细胞的标记。这些研究都证明稀土掺杂HAP纳米材料是一种性能优异的显影剂,而且多重功能的稀土元素共掺杂HAP可以同时实现多种类型的显影功能
武汉理工大学 2021-01-12
铜萃取剂的研发
制备了 2 类 3 个系列 8 中铜萃取剂,可适用于不同 pH 范围下, 蚀刻液中或湿法冶金中铜的特异性回收。该产品萃取饱和容量大(38.5g/L,国外同类产品为 40 g/L,甘肃省质监局作为第三方测得饱和容量为 48.5 g/L),萃取率及反萃率高,萃取平衡时间短(< 30s), 萃取第三相无,而成本低廉(为国外同类产品 1/3)
兰州大学 2021-01-12
首页 上一页 1 2
  • ...
  • 10 11 12
  • ...
  • 100 101 下一页 尾页
    热搜推荐:
    1
    云上高博会企业会员招募
    2
    63届高博会于5月23日在长春举办
    3
    征集科技创新成果
    中国高等教育学会版权所有
    北京市海淀区学院路35号世宁大厦二层 京ICP备20026207号-1