Ni 纳米线、NiO/Ni 自支撑膜及其制备方法和应用
本发明公开了一种 Ni 纳米线、NiO/Ni 自支撑膜及其制备方法和应用。所述 Ni 纳米线为平均长度 50,000 至 200,000nm 的超长纳米线;其制备方法为:首先配置 Ni 纳米线液相生长液;然后在外加磁场下制备 Ni 纳米线单质;最后分离纯化 Ni 纳米线。所述 NiO/Ni 自支撑膜包括所述 Ni 纳米线及其煅烧制得的表面为 NiO 的 Ni 纳米线;其制备方法为:首先将所述 Ni 纳米线分散在表面活性剂溶液中;然后抽滤将 Ni 纳米线转移到微孔滤膜上,制得 Ni 自支撑膜;最后将
华中科技大学
2021-04-14