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一种 LED
荧光
粉胶涂覆的方法
本发明公开了一种荧光粉胶涂覆方法,属于 LED 封装领域。其包括如下步骤:S1 将已完成芯片贴装和电路连接的 LED 模块置于温度为 100℃~180℃的加热板上;S2 待所述 LED 模块温度稳定后,将设定量的荧光粉胶涂覆在芯片上表面,静止一定时间直到所述设定量的荧光粉胶在所述芯片上表面上形成球缺状形貌;S3 从加热基板上取下所述 LED 模块,在芯片侧表面涂覆设定量的荧光粉胶;S4 待荧光粉胶形貌稳定后,执行固化工艺,获得预定的荧光粉胶形貌。本发明方法操作简单,成本低,可灵活控制荧光粉胶形貌,获得中间荧光粉层厚度大于两侧荧光粉层厚度的荧光粉胶形貌,其封装成本低,可大规模应用在工业中进行 LED 封装。
华中科技大学
2021-04-13
XSP-12CⅣ倒置
荧光
显微镜43000元
产品详细介绍一、 用途: XSP-12CⅣ倒置荧光显微镜是由倒置显微镜和落射荧光显微镜组成。仪器配有长工作距离平场消色差物镜、大视野目镜、双目观察,倒置显微镜还配有特长或超长工作距离聚光镜,同时配有相衬装置及长工作距离平场相衬物镜,倒置显微镜具有在培养瓶或培养皿内进行显微观察的特点,可以观察不经染色的透明活体 ; 落射荧光显微适用于荧光显微术。该仪器特别适用于对活体细胞和组织、流质、沉淀物等进行显微研究,是生物学,细胞学,肿瘤学,遗传学,免疫学等研究工作的理想仪器。可供科研、高校、医疗、防疫和农牧等部门使用。二、选购件: 目镜:大视野目镜:16X(Ф11mm)、20X(Ф11 mm);物镜:长工作距离平场消色差相衬物镜(盖玻片厚度:1.2mm);PLL25X/0.4PHP1(包括25X相衬环板);PLL40X/0.6PHP1(包括40X相衬环板);超长工作距离聚光镜:工作距离70mm;特长工作距离相衬聚光镜:工作距离50mm,配长工作距离平场消色差相衬物镜(盖玻片厚度1.2mm);PLL10X/0.25PHP2、PLL25X/0.4PHP2、PLL40X/0.6PHP2;双目头:转轴式(倾斜30o);光源:30W钨卤素照明灯,亮度可调;CCD摄像机接头:0.4X,1X。(简、繁)三、主要规格: 总放大倍数: 100X~400X双目镜:双目观察目镜:大视野目镜 10X( Ф 20)物镜:长工作距离平场消色差物镜(盖玻片厚度 1.2mm ) :10X/0.25 、 25X/0.4 、 40X/0.6 特长工作距离平场消色差相衬物镜(盖玻片厚度 1.2mm ): 10X/0.25 PHP2 、 25X/0.4 PHP2 40X/0.6 PHP2聚光镜 特长工作距离聚光镜(带相衬装置):工作距离 50mm载物台 : 可拆卸移动机构,移动范围 : 79mm × 112 mm带限位和调节松紧装置的同轴粗微动调焦系统微动手轮格值为 : 0.002 mm瞳距调节范围: 53mm~75mm照明系统: A.透射照明光源 6V30W 卤素灯(亮度可调),( 110V 或 220V )B.落射荧光光源 100W 超高压直流汞灯,汞灯电源箱( 110V 或 220V )激发滤色片组:紫外光 ( 激发滤色片 330-400 nm) 、紫光 ( 激发滤色片 395-415 nm) 、蓝光 ( 激发滤色片 420-485 nm) 和绿光 ( 激发滤色片 460-550 nm) 防霉上海光学仪器进出口有限公司地址:上海市杨浦区武东路32号2幢401室 邮编:200433电话:021-35030526 13916201020 传真:021-65563863E-mail:bsg040206@163.com 公司网站:http://www.soiec.cpooo.com 联系人:卜生高 售价:43000元(款到发货、含税、运费)
上海光学仪器进出口有限公司
2021-08-23
温控缓释抗寒型种衣
剂
及抗寒
剂
制备方法
本发明提供一种温控缓释抗寒型种衣剂,由温控缓释抗寒剂和包衣辅料组成,所述的温控缓释抗寒剂由温控缓释材料和水杨酸组成,所述的温控缓释材料为N-异丙基丙烯酰胺与甲基丙烯酸丁酯的无规共聚物,所述的抗寒剂与包衣辅料的质量比为0.0015~0.03:1。本发明还提供了温控缓释抗寒剂的制备方法。本发明提供的温控缓释抗寒型种衣剂能够发挥温控缓释材料的温控作用,使其控制抗寒剂在特定的温度下释放,以保证抗寒剂的有效作用充分发挥,同时也可节约成本,减少环境污染。
浙江大学
2021-04-11
新型镀镍/镀铝/镀铬/镀铜金属蚀刻
剂
和去雾
剂
成果与项目的背景及主要用途: 生产手机、 MP3 、汽车仪表等高档显示面板时,需要将视窗部分的镀镍、天津大学科技成果选编 镀铝、镀铬、镀铜等金属高效蚀刻去除,保证视窗无残留金属、通透性好,同时 面板上保留金属不能发生侧蚀。如果产品上残存黑色、黄色等物质,需要逐片擦 拭,生产效率低、劳动强度大。 本产品可将面板视窗部分所镀金属在一分钟左右去除干净,经清洗干燥后, 面板上不残存有色物质,防止侧蚀效果好。该药液应用于自动生产线,大大提高 了生产效率和产品合格率、降低生产成本。 技术原理与工艺流程简介: 利用反应配制技术,制造出各种药液,实现显示面板所镀金属的快速、干净、 可控的去除。 工艺流程简单,易实现,技术原理清楚。 技术水平及专利与获奖情况: 蚀刻产品通过严格的盐雾等测试,已经大量应用于国际多种知名品牌手机面 板的生产。 应用前景分析及效益预测: 与外购药液相比,该技术效益可观,同时产品质量容易控制,便于企业构筑 产品质量保证体系。 应用领域:电子配套产品的生产。 合作方式及条件:成熟技术成果转让。
天津大学
2021-04-11
新型镀镍/镀铝/镀铬/镀铜金属蚀刻
剂
和去雾
剂
生产手机、 MP3 、汽车仪表等高档显示面板时,需要将视窗部分的镀镍、镀铝、镀铬、镀铜等金属高效蚀刻去除,保证视窗无残留金属、通透性好,同时面板上保留金属不能发生侧蚀。如果产品上残存黑色、黄色等物质,需要逐片擦拭,生产效率低、劳动强度大。本产品可将面板视窗部分所镀金属在一分钟左右去除干净,经清洗干燥后,面板上不残存有色物质,防止侧蚀效果好。该药液应用于自动生产线,大大提高了生产效率和产品合格率、降低生产成本。利用反应配制技术,制造出各种药液,实现显示面板所镀金属的快速、干净、可控的去除。工艺流程简单,易实现,技术原理清楚。
天津大学
2023-05-10
高性能CMOS
成像
芯片关键技术研发与应用
CMOS成像芯片广泛应用于手机、相机、安保、工业、医疗、科学等众多应用领域。该领域的绝大部分市场和技术被国外厂商垄断。成像芯片大量依赖进口存在重大技术风险和政治风险。该项目通过产学研合作,从器件、电路及工艺等多层次突破了高性能CMOS成像芯片的关键技术,形成了一批国际、国内发明专利以及集成电路布图设计等知识产权,开发了国际首款128级TDI型CMOS图像传感器芯片,打破了国外在高端成像技术上的垄断。本项目技术成果达到国际领先水平,且相关成像技术已在产业界得到应用。
天津大学
2021-04-10
恶劣
成像
环境下图像目标检测、识别与跟踪系统
一、项目简介 项目旨在解决现有目标检测、识别和跟踪系统易受雨天、雾天、沙尘、低光照、水下等恶劣成像环境的影响问题,使得相关目标检测、识别与跟踪系统可以全天候工作,最大程度克服相关视觉应用系统受天气和工作场景的影响的局限。 二、前期研究基础 课题组通过多年攻关,在相关核心技术方面有多项突破,提出多项拥有自主知识产权的针对恶劣成像环境下退化图像的质量提升方法。相关研究处于国内领先水平,已在包括IEEE Trans.Image Processing, CVPR,ICCV等计算机视觉国际顶级期刊和会议上发表论文17篇。授权发明专利5项,软件著作权1项。 三、应用技术成果 1) 雾天图像增强2) 水下图像增强 3) 雾天图像增强
厦门大学
2021-04-11
一种植被多/高光谱
成像
装置
一种植被多高光谱成像装置,其特征在于它包括一滤色片壳体、一光学镜头、一成像单元、放置在所述滤色片壳体中的滤色片、一滤色片更换装置、一计算机和一电源其中,所述滤色片壳体、光学镜头和成像单元顺序排列,且各中心同轴所述光学镜头与成像单元固连,且所述成像单元位于所述光学镜头的成像面上所述滤色片更换装置的控制端电连接所述计算机,所述成像单元与计算机进行数据及控制信号通信所述电源为各用电设备供电。
北京大学
2021-02-01
早期椎间盘退行性变的磁共振
成像
技术
中试阶段/n该项目通过分子及功能性 MRI 技术观察早期 IVDD 的可逆性变化;明确早期 IVDD 可逆性变化的 MRI 表现特征,建立一套临床诊断 IVDD 可逆 性变化的 MRI 技术和诊断标准。通过椎间盘分子及功能性 MRI 技术的建 立,实现椎间盘营养源成像、营养-代谢物运输成像、基质生化状态成像、 基质力学性质成像等;建立一套临床诊断 IVDD 可逆性变化的 MRI 技术和 诊断标准;提供 IVDD 早期临床诊断方法并为治疗疗效评估提供观测手段; 为颈椎 IVDD 及其它骨关节退变的早期
华中科技大学
2021-01-12
一种多角度复合的血流
成像
系统
本实用新型公开了一种多角度复合的血流成像系统。系统包括OCT光学相干层析装置、OCT扫描装置和多角度独立成像装置。利用本实用新型所涉及的系统能获取多角度复合的血流图像,能提高了动态血流信号与静态组织的运动对比度,降低了系统噪声,提高了信噪比。
浙江大学
2021-04-13
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