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新型ZnO 异质结太阳能电池
项目简介: 本项目将 ZnO 薄膜同时作为太阳电池材料及透明导电材料与AlN 等薄膜构成异质结太阳能电池。项目目前开展了比较广泛的模拟研究及部分实验研究,已
西华大学 2021-04-14
紫外诱变台.超净台.超净工作台
产品详细介绍 ZYT—DDC 单人单面紫外诱变台(垂直)   这是一种供单人操作的通用型局部净化设备,气流形式为垂直层流,它可造就局部高清洁度空气环境,同时又具备紫外诱变技术功能对生物研究、科技育种、科研制药、农业科技等部门,紫外诱变台是您最好的助手。 特点: 1、操作区为全不锈钢。 2、外型美观结构合理。 3、采用自定们上下推拉门系统。 4、风量可调,双侧电源插座。 5、紫外线单个控制,时间定时功能。 技术指标:   型号 ZYT--DDC 外形尺寸 900×800×1630 工作台尺寸 870×650×570 洁净等级 100级@≥0.5um(美联邦209E) 平均风速 0.3—0.5m/s(可调) 噪音 ≤65dB(A) 振动 XYZ方向≤2um 照明灯具 20W*1 感光灯 20W*1  紫外灯 主峰波长254NM  15W*3 紫外灯 主峰波长285NM  15W*3 电源 220V  50HZ 消耗功率 450W 备注 不锈钢台面,双侧电源,上下推拉门  
济南杰康净化设备厂 2021-08-23
超表面透镜成像
电流变液在具有广泛的应用前景,但是目前的巨电流变液采用极性分子包覆的方法,寿命很短,无实 数值孔径是光学透镜最重要的基本参量,衡量着光学系统的收集光子能力。对于显微物镜,数值孔径 用价值。本项目已制备出纳米碳镶嵌在二氧化钛表面的颗粒,与硅油混合后得到屈服强度高、漏电流低、 越大,成像光斑越小,成像细节越清晰。常规油浸物镜由于采用了特殊的高折射率匹配液,在高分辨率成 寿命长、温度稳定性好的电流变液,达到实用的水平。计划扩大生产量,并将电流变液应用在阻尼器上, 像和浸润式光刻中更被广泛应用。超构表面结构是一种具有横向亚波长尺度的微纳光学结构,可以在不 实现实用化。
中山大学 2021-04-10
超构光学透镜
以混合自适应人工智能优化程序设计出亚波长单晶硅超构表面结构,实现了相位的精确控制并减小了单晶硅结构在可见光的吸收。进一步使用该结构演示了浸镜油浸没下数值孔径为1.48的高透过率超构光学透镜。
中山大学 2021-04-13
超灵敏扩声系统
中协高灵敏扩声系统融合了二合一桌麦、新型隐藏麦、吊麦、手持麦和手机麦多种扩声手段,融合先进的高灵敏扩声技术,拾音距离广,为高校教学创造更加高效、便捷、灵活的扩声环境,有效满足现代教学对声音处理的需求。
江苏中协智能科技有限公司 2021-02-01
油田集输系统结垢防治关键技术
西安交通大学 2021-04-10
高效硅异质结SHJSHJ太阳电池技术
北京工业大学 2021-04-14
MBBR工艺包
一、纯膜MBBR工艺 工艺原理 纯膜MBBR是MBBR工艺的一种应用形式,微生物主要以生物膜形式附着于悬浮载体上,通过生物膜对污染物进行降解。 工艺特点 占地省:容积负荷高,节省用地; 水质达标:微生物活性高,微生物量大,可以达到更严格的出水水质标准; 运行稳定:生物膜形式存在的微生物耐水量、水质冲击性好; 运行管理简单:无需污泥回流系统,系统简洁紧凑; 感官性能好:不会出现污泥膨胀、污泥上浮等现象。 适用范围 新建污水处理厂 占地非常紧张的提标提量改造 工业污水处理 一体化设施 微污染水净化 纯膜MBBR工艺 二、泥膜复合MBBR工艺 工艺原理 MBBR工艺与传统活性污泥法结合形成泥膜复合工艺,充分结合活性污泥法和MBBR工艺的优点,通过向缺氧或好氧反应器投加悬浮载体,可有效去除污水中有机污染物,强化硝化和反硝化作用,达到同步脱氮除磷的目的,是一种新型的高效污水处理技术。 工艺特点 抗冲击负荷能力高,处理效果稳定,稳定达到排放标准(一级A或类地表IV),同步强化脱氮除磷效果; 容积负荷高,可在原池容实现二级标准向一级A及更高标准升级; 可持续升级,悬浮载体最大填充率可达到67%,满足分批升级需求; 镶嵌式改造,不改变原工艺流程,池容及运行方式,改造时间短; 使用寿命长,运行管理简单,悬浮载体寿命>15年。 适用范围 1、已有污水厂升级改造,MBBR工艺可应用于污水厂各类运行工艺,如:A²/O、氧化沟、SBR及变形工艺、百乐克等活性污泥法工艺; 2、新建污水厂,应用MBBR工艺可保障运行稳定性,且再次升级改造可通过补投悬浮载体方式进行,投资费用低,再次升级便捷。
青岛思普润水处理股份有限公司 2021-09-02
涂印工艺
烟台永盛金属涂印有限公司 2021-08-31
一种柔性超疏水超疏油结构制备方法
本发明公开了一种柔性超疏水超疏油结构制备方法,该制备方 法包括如下步骤:(1)制作柔性超疏水超疏油结构底层:在基底上旋涂 一层负性光刻胶,不用掩膜进行曝光;(2)在步骤(1)曝光后的负性光刻 胶上旋涂一层负性光刻胶,利用阵列图形掩膜进行曝光;(3)结构层光 刻胶第二次曝光:采用跟步骤(2)对应的掩模进行套刻曝光;(4)显影: 将上述步骤中曝光后的结构进行显影;(5)镀保护层膜:在步骤(4)中得 到的结构表面形成一层保护膜;(6)剥离:将经过步骤(5)处理后得到的 结构从基底上剥离,得到所述柔性超疏水超疏油结构。按照本发明的 制备方法,工艺简单,成本低廉,对该柔性超疏水超疏油结构的普及 应用具有极大的促进作用。 
华中科技大学 2021-04-11
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