一.软件介绍《浙科商业银行模拟教学软件》完全按照商业银行会计核算方法开发而成的。在设计思想与需求获取方面，更注重核心业务、实际操作规程，让学生在一个几近真实的商业银行模拟环境中练习所学金融理论和操作技能。二.软件优势1.通用的管理方式系统采用了目前国内所有商业银行通行的三级管理方式，即总行---分行---支行模式，教师设置每个学生担任的角色。2.逼真的银行环境为更加逼真的模拟银行工作环境，配备了硬件教辅工具，使学生可以在仿真的银行环境中，模拟银行每日的工作。3.全面的实验任务系统涵盖了商业银行的所有业务，高仿的业务流程使学生更好地掌握银行柜员的主要业务操作和各种业务单据的使用。4.丰富的数据资料系统提供了知识库、在线帮助、业务介绍、业务流程图和相关凭证等辅助信息，来帮助学生熟悉软件的使用和明确银行业务的操作要求，及时给学生进行操作指导。6.充分的案例分析该软件充分融合用户需求，集实验操作、练习于一体，满足学生学习和实训的要求。教师在系统中添加各种银行案例资料，学生选择案例进行分析练习，逐步提高自身的分析能力。三.主要功能1.综合柜员业务综合角色承担着行长、会计、信贷部门、客户管理部门、中间业务处理部门的综合工作。必须先由综合角色设置好如下几项信息：本行信息、网点城市、网点编号、柜员权限分配、资金调拨、凭证调拨、外汇汇率、手续费、基金费率、交易额度、尾箱额度，并启动网点开机开关之后，柜员才能开展个人业务、对公业务操作。2.柜员业务由个人业务和公司业务两个模块构成。个人业务主要指柜员对单个客户提交的存款、银行卡、贷款、汇款、外汇、代理业务的处理。由教师端的身份证库资料来扮演客户，柜员受理客户的业务请求。公司业务主要指柜员对企业提交的存款、贷款、人民币支付结算相关业务的处理。跟实际生活中一致，必须要有企业代表来银行办理业务，柜员才能处理企业要求办理的业务，否者无法处理业务。3.财务业务财务主要是对凭证、账簿和报表的管理。记账凭证财会部门根据审核确认无误的原始凭证或原始凭证汇总表编制、记载经济业务的简要内容，确认会计分录，作为记账直接依据的一种会计凭证。财务账薄是指由一定格式账页组成的，以经过审核的会计凭证为依据，全面、系统、连续地记录各项经济业务的簿籍。财务报表亦称对外会计报表，是会计主体对外提供的反映会计主体财务状况和经营的会计报表。4.终端查询终端查询为客户提供了便捷查询账户服务。在学生端口登录界面，可以对账户余额和明细进行查询，清晰明确的查看到该账户交易日期、交易类型、交易金额及收入支出。5.个人网上银行个人网上银行是指银行通过互联网，为个人客户提供账户查询、转账汇款等网上银行服务，进入网上银行管理界面后，即显示账户信息，包括可余额及交易明细查询、转账汇款操作，可根据页面内容进行相应操作。四.软件特点1.最新的现代商业银行管理方法系统的开发严格遵循我国的金融制度、金融法规，在功能和操作流程上与现行的商业银行业务系统完全保持一致。学生可以通过本系统将所学的银行理论知识与现代商业银行业务管理系统相结合，通过对本系统的模拟实验操作，充分理解所学的银行理论知识与实际应用系统的联系。2.与商业银行一致的业务管理模式商业银行业务管理模式一般是采用三级管理方式，即总行---分行---支行模式，这种模式是目前国内所有商业银行通行的业务模式。本实训平台同样采用这种业务模式，教师设置每个学生担任的角色。3.采用逼真模拟银行工作环境通过“工学结合”的模式，为学生提供真实实训平台，设计了硬件设备支持系统，支持接入符合国家标准的磁卡读写设备、密码输入设备和打印设备，在真实的环境进行职业训练，使学生可以实际接触业务，从而实现将来就业的零距离。4.提供齐全真实的实训业务和凭证系统以国内商业银行的业务模式为依据，提供银行常见的存取款业务、贷款业务、外汇交易业务、支付结算业务、代理业务、网上银行、自助终端查询。并将业务与银行会计连接起来，实现了业务处理、记帐、入账、报表的有效结合。5.设置统一管理的银行管理中心设立综合柜员管理维护银行的基础信息、金融信息、信贷管理、中间业务管理。具备灵活的利率机制、费率机制，服务定价。方便新业务的快速搭建和开发。6.创新的实验评分测验系统系统为教师考评学生的实际操作能力提供一个有力的工具。教师可以通过系统检验学生对实际商业银行应用系统的动手能力。系统的教学管理系统中包含了一套智能实验测评系统，教师可以定义每一项操作的得分，并在设置的时间段内给学生的操作实验作出综合评价，并输出实验报告，极大地方便了教师对学生实验结果进行综合考评。

欧美光学行业标准软件 ASAP（Advanced Systems Analysis Program）软件是美国 Breault Research Organization(BRO) 公司研发的一款在 3D空间通过非序列光线追迹来模拟光学系统表现度的软件。多年以来，广泛应用在照明设计，杂散光分析，背光板设计，偏振光分析等领域。其中尤以出众精准的照明和杂散光分析能力而闻名，这是 LED照明设计和高精度系统中必不可少的功能。 BRO 公司位于美国亚利桑那州图森市（Tuscon），在 1979 年由 Dr. Robert P. Breault 创建。BRO 公司有三大业务：ASAP 软件销售和技术支持、ASAP 教育培训和承接工程项目。ASAP 软件以其强大的功能，为美国政府和全球光学行业做出了巨大的服务。BRO 公司承接众多美国军方对战机、军舰、战车的 LED 照明设计和改造项目。ASAP功能之强，可见一斑。 ASAP主要特点 功能强大、运算速度快 鬼影起源： 追迹杂散光的进化史，高端镜头系统分析必经之路，各种照明系统高精度分析必备之器！ASAP 成功修复哈勃望远镜，杂散光分析非ASAP莫属！ 背光源： 汽车仪表、手机光源、室内照明、显示屏幕无所不能！让您的客户不再抱怨眼睛疲劳，让每一个细节都一览无遗！选择ASAP，您的光源专家！ LED照明： ASAP 提供精准的 LED 光源，结合为 Lens 添加菲涅耳运算、散射模型，保证模拟结果的准确度。ASAP 在 LED 设计过程中为工程师提供的强大自由度，保记您的每一个想法都不再是纸上谈兵！ 生物医学： 精确模拟光与组织结构交互结果。特有 RSM 模型一真实皮肤模型，采用 Henyey-Greenstein 近似值，Mante CarLo 光线追迹助您分析器官病变! 每一款车灯，每一份设计，每一条光线，尽在您的掌握！SAE ECE和 FMVSS 标准测试，助您顺利通过法规！采用 ASAP 缩短研发时间，节约开模费用！您的财富您驾驭！ 严谨精确、可靠精准的模拟结果 ASAP模拟结果 实验室实际结果 ASAP 的灯源模型在几何形状和发光度上非常精准，并包括了完整的光谱数据，同时包含了从灯源所得的实际光学和机械的几何模型。光可被灯源几何模型反射、拆射或是散射。ASAP 的灯源模型充分地考虑了这些光学的交互作用，而这些光学交互作用在光学系统上可能造成不要的杂散光。 严谨精确的灯源模型是获得可靠精准的模拟结果的保证！ ASAP的多核并行计算+远程分布式处理 最新的 ASAP 软件采用了 CoreMax 技术。可以自动的在电脑上，调动所有核心进行并行计算进程。并可以调用局域网上其他的有安装ASAP远程许可证的电脑上，运行所有核心上的并行进程。此外，用户可以控制每台机器上访问的内核数量。这种并行和远程分布式处理的结合是一种首创，将使 ASAP NextGen 成为最快的光线追迹软件，超过任何其他光学设计软件的计算能力。 ASAP基本功能 提供几何光学追迹的算法和物理光学相干高斯光束传输算法、BPM算法，因此可以在一个平台中同时进行几何光学和物理光学模拟仿真，更可以模拟由于衍射带来的杂散光。 ASAP建模： ASAP 为用户提供了多种建模方式选择。可以读入在其他 3D 建模软件里制作的模型（如 CATIA，SolidWorks，Rhino 等）可以实现无缝转换。 操作方式多样化： ASAP 使用参数化的物理模型来控制光与光学表面发生作用时的表现。用户可方便地观察光线进行反射，透射，折射，散射，衍射，双折射和偏振等现象。使用方便，操作简单，便于修改。使用 Script 进行编程，是 ASAP 区别于其他软件的一个重要特点。这种灵活自由的方式，为客户在模拟仿真工作中提供了极大的自由度，尤其是对于高端用户如研究所，不会受限于模块化的界面，确保可以将复杂的光学系统，光学现象进行模拟。 ASAP各种库： 光源库：用户可免费使用 ASAP 带有的精准灯源库，包括 LED，CCFL 等。用户可以方便地调用灯源库内的灯具，也可使用自己拥有的光型文件，在 ASAP里面做成光源。 散射模型库：ASAP 区别于其他软件的另一大优势在于强大的散射光学分析能力。系统中光学表面的散射特性会影响照明结果。尤其是对于高端的设计，必须充分考虑光学表面的散射特性。在过去的三十多年中，ASAP 在这方面积累了丰富的经验。在 ASAP 内建有散射模型库。用户可以方便地调用。如果用户使用的散射模型（如 Diffuser）不在 ASAP 资源库里，也可用测得的数据在 ASAP 里很容易地建立起该 Diffuser 模型。可以通过预定的散射模型建立各种各样的实际的散射数据，并可以进行组合。支持从 BSDF 散射测量仪的数据导入。   ASAP优化功能 ASAP 提供目前行业内最先进的优化功能。区别于同类软件的 Script 编程功能确保用户可通过编写 Merit Function 来进行最有效的系统优化。丰富的优化演算法帮助客户应对不同的设计要求。 在 ASAP中，有 3种通用的优化方法：Brent’s Method 、Downhill Simplex 、Simulated Annealing。每一种方法在找寻许多不同成像和照明系统中的最优解中都很有效。 REMOTE 并行运算： 支持多台计算机并行运算的 REMOTE 增强功能。 ASAP 计算 14亿条光线所需要的时间，可以看到，通过 REMOTE 功能，增加计算机数量，可以大大缩短运算时间。14亿条光线只需要15分钟。   功能列表 在 SolidWorks 内建立 ASAP 属性的 GTX 文件  在 SolidWorks 内为物件分层和命名  在 Rhinoceros 内建立 ASAP 属性的 IGES 文件 用 ASAP SmartIGES 转换器来输入和输出 IGES 文件  用 XML 文件格式来输入几何结构和光学属性  支持 Python，VBscript，Jscript 和其他语言  内建预定义的 LED，CCFL，白炽灯和 arc 灯源库  拖曳式建立光源、透镜、玻璃、散射模型和表面特性  600多的例程库帮您启动模拟  保存、检查和继续优化功能，使用 ASAP .osf 文件 使用 ASAP Liquid Crystal Cell (LCC) 功能来模拟液晶材料  使用 ASAP General Uniaxial Medium(GUM) 功能定义非同轴材料  在斯托克顿矢量模式里模拟和追迹偏振光器件  模型化诸如 MUELLER 片等可改变偏振光的程度和状态的器件  模型化利用偏振光效应来设计背光显示板  用 BRO Digitizer 输入光源模型 使用增强的 REMOTE 功能进行分布式处理  使用 CONFORMAL radiometry 来观察、分析和监测光分布情况  可建立包含大量物件和光源的系统  模型化光学和机械系统部件  模型化成像系统，照明系统和聚光设备  模型化可见光，紫外光和红外辐射系统  模型化表面散射（BRDF）和体散射  模型化光纤传输和光纤耦合  模型化复杂系统的辐射分析  模型化偏振光和相干光效应  利用高斯光束分解来传输和分析波前  利用 ASAP BPM 算法来模拟微结构中的光传播 进行双精度的光线追迹并分析每条光线的信息 进行 CIE 颜色分析 利用 ASAP 优化功能对光学系统进行优化分析  在 ASAP Builde r或 scripts 中进行系统容差分析  读入 CODE V®， OSLO®， SYNOPSYS™ 和 ZEMAX® 生成的文件  输入和输出 FDTD Solutions™ 的复杂矢量场分布  输入由 Radiant Sources 测得的光源数据  支持 SolidWorks 3D 建模引擎  ASAP分析功能 辐射学分析、杂散光分析、偏振分析、波动光学分析、散射分析、高斯光束分析、象差分析、CIE 分析、光线分析。   照明/非成像光学设计分析： ASAP 提供对照度、光强、亮度等辐射物理量的计算，简单易用，并有各类图表用于演示和分析。 用户可以通过它计算任何 CAD 输出模型表面的辐射性能，不管是平面还是不规则曲面。 不规则曲面上的照度分析: 通过在 OBJECT 后面加上BIN命令，ASAP可以计算非平面上的照度。如下所示，ASAP可以计算类圆柱面上的照度分布。 CATIA模块  增加 CATIA 模组后，可从 ASAP 内直接读入 CATIA V5 的文件。BRO 采用了 CAA V5 的文件结构，因此 CATIA 用户可以充分信任CATIA模块提供的无缝转换！ ELTM模块    ELTM 模块为车灯设计者提供了一种可以自动分析是否通过 SAE, FMVSS, ECE 法规的功能。通过简单有序地操作，设计者可以从ELTM里看到哪些测试点未通过法规以及为何未通过。 杂光分析能力： 200多个项目：Infra-Red Astronomy Satellite（IRAS）, SIRTF, ISO, MERIS,Galileo,Cassini,ESA’s—X-Ray Mirror Module Telescope（XMM）。 ASAP 在杂散光分析领域有将近30年的历史。  2010年6月24-25日，在法国 Toulouse, 由 CNES,EADS/ ASTRIUM, EADS/SODERN and THALES ALENIA SPACE in association with the Centre for Technical Competence（CCT）等部门联合举办的杂散光 Workshop 上，ASAP 被公认为最普遍采用的杂散光分析工具，会议收到的论文中，绝大多数是在 ASAP 的帮助下完成的，无论数量还是质量都超过其他商业杂散光分析工具。 一、通过重点采样可实现快速高效的杂光追迹 重点采样的主要原理是:       在需要关注的物件表面附件定义边缘实体，然后利用 TOWARDS 命令将散射光线散射至该边缘实体。从而避免了追迹大量不需要的散射光线。       如下图所示，利用 TOWARDS 命令使光线只向一个环形区域散射: 二、杂光路径报表输出 系统由三片透镜组成。光源在轴上。序列追迹时，光线分布如右图所示。 考虑透镜表面的剩余反射时，追迹后的光线分布如图a。 上述的光线追迹图实际上由6条路径组成，每一条路径的具体情况如表a。 可以看到各条路径的光线数目、光通量、所占的比例、目前所在的位置，传输过程中与元件的交叉次数，以及在表面上的反射和散射情况。可以画出各条路径具体的传输情况，以便找到合理的解决措施。 下面画出第二条路径的具体情况:  可以看到这条路经在传输过程中形成了2个焦点，如果入射光能量较高，这2个焦点附近不得放置光学元件。 三、反向追迹查找杂光源头 在分析面上选择所关心的光斑部分，选择构成这部分光斑的光线，然后利用 REVERSE 命令将光线反向，并将其作为光源反向追迹至其初始位置，从而获得杂散光源头的信息。 四、杂散光分析能力 ASAP 具备在仪器加工之前就通过虚拟的模型分析模拟所有这些杂散光现象的能力，并可以提供给光学工程师必需的工具来分析以及修正杂散光问题。       用户能够在 ASAP 里建模复杂的光机系统，这些系统的零件都具有用双向散射分布函数（BSDF）所描述的精确地反射和散射光学特性。ASAP 采用精妙的模拟技术，如“重点采样”方法，来有效地建模随机散射问题。ASAP 让用户可以从数值和图表两方面去评估光学系统的散射路径并发现和修正杂散光问题。 尽管如此，拥有一套功能强大，快速和精准的仿真工具只是成功的杂散光分析的一部分。除了 ASAP 精湛的杂散光分析能力外，BRO 公司提供极具针对性的杂散光课程、鬼像分析课程和波动光学课程来让用户掌握杂光分析科学。BRO 的课程确保学员能够有效地分析和解决他遇到的困难的杂散光问题。 --提供 ASAP BSDF Fitting Utility 工具，进行散射模型建模 -- ASAP 提供 Lambertian, Harvey, Polynomial 等多种散射模型，可以对不同的光学表面特性进行精确模拟 --对光谱仪、激光系统、日冕观测仪和其他各种光学仪器进行杂散光分析 --提供相干光源，相干光被经常用来分析杂散光。ASAP 可以模拟相干光源，对其的传播和最终分布进行精确地光场幅度和相位分布计算，精确处理衍射等现象 --使用 DECOMPOSE DIRECTION和DECOMPOSE POSITION 来对光束进行分解，分析微小面型 --对成像系统、二极管激光器、干涉仪、光栅系统、光学标准具等进行分析 --依照杂散光分析流程，帮助光学工程师寻找杂散光的来源 -- 进行基本的辐射学和辐射物理量计算 --合理使用光阑(Stop)和光瞳(Pupil)来进行杂散光分析 --加入基本的隔板和挡光板来进行杂散光分析 --利用 PATHS 功能，可以对光线路径进行分类，筛选定位出杂光的位置。 --进行鬼像和杂散光计算，从鬼像中减少杂散光 --评估杂散光分析的准确度 --计算来自物件边缘的杂散光 --分析来自各向异性表面的散射光 --计算红外系统的杂散光 --计算鬼像辐射照度 --提供 ASAP Scatter 命令和应用 --计算来自于被污染的镜面或透镜的散射光 --提供偏振光源   五、杂散光及鬼像分析实例 物理光学分析功能： ASAP 采用为高斯光束迭加的方法。任何复合场都可以使用高斯光束迭加表示，并且这种现象是使用 ASAP 研究波动现象的基础。 ASAP 中包含两种波动光学传播。使用时间很长的一种方法是高斯光束传播，一种方法是光束传播法(BPM)。BPM 用于处理传统高斯光束法不能很好处理的微观结构。 偏正分析——偏振相关元件包括： 1、由琼斯矩阵模拟理想光学元件，包括:垂直线偏器、水平线偏器、±45°线偏器、1/4波片、1/2片、右旋圆振光偏器以及左旋圆振光偏器; 2、利用 MEDIA CRYSTAL 命令模拟单轴双折射晶体; 3、利用 MULLER 命令模拟不同透反系数的偏振相关元件; 4、利用 RPM 命令模拟真实的偏器; 5、利用 RRM 命令模拟真实的延迟器; 6、利用 GUM 命令模拟一般的单轴介质; 7、利用 LCC 命令模拟液晶元件; 8、利用 CPE 命令模拟级联的偏振相关元件 ASAP BIO 将生物系统中光学现象的模拟能力推进到一个崭新的水平 ASAP BIO 具有与许多其它模拟生物系统中光传播和散射的工具通过CAD 文件进行数据交换的能力。 生物系统包括使用 CT 或者 MRI 扫描获得的表面，通常涵盖了成千上万个物件。CAD 互通性和先进的光线追迹能力使得 ASAP BIO 能够输入、分析并且能够对这些结构进行精细解析。   生物光学——高精度地模拟光与细胞的相互作用 模拟光在生物组织系统内传播和散射。是唯一能够模拟自定义波长的光与生物组织在人体皮肤内发生作用的软件。也是唯一能够精确模拟单眼和双眼系统的软件。   应用领域客户分布 经过近30年的发展，ASAP 软件已被业界所认可，客户遍布全球40多个国家。客户中既有位于世界500强的大公司，也有正处于创业阶段，蓬勃发展的中小企业。   国际上比较知名的客户有： GE，Sony, Ford，Kodak, Xerox, Stanley, Olympus, Philips，General Motors，Allied Signal，IBM，Samsung......   国内比较知名的部分客户有： 国防科大、国家天文台、西安光机所、瑞声科技、大疆科技、长春光机所、上海光机所、成都光电所、上海航天802、中航工业613、浙江大学、复旦大学、香港理工大学、暨南大学、五邑大学、华南理工大学、天津工业大学、上海小系车灯、华中科技大学、中北大学、郑州大学、AL-Lighting, Philips 等。     ASAP 已经成为国际知名企业进行高品质产品研发的首选光学软件。BRO 公司以强大的 ASAP 软件、全面的客户教育培训和及时细致的技术支持，帮助客户不断提高产品性能，在行业中保持优势地位!

MCPS V4.0软件专门用于多分量地震数据的处理与解释，是一个完全具备自主知识产权的软件系统。本软件基于三分量地震数据的特点，充分利用多波地震数据的矢量信息，对随机干扰与面波干扰进行识别与压制，最大限度的保持了有效地震信息的真振幅、极化特征、频带范围；在此基础之上对矢量波场进行分离与合成，将偏移成像中的输入道与输出道技术相结合，对转换波数据进行CCP道集分选与叠前偏移成像。本软件系统还提供了一些必要的振幅调制模块，如三分量地震数据归一化、三分量道均衡模块，可用于对不同系统输出的中间数据进

目前半导体光刻加工用的深紫外光刻胶都采用化学增幅体系，这种体系主要由含酸敏基团的成膜材料和光产酸剂组成，这种体系最大的问题是光产酸在后烘阶段会发生酸迁移，导致光刻分辨率难以提高。能够有效改善酸迁移问题的一种方法是采用高分子光产酸剂，且其光产酸是高分子强酸。 课题组研制了一系列新颖的含多种鎓盐光产酸基团的苯乙烯衍生物及其与甲基丙烯酸酯的共聚物。它们在曝光过程中产生大分子的磺酸，因此可作为大分子光产酸剂与其它成膜材料一起组成化学增幅型光致抗蚀剂。 以之为产酸剂与其它部分保护的对羟基苯乙烯聚合物一起组成二组分的化学增幅型248-nm光刻胶， 制备了苯乙烯磺酸鎓盐和甲基丙烯酸酯、对羟基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保护部分酚羟基，由其组成了单组分的化学增幅型248-nm光刻胶，这些正型248-nm光刻胶获得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及图形线条平滑陡直等的出色表现。  利用高分子产酸剂透明性好的特点，还制备了厚膜248-nm光刻胶，可获得线宽0.34微米、高-宽比可达5：1的光刻图形：  在此基础上，还制备了负型248-nm光刻胶，这些光刻胶也都获得了很好的光刻成像性能表现。这些高分子光产酸剂也可用于制备新型的高性能193-nm光刻胶。 这些248-nm光刻胶的主要组分除了溶剂外都是自行制备，原料易得，反应条件温和可控，去金属杂质的方法也是简便易行，成本相对低廉，在经过多年的深入研究之后，完全具备了产业化的条件。 半导体加工的关键设备、材料主要掌握在美、日手中，对我国电子工业的平稳发展带来困难和潜在的巨大威胁。其中光刻胶作为芯片光刻加工的关键材料，日本公司的产品占据全球市场的70%以上，而我国在中高端产品上（248-nm光刻胶、193-nm光刻胶）完全依赖进口，即便是低端的i-线光刻胶国产化率也只有20%左右。因此，我们必须尽快扭转这种不利的局面，这需要科研工作者和产业界共同努力以及政府的大力支持。     近年来光刻胶引起了社会的广泛关注，已有多家企业开始投身于248-nm光刻胶与193-nm光刻胶的研发与产业化，但绝大部分仍处于研发阶段。我们研制的光刻胶具备了产业化的技术条件并具有与国外先进光刻胶产品竞争的产品性能。    半导体加工用光刻胶种类较多，本课题组从2002年参与国家十五“863”光刻胶重大专项开始，至今近二十年来聚焦于光刻胶研究，在i-线胶、248-nm光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、厚膜光刻胶及抗反射涂层材料等方面都取得了很好的结果，也在致力于这些光刻胶产品的产业化。 相关项目、专利及文章： 1.国家重大科技专项（02专项）子课题,课题编号:2010ZX02303（深紫外光刻胶专用光致产酸剂及新型成膜树脂的扩试技术研究） 2.国家自然科学基金应急管理项目，51641301, 含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其组成的化学增幅光致抗蚀剂研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用，中国发明专利，专利号：9。

"本项目研发的新型量子吸蓝光材料，用于防蓝光眼镜，防蓝光护眼贴膜等产品。可用于防护液晶（LCD）和有机电致发光（OLED）手机，电脑显示器等电子产品显示器屏幕发出的高能蓝光，实现健康护眼的目的。 该种新型量子吸蓝光材料具有超强的光波过滤功能，比市面现有主流吸蓝光材料效果高10－100倍，处于世界领先水平。在技术层面优于市场上现有产品。依托于先进的新型量子技术制备防蓝光护眼镜片和护眼贴膜，可高效吸收蓝光，从根本上解决电子产品蓝光伤害这一社会痛点问题。 本项目量子防蓝光眼镜和贴膜产品的生产有两条技术路线，主要步骤如下： 1、无机吸蓝光材料分散在聚合物基材（如聚碳酸酯,聚丙烯酸酯）中直接成型； 2、无机吸蓝光材料分散在紫外光固化胶水中，采用涂布技术制作镜片或者可贴合膜片。"

目前半导体光刻加工用的深紫外光刻胶都采用化学增幅体系，这种体系主要由含酸敏基团的成膜材料和光产酸剂组成，这种体系最大的问题是光产酸在后烘阶段会发生酸迁移，导致光刻分辨率难以提高。能够有效改善酸迁移问题的一种方法是采用高分子光产酸剂，且其光产酸是高分子强酸。 课题组研制了一系列新颖的含多种鎓盐光产酸基团的苯乙烯衍生物及其与甲基丙烯酸酯的共聚物。它们在曝光过程中产生大分子的磺酸，因此可作为大分子光产酸剂与其它成膜材料一起组成化学增幅型光致抗蚀剂。 以之为产酸剂与其它部分保护的对羟基苯乙烯聚合物一起组成二组分的化学增幅型248-nm光刻胶， 制备了苯乙烯磺酸鎓盐和甲基丙烯酸酯、对羟基苯乙烯的三元共聚物，再用可酸分解的叔丁基碳酸酯保护部分酚羟基，由其组成了单组分的化学增幅型248-nm光刻胶，这些正型248-nm光刻胶获得了高感度（20-50mJ/cm2）、高分辨率(0.15-0.20微米)和留膜率（＞99%）及图形线条平滑陡直等的出色表现。   利用高分子产酸剂透明性好的特点，还制备了厚膜248-nm光刻胶，可获得线宽0.34微米、高-宽比可达5：1的光刻图形：   在此基础上，还制备了负型248-nm光刻胶，这些光刻胶也都获得了很好的光刻成像性能表现。这些高分子光产酸剂也可用于制备新型的高性能193-nm光刻胶。 这些248-nm光刻胶的主要组分除了溶剂外都是自行制备，原料易得，反应条件温和可控，去金属杂质的方法也是简便易行，成本相对低廉，在经过多年的深入研究之后，完全具备了产业化的条件。 半导体加工的关键设备、材料主要掌握在美、日手中，对我国电子工业的平稳发展带来困难和潜在的巨大威胁。其中光刻胶作为芯片光刻加工的关键材料，日本公司的产品占据全球市场的70%以上，而我国在中高端产品上（248-nm光刻胶、193-nm光刻胶）完全依赖进口，即便是低端的i-线光刻胶国产化率也只有20%左右。因此，我们必须尽快扭转这种不利的局面，这需要科研工作者和产业界共同努力以及政府的大力支持。     近年来光刻胶引起了社会的广泛关注，已有多家企业开始投身于248-nm光刻胶与193-nm光刻胶的研发与产业化，但绝大部分仍处于研发阶段。我们研制的光刻胶具备了产业化的技术条件并具有与国外先进光刻胶产品竞争的产品性能。    半导体加工用光刻胶种类较多，本课题组从2002年参与国家十五“863”光刻胶重大专项开始，至今近二十年来聚焦于光刻胶研究，在i-线胶、248-nm光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、厚膜光刻胶及抗反射涂层材料等方面都取得了很好的结果，也在致力于这些光刻胶产品的产业化。 相关项目、专利及文章： 1.国家重大科技专项（02专项）子课题,课题编号:2010ZX02303（深紫外光刻胶专用光致产酸剂及新型成膜树脂的扩试技术研究） 2.国家自然科学基金应急管理项目，51641301, 含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物及其组成的化学增幅光致抗蚀剂研究,2016/01-2016/12 3.One-component chemically amplified resist composed of polymeric sulfonium salt PAGs for high resolution patterning，European Polymer Journal，114（2019），11-18 4.A new type of sulfonium salt copolymers generating polymeric photoacid: Preparation, properties and application，Reactive and Functional Polymers，130（2018），118-125 5.含光产酸基团的苯乙烯衍生物-甲基丙烯酸酯共聚物、其制备及其应用，中国发明专利，专利号：9。

随着机器学习与人工智能的发展，传统的CPU已经无法满足大规模神经网络训练的需要。在当前机器学习与神经网络的热潮下，美国互联网和IC巨头纷纷推出自己的神经网络/人工智能芯片，抢占这一未来市场。我们研发的神经网络/人工智能芯片可以验证多种深度学习算法及应用，具有完全自主知识产权，是将来可以挑战美国人工智能芯片领域的一个重要突破。