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微弧离子镀设备研制及镀膜工艺开发
微弧离子镀（Micro-arc Ion Plating，MAIP）技术有机融合了多弧离子镀和磁控溅射离子镀的优点，主要面向于精密制造领域的高端薄膜制备。微弧离子镀工艺因具有离化率高、绕镀性好、均匀性好、基片温升低等特点，是各种精密制品理想的表面改性工艺；以此技术开发的纳米氮化物系列超高硬度镀层、碳基非晶自润滑镀层、硫化钼基低摩擦系数镀层等在机械行业得到了广泛的应用。
南京工业大学
2021-04-13
微弧离子镀设备研制及镀膜工艺开发
微弧离子镀（Micro-arc Ion Plating，MAIP）技术有机融合了多弧离子镀和磁控溅射离子镀的优点，主要面向于精密制造领域的高端薄膜制备。微弧离子镀工艺因具有离化率高、绕镀性好、均匀性好、基片温升低等特点，是各种精密制品理想的表面改性工艺；以此技术开发的纳米氮化物系列超高硬度镀层、碳基非晶自润滑镀层、硫化钼基低摩擦系数镀层等在机械行业得到了广泛的应用。
南京工业大学
2021-01-12
菠萝、苹果等果酒工艺开发
一、成果简介 果酒是以葡萄、菠萝、苹果、石榴、樱桃等我国常见的主要水果为原料，采用生物发酵工程技术生产的含酒精饮料。 果酒因其较全面保留了水果中的营养成分和特殊风味，酒精度低、产品色泽鲜艳、口味纯正、技术附加值高，同时，又是国家产业政策鼓励发展的重点食品加工产业，近年来逐渐被列为水果种植产业的延伸重点和农 业产业化结构调整的方向。
中国农业大学
2021-04-14
真空镀膜（PVD 技术）
真空涂层技术起步时间不长，国际上在上世纪六十年代才出现将 CVD（化学气相沉积）技术应用于硬质合金刀具上。由于该技术需在高温下进行（工艺温度 高于 1000ºC），涂层种类单一，局限性很大，起初并未得到推广。到了上世纪七十年代末，开始出现 PVD（物理气相沉积）技术，之后在短短的二、三十年间 PVD 涂层技术得到迅猛发展，究其原因： （1）其在真空密封的腔体内成膜，几乎无任何环境污染问题，有利于环保； （2）其能得到光亮、华贵的表面，在颜色上，成熟的有七彩色、银色、透明色、金黄色、黑色、以及由金黄色到黑色之间的任何一种颜色，能够满足装饰性的各种需要； （3）可以轻松得到其他方法难以获得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂层、复合涂层，应用在工装、模具上面，可以使寿命成倍提高，较好地实现了低成本、高收益的效果； （4）此外，PVD 涂层技术具有低温、高能两个特点，几乎可以在任何基材上成膜，因此，应用范围十分广阔，其发展神速也就不足为奇。真空涂层技术发展到了今天还出现了 PCVD（物理化学气相沉积）、MT-CVD（中温化学气相沉积）等新技术，各种涂层设备、各种涂层工艺层出不穷。
西安交通大学
2021-04-10
真空镀膜技术
真空镀膜技术广泛用于航空、航天、工业、农业等各行各业，本单位长期从事镀膜技术的研究和开发，先后研制出两台镀膜机，达到国内领先水平，同时开展真空技术及器件、蒸铝技术、滤光片技术、各种保护膜的研究和开发，有多名长期从事相关技术研究的教授和专家，理论基础扎实及实践能力强。
西安交通大学
2021-01-12
汽车线束工艺开发系统软件
成果简介：汽车线束是汽车电路、电信号控制的载体，素 有汽车神经之称。每辆汽车中平均需要 65 套线束，市场需求量 超过 10000 万套。汽车线束企业虽已普遍采用 CAD 软件，但工 艺流程仍是人工设计，迫切需要一种有效的工艺设计与信息管 理系统，提高工艺设计效率和质量。 主要功能包括：辅助线束工艺设计人员完成标准模板图和 排线图的绘制，内联工艺卡和预装工艺卡的设计，自动生成下
合肥工业大学
2021-04-14
高效造纸工艺流程泵开发
项目简介 创新提出基于纤维悬浮流理论的纸浆泵设计方法，开发了高效纸浆泵 CAD 水力设计 系统，设计开发的开式、半开式高效叶轮完全满足了造纸工艺流程对高效及抗堵塞的要 求，其市场前景广阔。 本产品融合了结构创新及自主知识产权的设计软件技术，技术含量和产品附加值高。 开发的高效造纸工艺流程泵产品，耐磨耐蚀、节能高效、抗堵塞，成果技术属国内领先， 节能效果显著。170 该产品经机械工业排灌机械产品质量检测中心检测，泵效高于现行标准的规定值的 3～5%，达到国外同类型产品。拥有全部的自主知识
江苏大学
2021-04-14
印刷新技术、新工艺的开发
印刷是一种除了水和空气不能作为其应用对象之外，几乎在任何载体上都可以通过印刷技术来实现材料转移的技术。除了应用在传统出版行业的书刊、报纸等纸质承印物上之外，目前在塑料、织物、技术、陶瓷、玻璃等等几乎所有材料上都有了应用。由于印刷工艺的系统性、个性化以及应用性，因此需要针对特定的对象进行新技术、新工艺的开发和优化。本团队在印刷新技术、新工艺的开发应用中也具备丰富的实践经验，可以为企业转型、产品升级换代、新领域开拓等方面提供技术支持。
上海理工大学
2021-01-12
维意真空小型桌面磁控溅射镀膜机支持定制
MS-246小型多靶磁控溅射镀膜机
真空腔室：1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，上开盖和前开门结构；真空系统：机械泵+分子泵（进口和国产可选）；极限真空：优于8✕10-5Pa（设备空载抽真空24h）；真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min；升降基片台：尺寸直径100mm，高度60～120mm可调，旋转0～20r/min可调，可加热至300℃（可选水冷功能），可选配偏压清洗功能；磁控靶：直径2英寸2只（可升级成3只），兼容直流和射频，可以溅射磁性材料的靶材；溅射电源：直流脉冲溅射电源、全自动匹配的射频溅射电源可任选；质量流量计：10sccm、50sccm质量流量控制器各1套；膜厚监控仪：可选配国产或进口单水冷探头膜厚仪；控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空；整机尺寸：L60cm✕W60cm✕H96cm机电一体化机架，预留1个CF35法兰接口。
北京维意真空技术应用有限责任公司
2025-04-25
维意真空小型桌面热蒸发镀膜机支持定制
EV-246小型电阻蒸发镀膜机真空腔室：1Cr18Ni9Ti优质不锈钢材质，氩弧焊接，上开盖和前开门结构；真空系统：机械泵+分子泵（进口和国产可选）；极限真空：优于8✕10-5Pa（设备空载抽真空24h）；真空抽速：大气～8✕10-4Pa≤30min；基片台：可拆卸式，尺寸60✕60mm，旋转0～20r/min可调，可加热至300℃（可选水冷功能）；蒸发源及电源：水冷铜电极3组，逆变式蒸发电源，功率2KW，配源间防污隔板；膜厚监控仪：采用国产或进口膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚；控制方式：PLC+触摸屏控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障，实现一键抽停真空；整机尺寸：L60cm✕W60cm✕H96cm机电一体化机架，预留1个CF35法兰接口。
北京维意真空技术应用有限责任公司
2025-04-25