产品详细介绍产品特点：Ø 先进的镀膜技术，观察时具有极好的亮度和衬度Ø 视场宽广，景深大，成像清晰，立体感强。Ø 1：6.5变倍范围令成像质量更佳。Ø 45度倾斜的观察头可作360度旋转使操作更舒适。Ø 手轮调焦工作范围50mm(方立柱时为100mm)，瞳距调节52-76mm。Ø 可供附加大物镜0.37X、0.5X、0.7X、1.5X和2.0X产品用途XTL-20体视显微镜具有较大的变倍比，从低倍到高倍连续变倍全程清晰无闪动，大景深，长工作距离；配件齐全，可配各种底座和万能支架；适用于电子工业生产线的检验、印刷线路板的检定、印刷电路组件中出现的焊接缺陷(印刷错位、塌边等)的检定、单板PC的检定、真空荧光显示屏 VFD的检定等等，配测量软件可以测量各种数据。产品规格规格参数 XTL-20光学系统 斜路光学系统 ●光学部件 目镜头 双目水平倾斜45°±6屈光度 ● 三目水平倾斜45°±6屈光度 　 双目瞳距调节 ： 52--76mm  ● 目镜 倍数 视场 ● 10× Φ23 物镜 连续变倍 工作距离 1~6.5× 118mm 放大倍数 10×~65×(可升级至390×) 底座支架 手轮调焦 50mm  升降调节 250mm  圆形载物台 中心工作台直径：φ95mm 光源 外置荧光灯 12V/8W 可升级配件 目镜 10×(带刻度) ○ 15×/20×/30× ○ 附加物镜 0.37×/0.5×/0.7×/1.5×/2× ○ CCD适配镜 1×/0.5×/0.3× ○ 底座支架 各种规格底座支架选择 ○ 移动平台 X-Y移动平台 ○ 光源 LED环形灯 ○ 单/双光纤冷光源 ○ 应用软件 二维测量软件 ○ 数码成像系统 CCD适配镜 ○ 300万像素数字摄像器 注解：●为标配、○为可升级配件 仪器成套性仪器成套性⑴仪器主机1台 ⑷目镜2个 ⑺眼罩2个 ⑽滤色片0片 ⒀ 仪器防尘罩1个⑵目镜筒1组 ⑸分划目镜0个 ⑻载物片1个 ⑾外置光源1套 ⒁随机文件档案1套⑶物镜头1个 ⑹测微尺0片 ⑼工件压簧片1组 ⑿备用灯泡1只 　数码应用方案配置XTL-20C电脑摄像系统 XTL-20D数码相机摄像⑴ XTL-20三目连续变倍体视显微镜 ⑴ XTL-20三目连续变倍体视显微镜⑵ 高质量CCD适配镜 ⑵ 专业数码相机延迟镜⑶ PUDA 300万USB型进口芯片显微镜摄像机(采用美国APTINA高性能芯片组/ USB2.0 高速通讯，高分辨率、完美的色彩还原处理/ Ultra-Fine专利色彩渲染技术) ⑶ 1000万像素数码像机(推荐Nikon/Sony)⑷ ToupView专业的图像软件 　 　

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银河麒麟高性能计算系统是在“银河”/“天河”系列超级计算机研究成果的基础上开发的适合中小规模应用需求的高性能计算系统。系统采用了自主研发的银河麒麟操作系统和银河麒麟高性能计算（HPC）套件，支持InfiniBand、万兆高速计算网络，支持国内外主流的高性能服务器、刀片服务器、海量存储、高速网络交换等硬件设备，提供资源管理、HPC集群管理、并行编译、并行计算等功能，主要面向密码算法、卫星遥感、气象预报、生物医药、资源勘测、图像处理等领域，满足科学计算和海量数据处理。 产品特点 安全性 基于国内高安全等级的银河麒麟国产操作系统，整体达到结构化保护级安全级别，同时支持国产飞腾CPU。 易用性 提供基于WEB的图形管理接口，便于管理员进行资源管理、作业提交、监控管理、集群部署等操作。 自主安全 银河麒麟HPC套件包括并行编译、集群管理软件，具有自主知识产权及良好的安全创新性。 高速互联 采用高带宽的并行多路串行传输技术，实现高密度、高可靠的互连子系统。 扩展性 全系统采用模块设计，各模块可以根据不同计算需求进行灵活扩展。

本发明公开了一种高性能光谱选择性吸波元件及太阳能热光伏系统，包括金属基底、低折射率介质第一薄膜、高折射率半导体纳米方块阵列、低折射率介质第二薄膜和低折射率介质第三薄膜；低折射率介质第一薄膜均匀覆盖在金属基底上，其上构建棋盘状周期排列的高折射率半导体纳米方块阵列，在高折射率半导体纳米方块阵列之间填充低折射率介质第二薄膜，在其顶部覆盖低折射率介质第三薄膜。本发明通过对金属表面介质薄膜的结构设计，获得良好的光谱选择性；通过选择不同的金属、半导体、介质材料，和（或）改变结构参数，实现灵活的截止波长调控及光谱选择性；本发明同样适用于耐高温的金属、半导体、介质材料，可在太阳能热光伏系统中得到广泛应用。

成果介绍传统解决方案光源、光谱仪、共焦光路等各自独立，体积大、装配繁琐；All-in-one 高集成一体化光谱共聚焦传感器方案;光源光路、共聚焦光路和光谱分析光路一体化集成；控制电路、信号处理分析电路一体化集成；测量结果显示输出一体化集成；高可靠、高精度、低装配要求、低空间占用；紧凑型光路及关键配件（如物镜等）自主设计方案；三维扫描系统及配套面型重构算法、特征提取算法；后期将开发更先进的线光源激发共聚焦测量系统。技术创新点及参数非接触测量，完美避免工件表面划伤；广泛适用于各种材料表面测量（不透明/透明/半透明、液体等）；待测工件颜色不敏感；极高的位置变化测量精度以及高的表面扫描分辨率；点成像方式，不存在通常3D扫描仪的遮挡效应；可实现大表面倾角处的位置测量；可实现多层工件（透明/半透明）各界面处的形貌扫描；无激光光源安全问题。

拥有人工微结构科学与技术协同创新中心、固体微结构物理国家重点实验室、半导体节能器件及材料国家地方联合工程中心以及江苏省光电信息功能材料重点实验室等科研平台，在硅基纳米结构材料与性能调控，硅基光子学器件和新型能源器件等基础研究领域具有很强的影响力。近年来，在硅基太阳能电池片研发及其新型结构材料在电池片上应用等方面开展了全方位的研究，承担完成了国家重点基础研究发展计划课题和国家自然科学基金重点项目等相关课题的研究。提出了渐变带隙的纳米硅量子点电池结构，利用渐变带隙进一步拓宽电池的响应光谱范围，发展了包

一种空间分辨激光诱导击穿光谱分析系统，包括脉冲激光器，激光束变换聚焦光学系统，位移台，激光诱导等离子体信号采集装置，光谱仪，计算机；激光诱导等离子体信号采集装置包括夹持器和光纤探针，夹持器的弧形导轨上至少有一个滑块，滑块可在弧形导轨上滑动，滑块中央的孔中有可沿弧形导轨径向移动的套筒；光纤探针固定在套筒的圆孔中。

本发明公开了一种用于太赫兹时域光谱系统的油画颜料样品的制备方法，包括将油画颜料铺展于载体之上并静置，涂抹厚度为1mm～3mm；将静置后的油画颜料研磨，并压制成型，压强为 8Pa～11Pa，时间为 4min～7min，制得形状规则、厚度均匀的油画颜料。本发明通过将油画颜料铺展与载体之上并使其静置，去除油画颜料中的油性成分和水分，通过将去除油性成分和水分的油画颜料研磨成粉，并压制呈厚度均匀、形状规则的油画颜料样品，在没有

本发明公开了一种基于激光诱导击穿光谱对水体元素定量分析的制样方法，包括步骤 S1 获取不含待测元素的金属衬底，并将其表面抛光，使得金属衬底的上、下表面平行；S2 对滤纸进行裁剪，使得裁剪后的滤纸面积小于金属衬底的表面面积；S3 将裁剪后的滤纸放置在抛光后的金属衬底表面上，并将待测液滴滴至金属衬底表面的滤纸上，·829·再对其进行加热处理；S4 待加热处理结束后，将滤纸去除，在金属衬底表面获得分布均匀、扩