研究方向：电膜分离过程在水质净化、纯化、废水深度处理和特种化 工分离中的应用；膜法清洁生产技术；新型集成膜过程的开发及应用 研究（纯水与超纯水制备、水深度软化、海水及苦咸水淡化、基于“膜 -电”耦合的有机酸、有机碱。 项目简介： 本项目为针对高端住宅、机关集团、学校、医院、居民小区、集 中居住区等安全饮水而提供的成套中央净水技术与设备。整个系统采 用分质供水设计，能够提供净化水、软化水、直饮水和生活杂用水， 满足家庭、集团及社区的多种用水需求，最大程度利用水资源

激光制造、增材制造等高端制造技术，在精密加工、航空航天部件加工等众多领域得到大量的应用，可以完成传统加工系统不能完成的大量加工工艺。因为制造工艺复杂，应用涉及众多重要领域，并且所涉及的三维图形处理和控制等核心技术一直掌握在国外厂商手里，因此外国一直将这些高端制造技术对中国进行严格的出口管控，相关技术和系统也成为了中国急需突破的卡脖子工程。其中，三维图形处理系统是高端制造系统中极为核心的功能系统，相关技术也被国外所严格管控，国内有众多技术空白需要突破。 针对该现状，我们对相关核心技术进行了多年的研究，投入了大量的人力物力进行了系统研发，在关键技术上形成了突破，并研制出了可用于替代国外产品的核心系统。也因为我们所形成的技术积累，我们承担了第一批国家重点研发计划项目“航空航天典型部件激光制造”中的三维图形处理系统的研究任务，并在实际应用场景中对我们的技术和系统进行了有效验证。 主要技术指标 （1）可以解析众多主流三维图形文件，读写其中的各种三维模型数据。 （2）可以分析三维对象的拓扑缺陷。 （3）可以多种方式在三维加工对象表面布局复杂加工图案。 （4）可以按照加工工艺参数，完成加工区域划分、图案分割和图元空间投影等复杂的功能。 （5）可完成工件装夹定标、加工区域边界输出、加工路径优化等丰富的功能。 （6）输出可加工的区域图案文件，供 5 轴联动数控中心执行加工操作。 （7）直观的图形操作功能。

产品详细介绍 ■海源新型壁挂台式实验室高端超纯水机(超薄型)（纯水/超纯水一体机）    ※综述:     采用国际流行反渗透膜现代制水工艺，结合先进全自动PLC控制主板和进口名牌电器元件， 具有制水快，耗电少（功率80w），耗水少特点，是现代实验室制水环保低碳设备。海源实 验室高端超纯水机“好用方便价格实惠"     ※特点：     双出水口,纯水/超纯水一体，一机两用。               透明式预处理器,方便滤芯使用寿命监测。               模块式结构，更换耗材方便，无需专业人士， 几分钟可更换好纯化柱               一体化结构，美观大方,体积小。               专用单双水质仪表在线显示,出水水质一目了然。      ※功能：     薄膜式轻触按键PLC全自动控制。                      内置定时冲洗程序   水质在线检测。                缺水保护,高压保护,断电保护智能化显示。               设置人体功能学操作模式开机自检功能。  ※选配功能:   可选加纯水储水桶，水满自动关机，无需人看管。                可选加零进水压功能。     ※技术参数及规格型号 ：      型号 常规型    基础型     分析型 元素型 超低有机含量型 HYBO- HYBA- HYBB- HYBC- HYBD- 10,15,20 进 水 源 一般城市自来水：水压1.0-5.0kg/cm2，水温5-40℃,TDS<450 出水水质 （详见产水技术参数表） 单出水口 RO3： 电导率≤5.0μS/cm 双出水口 RO3： 电导率≤5.0μS/cm UP1： 比电阻>2MΩ.cm 双出水口 RO3： 电导率≤5.0μS/cm UP1： 比电阻：10-16MΩ.cm 双出水口 RO3： 电导率≤5.0μS/cm UP1： 比电阻：18.2MΩ.cm 双出水口 RO3： 电导率≤5.0μS/cm UP1：TOC：1-3PPb 比电阻：18.2MΩ.cm 产水量 10,15,20升/小时,瞬间取水速度1.5L/min 主机尺寸 480（高）×460（宽）×200（厚）mm 电功率 电源220V/50Hz，电功率80W 用途 去离子进水源，常规分析用水 实验用具清洗用水 学生实验用水 常规分析用水 实验用具清洗用水HPLC,原子吸收/发射光谱 GC/GC—MS 毒性检测 高纯标准溶液配制 缓冲溶液配制 血液检测 生化检测 实验用具清洗用水离子色谱痕量金属分析原子吸收/发射光谱质谱分析定量分析 气相色谱 HPLC 高纯标准溶液配制 ICP感应耦合等离子光谱  痕量硼分析    实验用具清洗用水 总有机碳（TOC）分析   有机物分析 毛细管电泳    微电子部件的冲洗 毒理学研究    环保实验分析  

本研究根据科技部统一部署，依据国家山东半岛蓝色经济区战略规划、黄 河三角洲高效生态经济区发展规划，针对山东省高端装备制造产业转型发展需 求，重点突破服务型制造关键技术和产业急需的共性关键技术；积极拓展“两 化”融合的发展空间，围绕制造业转型升级，推进制造业信息化从单业务应用 向多业务综合集成转变，从企业信息应用向业务流程优化再造转变，从单一企 业应用向产业链上下游协同应用转变。 主要研究内容包括研发覆盖重点产业的云制造服务平台，服务 500 家企业； 面向区域内大型骨干企业，攻克产品数字化设计、集团精细化管控、产业链协 同等关键技术，研发相应的信息化系统平台，完成 3 家企业应用示范，拉动 30 家企业深化应用；开展智能嵌入式、工业泛在网、传感网和智能控制等技术攻 关，并在 3 家高端装备制造企业中集成应用，拉动 20 家企业深化应用；开展自 主知识产权核心软件与制造物联关键技术成果的应用，新增 10 家以上应用企业； 开展标准、评估、培训等支撑环境建设，开展信息化指数调查（企业 100 家以 上），完成人才培训 5 万人次以上。 本项目获得国家科技支撑计划资助，项目执行期 2012.1-2015.12。

1 成果简介基于网络及数字媒体平台的高端信息服务关键技术和产业化——通过网络及数字媒体服务平台（如数字电视，有线宽带，电信 e 家平台等），设计后端高端信息服务体系架构，从而最大化的利用多媒体数字服务平台构建高端信息服务网络生态系统平台并产业化。 项目有利于改变目前网络数字媒体和计算机软件的“ 生态链”，渠道提供者与服务提供者会占据更为重要的位置， 这也符合我们的实际国情。同时，提升深港和大珠三角地区网络数字媒体平台，高端信息服务，系统集成商及数字媒体工业的能力，在数字媒体网络接入平台的融合潮流中发展创新性的技术和把握市场机会，快捷有效地开发新的先进技术，拓展新商机，将广东省及产业示范基地的信息内容服务和增值服务产业做大、做强。2 应用范围广东省和大珠三角地区的信息产业，系统集成商，高端信息服务商，与数字媒体网络行业相关的企业如消费电子产品，通讯产品，数字电视和计算机产品等的数字媒体设计公司，均可受惠。3 效益分析产业化后预期产值超过 1 亿元人民币。

1 成果简介基于网络及数字媒体平台的高端信息服务关键技术和产业化——通过网络及数字媒体服务平台（如数字电视，有线宽带，电信 e 家平台等），设计后端高端信息服务体系架构，从而最大化的利用多媒体数字服务平台构建高端信息服务网络生态系统平台并产业化。 项目有利于改变目前网络数字媒体和计算机软件的“ 生态链”，渠道提供者与服务提供者会占据更为重要的位置， 这也符合我们的实际国情。同时，提升深港和大珠三角地区网络数字媒体平台，高端信息服务，系统集成商及数字媒体工业的能力，在数字媒体网络接入平台的融合潮流中发展创新性的技术和把握市场机会，快捷有效地开发新的先进技术，拓展新商机，将广东省及产业示范基地的信息内容服务和增值服务产业做大、做强。2 应用范围广东省和大珠三角地区的信息产业，系统集成商，高端信息服务商，与数字媒体网络行业相关的企业如消费电子产品，通讯产品，数字电视和计算机产品等的数字媒体设计公司，均可受惠。3 效益分析产业化后预期产值超过 1 亿元人民币。

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光掩膜版(又称光罩，掩膜版，英文 Photo-mask )是芯片制作中实现设计图形转移的载体，是决定其微细结构和线宽精度的核心材料和工具。 目前中国半导体掩膜版的国产化率10%左右，90%需要进口，高端掩膜版国产化率3%，miniLED和microLED产业升级也需要更多高端掩膜版。随着中国市场需求的持续提升，掩膜版产能严重不足。并且中国半导体掩膜版的产业起步较晚，技术滞后，核心技术和装备基本让国外公司垄断，特别是在设备、材料领域众多技术处于“卡脖子”状态，例如掩膜版制造的核心装备光刻机、检测机、测量机、修复机和贴膜机等都依赖进口，严重制约中国半导体产业的发展。华中科技大学徐智谋教授团队致力于全套高端半导体光掩膜版的关键核心技术研发与量产，为“卡脖子”技术研究而努力。 具有建立180 nm技术节点半导体掩膜版量产线相关核心技术；具备130 nm至28 nm半导体掩膜版研发、设计及验证能力。主要研究成果如下： 1） 工艺突破 团队掌握了掩膜版MEMS微纳加工量产核心技术，如电子束光刻、激光光刻和纳米压印光刻等MEMS微纳加工工艺的各类技术参数的搭配和优化，以及大数据量软件快速处理、补偿等。 2） 装备国产化 A. 超高精度二维测量装备 尺寸测量是验证掩膜版技术指标的核心，主要包括关键尺寸测量(CD)和长尺寸测量(TP)。团队已掌握掩膜版的关键测量技术，达到国内先进水平，具有整套设备的整机制造能力。 TP测量是掩膜版制作的核心指标，直接影响到客户的套合精度，该测量设备一直由国外极少数厂商垄断，且价格昂贵，一般在1000万美元以上，高端限制对中国出口。团队目前正在攻克该项技术，已取得阶段性成果。 B. 缺陷修复装备 掩膜版修补技术是提升良品率的关键手段，该技术一直为国外垄断。团队已熟练掌握UV、DUV激光化学沉积技术及皮秒飞秒激光金属处理技术，具备整机制造能力，可降低设备采购成本70%以上。 C. Pellicle自动贴膜装备 随着产品精度的提升和应用领域的高端化，掩膜版贴膜是个不可缺少的重要环节。在IC制造领域100%掩膜版需贴Pellicle，在IC封装领域90%以上需贴膜，在LED领域80%以上需贴膜。该贴膜设备一直国外公司垄断，国内厂家没有提供，国外采购全自动贴膜设备需100万美元左右。团队具备研发制造该设备的能力，贴膜精度±0.1mm,且有设备正式在产线运营，制造成本可节约90%以上。 3） 厂房建设关键技术 团队对MEMS及其掩膜工厂工艺设备厂务设计有丰富经验，掌握高等级防微震厂房结构和设备平台的设计施工，可达到VC-D级技术标准，满足纳米级生产技术要求。 【技术优势】 （1）掌握了高性价比掩膜版量产的关键核心技术，包括部分装备的国产化，解决“卡脖子”技术难题，量产线建设成本节约30%以上； （2）具备28 nm及以下技术节点掩膜版设计开发能力和验证平台，验证周期可缩短3倍； （3）拥有一支20多年以上掩膜版量产、研发和销售经验的队伍，成熟的企业管理经验，保证企业稳步成长，确保投资风险可控。 【合作方式】 股权投资合作共建或政府孵化+中试线。