海洋生物污染给海洋船舶运输带来诸多危害，现有海洋船舶防污涂料功能单一，而且自抛光涂料严重污染海洋生态环境、危及人类健康。研制环境友好型低表面能自抛光双重防污功能涂料用树脂关系到国家利益也牵涉到民生，具有重要意义。本项目以杂化聚合为方法支撑，制备了环境友好型自抛光防污涂料用树脂。主要解决的关键技术与创新点有： （1）“自抛光”和“防污”的实现 如何将自抛光和防污性能结合，是海洋防污涂料用树脂研究的热点。本项目中的自抛光主要是基于聚酯的可降解性实现的，而防污效果主要是基于

Biosafer高纯水机以自来水为水源，生产RO纯水和I/II级水的一体化系统。每小时产水量10-40升，电阻率16-18.25MΩ.cm，满足大部分生化、化学类实验室要求的常用纯水设备，目前在国内外实验室的使用相当普及，它取代传统蒸馏法、离子交换法等制水方式，具有使用方便、能耗低、制水水质高等优点。广泛应用于化学分析、生化实验，定性分析等领域。以及玻璃器皿清洗、微生物分析、样品稀释和试剂制备、生产工艺用水，普通化学、水分析及通用HPLC、分光光谱测量、高压蒸汽灭菌器、清洗机、盐雾试验箱、老化仪等仪器用水。　可与雅培、拜耳、德灵、贝克曼、罗氏、奥林巴斯、日立等进口、国产品牌全／半自动生化分析仪配套。 技术参数    型 号 Biosafer-T 产水量（L/H) 台式 10/15/20/30/40 落地式 40-150 取水流速 1-2L/min 源水 市政自来水，TDS<200ppm,源水压力：1.0～5.0kg/cm2 、 源水温度：5～450C,(进水TDS>200ppm,选配软化器) 产水 指标                     电阻率：16-18.25Ω·cm@250C，吸光度(254nm,1cm)≤0.001 水质分别优于国家实验室GB6682-2008规格Ⅲ、Ⅰ级水标准，美国ASTM、NCCLS、CAP标准 TOC <20ppb 微生物 <1cfu/ml 离子截留率 96%~99% 电源 220V 50HZ  30~80W 外形尺寸(mm) 机箱（宽*深*高）370*470*500mm/557*667*1055mm

公差帮APP是世界上第一款为设计、制造、检测工程师提供精度设计信息交换和知识共享的人端云协同平台。APP用户量世界第一，下载量20万+；企业用户1000+（覆盖80%车企），获得国家标委会TC240和国际标委会ISO TC213推荐，入选工信部2020工业APP优秀解决方案。 本产品是一个典型的产学研国际化合作成果： 教育部“春晖杯”优胜奖：创意产生； 山东省新旧动能转换： 基金支持； 浙江大学山东工研院：孵化企业。 公差帮APP得到了本领域国际和国内顶级专家的认可。在此基础上共同成立了智能公差国际研究中心（CCAT），中心主任是ISO TC213主席Iain教授，现有中、英、法四大研究中心。 四大中心将致力于从人端云协同，推动面向工业4.0的智能化精度设计。通过APP实现AI辅助的工程师赋能式教育；通过APP快速标准化工业产品几何量信息；通过智慧云实现精度知识的沉淀、复用和重构。为工业互联网提供几何量信息的标准化接口。 想要了解更多信息，欢迎下载试用！

技术实力与产品优势 高精密清洗技术‌：其超声波清洗机采用数字化电路设计，频率控制精度达±1kHz，可清除0.01mm盲孔残留，清洁度达99.9%，适配医疗器械、汽车零部件等高精密领域 专利成果‌：2025年3月取得“截止阀专用清洗生产线”专利（CN222607428U），通过机械手与自动化生产线结合提升生产效率 核心配件‌：采用欧美日进口零配件，与ABB、SIEMENS等企业建立OEM合作，设备故障率低至0.5% 行业地位与认证 在2025年全国超声波清洗机品牌评选中位列高精密清洗领域榜首，综合得分48.5分，客户覆盖二汽、奇瑞等大型企业 通过ISO9001:2015质量管理体系认证，每台设备出厂前均经过3次全性能检测 拥有27项专利技术，其中“截止阀专用清洗生产线”采用机械手、清洗篮及自动化流水线设计，实现高效闭环清洗，劳动强度降低且生产效率提升 其螺栓专用清洗烘干线结合改进超声波技术与数字化电路控制，油污去除率达99%以上，关键部件采用欧美日进口配件，符合ISO9001:2015标准 行业地位 在2025年全国紧固件清洗设备品牌排名中位列第一，综合评分9.8/10，设备性能适配性、质量可靠性和售后响应速度均获行业认可

每年毕业季，教务管理人员都会面临大规模毕业生成绩单、毕业证书、学位证书、学籍卡归档材料等文件批量打印、盖章、整理归档的繁重工作，而且此项工作业务量大、时间紧迫、容错率低。 证书自动批量物理盖章机提供材料批量打印、盖章、归档功能，可按管理人员实际需求，实现批量文件生成、下载/打印、电子签章/实体盖章（支持钢印）等一系列服务需求的高效率自动化处理，减轻教务管理人员工作负担。同时，可与学校现用档案管理系统对接，实现批量接收可信电子文件，完成批量验真和智能归档，有效确保电子文件的真实性、完整性与长期可溯性，助力高校教务处理材料向智能化转型。

本发明公开了一种机床动态精度的获取方法，包括以下步骤： S1 利用三维建模软件建立机床三维实体模型；S2 利用 S1 中所述三维 实体模型分别建立有限元模型和动力学模型；S3 对 S2 中得到的有限 元模型和动力学模型进行优化，直到有限元模型和动力学模型的仿真 结果与实验测试一致；S4 将 S3 中有限元模型输入到 S3 中动力学模型 中，得到优化的动力学模型；S5 在 S4 中得到的优化的动力学模型中， 以实际的不同加工状态下的参数为输入，进行仿真，得到不同加工状 态下动态精度。利用该方法获取机床

本发明公开了一种金属表面等离子体与脉冲放电复合抛光加工 方法，该方法首先采用射频振荡产生等离子体磁流体通道，对待抛光 加工的金属表面凸起部位进行脉冲放电，产生的等离子弧经过磁流体 通道后，得到强度和密度增强的等离子弧，该增强等离子弧对金属表 面凸起部位进行轰击，使该部位形成阳极斑点后蒸发去除，并通过放 电极性的调节实现去除凸起的光亮化，实现该位置的抛光加工。本发 明方法解决了常规金属表面抛光方法的加工效率低、易产生加工应力 和表层损伤等问题。能够在大气压下进行，可实现粗抛、细抛和精抛， 不需要在金属抛光表面涂上任何研磨液和化学反应物，精密化抛光后 形成的表面粗糙度小，可达到 Ra0.2μm。

产品特点： 4.5寸LCD液晶显示屏,全自动微电脑控制系统，多级菜单式操作，操作简单，灵敏度高； 集成三路水质在线监控，实时在线监测源水、RO和UP三路水质，可定时、定质取水; 配备USB接口，支持历史告警记录和历史取水记录的数据导出功能； 系统具备密码设置保护功能，多级权限设定； 全自动RO膜防垢冲洗程序，手动、自动冲洗功能，可延长RO膜使用寿命，保持低细菌污染状态； 超纯水循环系统可自由启动、关闭，保持低细菌污染状态。 超大容量一体化两柱超纯化柱组模块。 采用德国贺利氏（Heraeus)185/254nm双波长紫外杀菌。 磨砂面卡接式强化预处理组件，维护更便捷； 采用低压24VDC为主电源供电，水电分离布局，符合安全规范，高强度工程塑料机箱，杜绝腐蚀生锈； 采用先进的电磁兼容设计，具有抗干扰能力强，噪音小等特点。   技术参数 产品名称 基础型 除热源型 超低有机物型 超强组合型 产品型号 Biosafer-TA Biosafer-TB Biosafer-TC Biosafer-TD 工作条件 源水城市市政自来水（TDS≥300时增配强化前处理单元）；温度5～45℃；源水压力：1-5Kg/cm²；电源：220V  50Hz；功率：30～80W 制水量 台式：5L/h、10L/h、15L/h、20L/h、30L/h、40L/h；落地式：40-150L/h 产水水质标准 水质符合中国国家实验室用水规格（GB6682-2008）Ⅲ、Ⅰ级标准，美国ASTM、NCCLS、CAP标准；吸光度（254nm，1cm）≤0.001； 纯水水质 电导率≤1μS/cm@25℃,电子截留率：96-99%，有机物截留率：＞99%，双级反渗透电导率≤1μS/cm@25℃，水质标准优于中国国家实验室用水（GB6682-2008）三级水标准 超纯水水质 电导率≤0.055μS/cm@25℃；电阻率18.25ΜΩ·cm@25℃，水质标准优于中国国家实验室用水（GB6682-2008）一级水标准 取水流速 RO纯水2L/min UP  超纯水：1.8L/min 热源 / ﹤0.001Eu/ml ﹤0.02Eu/ml ﹤0.001Eu/ml TOC ﹤10ppb ﹤5ppb ﹤3ppb ﹤3ppb 微生物 ﹤0.1cfu/ml 微颗粒 （大于0.2μm）含量﹤1/ml 应用领域 适用于标准级实验、高纯标准溶液配制、定量分析、血液检测、毒性检测、缓冲溶液配制、原子吸收/发射光谱、液相色谱、气象色谱等 适用于分子生物学及生命科学、动物细胞及植物细胞培养，组织培养，电泳凝胶分析，生物工程，培养基设备等 适用于痕量分析，高效液相色谱，离子色谱，气质相联，总有机碳(TOC)分析，有机物分析，毛细管电泳，微电子部件清洗，毒理学研究，环保实验分析等 适用于环境分析实验，物理学电化学及界面研究，各种高精度仪器分析，分子生物学及生命科学，试管婴儿，组织培养，动物及植物细胞培养，双向电泳实验，蛋白质纯化，氨基酸分析基因研究

桌面式PCB雕刻机 快速线路板刻板机 实验室PCB制板机 SUV3030 一、技术参数1.加工范围：单面板/双面板2.加工面积：300×300mm3.最小加工线径：4mil4.最小加工线距：6mil5.分辨率：0.04mil(1um)6.工作速度：2.4m/min7.主轴转速：0～60000r/min，无级可调速8.主轴功率：90W9.直线导轨：进口直线导轨10.传动方式：进口滚珠丝杆11.钻孔孔径：0.4～3.175MM12.钻孔深度：0.02-3mm13.钻孔速度：100(孔/min)14.控制方式：电脑控制15.通信方式：RS-232/USB16.操作系统：Windons 98/2000/XP/Vista/Win7/Win1017.防尘罩：标配金属防尘罩，安全防尘，三面透明可视化窗口，方便观察制板情况18.体积：660mm（L）×710mm（W）×500mm（H）19.重量：110kg20.消耗功率：300 W21.电源：220V/50HZ22.支持软件：支持Protel99se、Altium Designer、CAD等常用EDA软件（支持所有pcb及gerber格式的文件）23.选配：可选配立式底柜，方便移动，可存储耗材24.选配：可选配计算机二、产品亮点1.平面检测功能（选配）：先检测出覆铜板平整度，软件根据检测结果自动调整进刀量。2.自动对刀功能（选配）：先检测出覆铜板表面高度，更换刀具后，仪器自动调整进刀深度。3.自动原点定位：可以从任意位置自动回到设定的零点。4.定位销与不对称定位技术：保证了定位的精确性与正确性。5.断点续雕：从任意百分比开始雕刻，或雕刻到某一百分比结束。6.虚拟加工：根据设定的参数，虚拟显示实际加工过程。7.实时显示加工路径：加工前首先显示所有加工路径，在加工过程中实时显示当前位置。8.任意区域选择雕刻：选择任意区域，进行雕刻。9.组合雕刻/自动选择刀具：选择两把雕刻刀，自动分配雕刻区域。在不影响雕刻精度的情况下选择一把大雕刻刀，快速铣掉大块的空白区域。10.万能钻孔：使用固定铣刀挖出任意孔，减少了换钻头的次数。11.外形铣割：板子雕刻完成后进行外形铣割。12.智能主轴转速优化功能：根据刀具自动优化主轴转速，从而提高雕刻精度。 三、主要功能1.可在覆铜板上钻孔，雕刻线路，割边，铣平面2.可透铣、沿外形线进刀，使电路板与板材分离3.具有原点直接设置、复位功能4.利用软件虚拟加工，可预览加工路径5.实时显示加工路径、进度，方便控制6.多孔径钻孔一次完成，省却了频繁的换刀工序7.高转速主轴电机，转速达60000rpm8.智能化转速控制，可根据刀具自动优化主轴转速9.采用定位销定位，5个定位孔，定位更10.设备配套自主研发的PCB快速线路板刻制系统软件，能够实现脱机仿真虚拟加工、断点续雕、断电续雕、实时显示加工路径、任意区域选择雕刻、智能雕刻、刀具选择及换刀提醒等功能（该软件具有，确保设备及技术的性，同时软件一直在更新版本满足客户的多样需求）11.设备具有自我保护功能，XYZ双重限位保护，超限自停。12.钢板机身，金属安全防尘罩，透明可视窗13.选配底柜，让工作环境整洁便捷四、功能特点1.速度快，直接用EDA/CAD设计数据，像绘图一样便捷2.精度高，功能强，从单面板到双面板，从数字版到高频板3.无环保问题，桌面设备，适合实验室、教室等多种场所4.操作简单，不必懂PCB工艺，任何技术人员都可以使用5.配置灵活，多用途，适合高端开发即时制作样品，也适合教学或小批量制作

第三代半导体氮化镓和碳化硅因其禁带宽、稳定性好等优点，已广泛应用于电子和光电子等领域。各种氮化镓和碳化硅基器件是5G技术中的关键器件。将半导体晶片制成器件，其中的一个关键加工步骤是晶片表面的抛光。然而，氮化镓和碳化硅的化学性质极其惰性，半导体工业目前常用的化学机械抛光方法无法对其实现高效加工。对此，我们从原理上创新发展了一种光电化学机械抛光技术，不仅可快速加工各种化学惰性半导体晶片（如:加工氮化镓的材料去除速率可达1.2 μm/h，比目前的化学机械抛光的高约10倍），而且可加工出原子台阶结构的平滑表面。设备简单，技术具有完全的自主知识产权。